دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
دسته بندی: ابزار ویرایش: 3 نویسندگان: Harry J. Levinson سری: SPIE Press Monograph PM198 ISBN (شابک) : 0819483249, 9780819483249 ناشر: SPIE Press سال نشر: 2011 تعداد صفحات: 524 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 18 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب اصول لیتوگرافی، ویرایش سوم (تنگ نگاری مطبوعاتی SPIE، جلد PM198): ابزار دقیق، نیمه هادی ها
در صورت تبدیل فایل کتاب Principles of Lithography, Third Edition (SPIE Press Monograph, Vol. PM198) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب اصول لیتوگرافی، ویرایش سوم (تنگ نگاری مطبوعاتی SPIE، جلد PM198) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
انتشار کتاب اصول لیتوگرافی، ویرایش سوم، تنها پنج سال پس از ویرایش قبلی، گواه تغییر سریع و هیجان انگیز ماهیت لیتوگرافی است که در تولید مدارهای مجتمع و سایر دستگاه های در مقیاس میکرو و نانو به کار می رود. این متن به عنوان مقدمه ای برای علم ریز سنگ نگاری در نظر گرفته شده است، اما چندین موضوع را به طور عمیق پوشش می دهد و آن را برای لیتوگراف باتجربه نیز مفید می کند. موضوعاتی که مستقیماً با ابزارهای ساخت مرتبط هستند، از جمله پوشش، مراحل نوردهی، ابزارها و منابع نور مورد بررسی قرار میگیرند. این نسخه به روز شده منعکس کننده پیشرفت های اخیر در فناوری، از جمله تغییر لیتوگرافی غوطه وری از توسعه به تولید حجمی، و حرکت لیتوگرافی EUV از آزمایشگاه به خطوط آزمایشی توسعه است. منابع جدید و مشکلات تکالیف گنجانده شده است. انتظار می رود که خواننده این کتاب پایه ای در فیزیک و شیمی پایه داشته باشد. هیچ موضوعی به دانش ریاضی فراتر از محاسبات ابتدایی نیاز ندارد.
The publication of Principles of Lithography, Third Edition just five years after the previous edition is evidence of the quickly changing and exciting nature of lithography as applied to the production of integrated circuits and other micro- and nanoscale devices. This text is intended to serve as an introduction to the science of microlithography, but also covers several subjects in depth, making it useful to the experienced lithographer as well. Topics directly related to manufacturing tools are addressed, including overlay, the stages of exposure, tools, and light sources. This updated edition reflects recent advances in technology, including the shift of immersion lithography from development into volume manufacturing, and the movement of EUV lithography from the lab to development pilot lines. New references and homework problems are included. It is expected that the reader of this book will have a foundation in basic physics and chemistry. No topics will require knowledge of mathematics beyond elementary calculus.