ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Scanning Electron Microscopy and X-Ray Microanalysis

دانلود کتاب میکروسکوپ الکترونی روبشی و میکروآنالیز اشعه ایکس

Scanning Electron Microscopy and X-Ray Microanalysis

مشخصات کتاب

Scanning Electron Microscopy and X-Ray Microanalysis

ویرایش: 4 
نویسندگان: , , , , ,   
سری:  
ISBN (شابک) : 149396674X, 9781493966745 
ناشر: Springer 
سال نشر: 2017 
تعداد صفحات: 554 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 68 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 50,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 13


در صورت تبدیل فایل کتاب Scanning Electron Microscopy and X-Ray Microanalysis به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب میکروسکوپ الکترونی روبشی و میکروآنالیز اشعه ایکس نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب میکروسکوپ الکترونی روبشی و میکروآنالیز اشعه ایکس


این نسخه چهارم به طور کامل اصلاح شده و به روز شده از متنی که زمان مورد توجه قرار گرفته است، مقدمه ای جامع در زمینه میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)، طیف سنجی پرتو ایکس پراکنده انرژی (EDS) برای میکروآنالیز عنصری، پراش پراکندگی پس از الکترون در اختیار خواننده قرار می دهد. تجزیه و تحلیل (EBSD) برای میکرو کریستالوگرافی، و پرتوهای یون متمرکز. دانشجویان و محققان دانشگاهی متن را منبعی معتبر و علمی می‌دانند، در حالی که اپراتورهای SEM و طیف وسیعی از پزشکان - مهندسان، تکنسین‌ها، دانشمندان فیزیکی و بیولوژیکی، پزشکان و مدیران فنی - متوجه می‌شوند که هر فصل برای برآورده شدن بازنگری شده است. نیازهای عملی تر تکنسین و متخصص کار. در گسست با گذشته، این نسخه چهارم بر اساس طراحی و عملکرد فیزیکی ابزار دقیق، از جمله منابع الکترونی، لنزها، آشکارسازها و غیره تاکید نمی‌کند. در SEM مدرن، بسیاری از پارامترهای ابزار سطح پایین اکنون کنترل می‌شوند و توسط نرم افزار میکروسکوپ بهینه شده و دسترسی کاربر محدود شده است. اگرچه سیستم کنترل نرم‌افزار میکروسکوپ و میکروآنالیز کارآمد و قابل تکرار را ارائه می‌کند، کاربر باید فضای پارامتری را که در آن انتخاب‌ها برای دستیابی به میکروسکوپ، ریزآنالیز و میکروکریستالوگرافی مؤثر و معنادار انجام می‌شود، درک کند. بنابراین، تاکید ویژه ای بر انرژی پرتو، جریان پرتو، ویژگی ها و کنترل های آشکارساز الکترون و تکنیک های جانبی مانند طیف سنجی پرتو ایکس پراکنده انرژی (EDS) و پراش پراکندگی برگشتی الکترون (EBSD) است.
با گذشت 13 سال از انتشار نسخه های سوم و چهارم، پوشش جدید نشان دهنده پیشرفت های بسیاری در ابزار و تکنیک های تجزیه و تحلیل است. SEM به یک پلت فرم مشخصه قدرتمند و همه کاره تبدیل شده است که در آن مورفولوژی، ترکیب عنصری و ساختار کریستالی را می توان به طور همزمان ارزیابی کرد. گسترش SEM به یک پلت فرم \"پرتو دوگانه\" که دارای هر دو ستون الکترونی و یونی است امکان اصلاح دقیق نمونه را با آسیاب پرتو یون متمرکز می دهد. پوشش جدید در نسخه چهارم شامل استفاده روزافزون از تفنگ های انتشار میدانی و ابزارهای SEM با قابلیت تفکیک بالا، عملکرد SEM با فشار متغیر، تئوری و اندازه گیری اشعه ایکس با طیف سنج های اشعه ایکس با آشکارساز رانش سیلیکونی با توان عملیاتی بالا (SDD-EDS) است. . علاوه بر نرم‌افزار قدرتمند ارائه‌شده توسط فروشنده برای پشتیبانی از جمع‌آوری و پردازش داده‌ها، میکروسکوپیست می‌تواند به قابلیت‌های پیشرفته موجود در پلت‌فرم‌های نرم‌افزار متن‌باز رایگان، از جمله مؤسسه ملی بهداشت (NIH) ImageJ-Fiji برای پردازش تصویر و مؤسسه ملی استانداردها و فناوری (NIST) DTSA II برای میکروآنالیز کمی اشعه ایکس EDS و شبیه‌سازی طیفی، که هر دو به طور گسترده در این کار استفاده می‌شوند. با این حال، کاربر موظف است عقل، کنجکاوی و شک و تردید مناسب را نسبت به اطلاعات روی صفحه کامپیوتر و کل فرآیند اندازه‌گیری بیاورد. این کتاب به شما کمک می کند تا به این هدف برسید.
  • متن را با نیازهای مخاطبان مختلف از محققان و دانشجویان فارغ التحصیل گرفته تا اپراتورهای SEM و مدیران فنی هماهنگ می کند
  • بر عملکرد عملی و عملی میکروسکوپ، به ویژه انتخاب کاربر از پارامترهای عملیاتی حیاتی برای دستیابی به نتایج معنادار تاکید می کند
  • نمای کلی گام به گام SEM، EDS و EBSD را ارائه می دهد. و چک لیست مسائل حیاتی برای تصویربرداری SEM، میکروآنالیز اشعه ایکس EDS، و اندازه‌گیری‌های کریستالوگرافی EBSD
  • از نرم‌افزار منبع باز استفاده گسترده‌ای می‌کند: NIH ImageJ-FIJI برای پردازش تصویر و NIST DTSA II برای کمی میکروآنالیز اشعه ایکس EDS و شبیه‌سازی طیفی EDS.
  • شامل مطالعات موردی برای نشان دادن حل عملی مسئله است
  • میکروسکوپ روبشی یون هلیوم را پوشش می‌دهد
  • در ماژول‌های نسبتاً مستقل سازمان‌دهی شده است – برای درک یک موضوع، نیازی به \"خواندن همه آن‌ها\" نیست
  • شامل یک مکمل آنلاین - یک \"پایگاه داده تعاملات الکترون-جامد" گسترده \"-که در SpringerLink در فصل 3 قابل دسترسی است

توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

This thoroughly revised and updated Fourth Edition of a time-honored text provides the reader with a comprehensive introduction to the field of scanning electron microscopy (SEM), energy dispersive X-ray spectrometry (EDS) for elemental microanalysis, electron backscatter diffraction analysis (EBSD) for micro-crystallography, and focused ion beams. Students and academic researchers will find the text to be an authoritative and scholarly resource, while SEM operators and a diversity of practitioners ― engineers, technicians, physical and biological scientists, clinicians, and technical managers ― will find that every chapter has been overhauled to meet the more practical needs of the technologist and working professional. In a break with the past, this Fourth Edition de-emphasizes the design and physical operating basis of the instrumentation, including the electron sources, lenses, detectors, etc. In the modern SEM, many of the low level instrument parameters are now controlled and optimized by the microscope’s software, and user access is restricted. Although the software control system provides efficient and reproducible microscopy and microanalysis, the user must understand the parameter space wherein choices are made to achieve effective and meaningful microscopy, microanalysis, and micro-crystallography. Therefore, special emphasis is placed on beam energy, beam current, electron detector characteristics and controls, and ancillary techniques such as energy dispersive x-ray spectrometry (EDS) and electron backscatter diffraction (EBSD).

With 13 years between the publication of the third and fourth editions, new coverage reflects the many improvements in the instrument and analysis techniques. The SEM has evolved into a powerful and versatile characterization platform in which morphology, elemental composition, and crystal structure can be evaluated simultaneously. Extension of the SEM into a "dual beam" platform incorporating both electron and ion columns allows precision modification of the specimen by focused ion beam milling. New coverage in the Fourth Edition includes the increasing use of field emission guns and SEM instruments with high resolution capabilities, variable pressure SEM operation, theory, and measurement of x-rays with high throughput silicon drift detector (SDD-EDS) x-ray spectrometers. In addition to powerful vendor- supplied software to support data collection and processing, the microscopist can access advanced capabilities available in free, open source software platforms, including the National Institutes of Health (NIH) ImageJ-Fiji for image processing and the National Institute of Standards and Technology (NIST) DTSA II for quantitative EDS x-ray microanalysis and spectral simulation, both of which are extensively used in this work. However, the user has a responsibility to bring intellect, curiosity, and a proper skepticism to information on a computer screen and to the entire measurement process. This book helps you to achieve this goal.
  • Realigns the text with the needs of a diverse audience from researchers and graduate students to SEM operators and technical managers
  • Emphasizes practical, hands-on operation of the microscope, particularly user selection of the critical operating parameters to achieve meaningful results
  • Provides step-by-step overviews of SEM, EDS, and EBSD and checklists of critical issues for SEM imaging, EDS x-ray microanalysis, and EBSD crystallographic measurements
  • Makes extensive use of open source software: NIH ImageJ-FIJI for image processing and NIST DTSA II for quantitative EDS x-ray microanalysis and EDS spectral simulation.
  • Includes case studies to illustrate practical problem solving
  • Covers Helium ion scanning microscopy
  • Organized into relatively self-contained modules – no need to "read it all" to understand a topic
  • Includes an online supplement―an extensive "Database of Electron–Solid Interactions"―which can be accessed on SpringerLink, in Chapter 3


فهرست مطالب

Front Matter ....Pages I-XXIII
 Electron Beam—Specimen Interactions: Interaction Volume  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 1-14
 Backscattered Electrons  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 15-28
 Secondary Electrons  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 29-37
 X-Rays  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 39-63
 Scanning Electron Microscope (SEM) Instrumentation  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 65-91
 Image Formation  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 93-110
 SEM Image Interpretation  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 111-121
 The Visibility of Features in SEM Images  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 123-131
 Image Defects  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 133-146
 High Resolution Imaging  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 147-164
 Low Beam Energy SEM  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 165-172
 Variable Pressure Scanning Electron Microscopy (VPSEM)  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 173-185
 ImageJ and Fiji  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 187-193
 SEM Imaging Checklist  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 195-200
 SEM Case Studies  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 201-207
 Energy Dispersive X-ray Spectrometry: Physical Principles and User-Selected Parameters  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 209-234
 DTSA-II EDS Software  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 235-264
 Qualitative Elemental Analysis by Energy Dispersive X-Ray Spectrometry  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 265-287
 Quantitative Analysis: From k-ratio to Composition  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 289-307
 Quantitative Analysis: The SEM/EDS Elemental Microanalysis k-ratio Procedure for Bulk Specimens, Step-by-Step  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 309-339
 Trace Analysis by SEM/EDS  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 341-357
 Low Beam Energy X-Ray Microanalysis  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 359-380
 Analysis of Specimens with Special Geometry: Irregular Bulk Objects and Particles  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 381-411
 Compositional Mapping  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 413-439
 Attempting Electron-Excited X-Ray Microanalysis in the Variable Pressure Scanning Electron Microscope (VPSEM)  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 441-459
 Energy Dispersive X-Ray Microanalysis Checklist  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 461-470
 X-Ray Microanalysis Case Studies  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 471-479
 Cathodoluminescence  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 481-489
 Characterizing Crystalline Materials in the SEM  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 491-515
 Focused Ion Beam Applications in the SEM Laboratory  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 517-528
 Ion Beam Microscopy  (Joseph I. Goldstein, Dale E. Newbury, Joseph R. Michael, Nicholas W. M. Ritchie, John Henry J. Scott, David C. Joy)....Pages 529-539
Back Matter ....Pages 541-550




نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی