ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Luminous Chemical Vapor Deposition and Interface Engineering

دانلود کتاب رسوب بخار شیمیایی درخشان و مهندسی رابط

Luminous Chemical Vapor Deposition and Interface Engineering

مشخصات کتاب

Luminous Chemical Vapor Deposition and Interface Engineering

دسته بندی: علم شیمی
ویرایش: 1 
نویسندگان:   
سری: Surfactant Science 
ISBN (شابک) : 0824757882, 9781420030297 
ناشر: CRC Press 
سال نشر: 2004 
تعداد صفحات: 840 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 36 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 43,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 14


در صورت تبدیل فایل کتاب Luminous Chemical Vapor Deposition and Interface Engineering به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب رسوب بخار شیمیایی درخشان و مهندسی رابط نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب رسوب بخار شیمیایی درخشان و مهندسی رابط

Yasuda (مهندسی شیمی، دانشگاه میسوری-کلمبیا) پوشش عمیقی از فناوری‌ها و رویکردهای مختلف در رسوب‌دهی بخار شیمیایی درخشان (LCVD) ارائه می‌کند و توسعه و استفاده از روش‌های LCVD را در کاربردهای مقیاس صنعتی به نمایش می‌گذارد. این کتاب پوشش گسترده ای از روابط درگیر در رابط بین گاز / جامد، مایع / جامد و جامد / جامد را ارائه می دهد که می تواند در مهندسی رابط پلاسمای فشار پایین با توجه متمرکز بر پلیمریزاسیون پلاسما استفاده شود. پوشش از مبانی LCVD از طریق بهره برداری از LCVD و LCVT، سطوح و رابط ها، و مهندسی رابط پیشرفت می کند.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Yasuda (chemical engineering, University of Missouri-Columbia) provides in-depth coverage of the technologies and various approaches in luminous chemical vapor deposition (LCVD) and showcases the development and use of LCVD procedures in industrial scale applications. The book provides broad coverage of the relationships involved in the interface between gas/solid, liquid/solid, and solid/solid which can be utilized in low-pressure plasma interface engineering, with attention focused on plasma polymerization. Coverage progresses from fundamentals of LCVD through operation of LCVD and LCVT, surfaces and interfaces, and interface engineering.





نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی