دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
دسته بندی: فیزیک پلاسما ویرایش: 1 نویسندگان: T. D. Mantei (auth.), P. F. Williams (eds.) سری: NATO ASI Series 336 ISBN (شابک) : 9789401064866, 9789401158848 ناشر: Springer Netherlands سال نشر: 1997 تعداد صفحات: 610 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 19 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب پردازش پلاسمائی نیمه هادی ها: مهندسی برق، تولید، ماشین آلات، ابزار، مواد نوری و الکترونیکی، فیزیک اتمی، مولکولی، نوری و پلاسما
در صورت تبدیل فایل کتاب Plasma Processing of Semiconductors به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب پردازش پلاسمائی نیمه هادی ها نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
پردازش پلاسما نیمه هادی ها شامل 28 مشارکت از 18
متخصص است و حکاکی پلاسما، رسوب پلاسما، برهمکنش های سطح
پلاسما، مدل سازی عددی، تشخیص پلاسما، کاربردهای کمتر مرسوم
پردازش پلاسما، و کاربردهای صنعتی را پوشش می دهد.
مخاطبان: محدوده پوشش از مقدماتی تا پیشرفته است،
بنابراین این کتاب برای دانشجویان مقطع تحصیلات تکمیلی مناسب
است که به دنبال آشنایی با این رشته و همچنین کارگران مستقری
هستند که مایل به گسترش یا به روز رسانی خود هستند. دانش.
Plasma Processing of Semiconductors contains 28
contributions from 18 experts and covers plasma etching,
plasma deposition, plasma-surface interactions, numerical
modelling, plasma diagnostics, less conventional processing
applications of plasmas, and industrial applications.
Audience: Coverage ranges from introductory to state
of the art, thus the book is suitable for graduate-level
students seeking an introduction to the field as well as
established workers wishing to broaden or update their
knowledge.
Front Matter....Pages i-x
Introduction to Plasma Etching....Pages 1-21
Plasma Chemistry, Basic Processes, and PECVD....Pages 23-59
The Role of Ions in Reactive Ion Etching with Low Density Plasmas....Pages 61-71
SiO 2 Etching in High-Density Plasmas: Differences with Low-Density Plasmas....Pages 73-88
Introduction to Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition....Pages 89-108
Topography Evolution During Semiconductor Processing....Pages 109-124
Deposition of Amorphous Silicon....Pages 125-136
High Density Sources for Plasma Etching....Pages 137-156
Resonant Plasma Excitation by Electron Cyclotron Waves - Fundamentals and Applications....Pages 157-180
The Transition from Capacitive to Inductive to Wave Sustained Discharges....Pages 181-186
Physics of Surface-Wave Discharges....Pages 187-210
Surface Science Aspects of Etching and Wall Reactions in High Density Plasmas....Pages 211-219
Plasma-Surface Interactions....Pages 221-242
Cl 2 Plasma — Si Surface Interactions in Plasma Etching: X-ray Photoelectron Spectroscopy After Etching, and Optical and Mass Spectrometry Methods During Etching ....Pages 243-275
Particle in Cell Monte Carlo Collision Codes(PIC-MCC); Methods and Applications to Plasma Processing....Pages 277-289
Fluid and Hybrid Models of Non Equilibrium Discharges....Pages 291-319
Optical Diagnostics of Processing Plasmas....Pages 321-338
Optical Diagnostics of Plasmas: A Tool for Process Control....Pages 339-358
Infrared Absorption Spectroscopy as a Diagnostic for Processing Plasmas....Pages 359-374
Ellipsometric Analysis of Plasma Deposited and Plasma Etched Materials....Pages 375-395
Mass Spectrometry of Reactive Plasmas....Pages 397-431
Deposition of Silicon Dioxide Films Using the Helicon Diffusion Reactor for Integrated Optics Applications....Pages 433-475
Remote Plasma Processing....Pages 477-490
Magnetized Surface-Wave Discharges for Submicrometer Pattern Transfer....Pages 491-513
Dusty Plasmas: Fundamental Aspects and Industrial Applications....Pages 515-527
Low Energy Plasma Beams for Semiconductor Technology....Pages 529-544
Process Control Concepts....Pages 545-564
Issues and Solutions for Applying Process Control to Semiconductor Manufacturing....Pages 565-583
Back Matter....Pages 585-613