دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Handbook of Photomask Manufacturing Technology
دانلود کتاب کتابچه راهنمای فناوری ساخت Photomask
مشخصات کتاب
Handbook of Photomask Manufacturing Technology
ویرایش: 1
نویسندگان: Syed Rizvi
سری:
ISBN (شابک) : 0824753747, 9780824753740
ناشر: CRC Press
سال نشر: 2005
تعداد صفحات: 878
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 22 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 58,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Handbook of Photomask Manufacturing Technology به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب کتابچه راهنمای فناوری ساخت Photomask نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب کتابچه راهنمای فناوری ساخت Photomask
از آنجایی که صنعت نیمه‌رسانا تلاش می‌کند تا تعداد عملکردهایی را که در کوچک‌ترین فضای یک تراشه قرار می‌گیرند افزایش دهد، همگام شدن با این خواسته‌ها برای فناوری‌های جدید اهمیت فزاینده‌ای پیدا می‌کند. فناوری Photomask یکی از زمینه های کلیدی برای دستیابی به این هدف است. اگرچه مرور مختصری از فناوری ماسک نوری در ادبیات موجود است، کتاب راهنمای فناوری ساخت ماسک نوری اولین درمان عمیق و جامع فناوری‌های موجود و نوظهور ماسک‌های عکس است. دانشگاه، دولت، آزمایشگاه های ملی و کنسرسیوم ها. این نویسندگان درباره ماسک‌های معمولی و فن‌آوری‌های پشتیبان آن‌ها و همچنین نسل بعدی فناوری‌های غیر نوری مانند فرابنفش شدید، طرح‌تابی الکترون، طرح یونی و لیتوگرافی اشعه ایکس بحث می‌کنند. کتاب با مروری بر تاریخچه توسعه ماسک عکس آغاز می شود. سپس مراحل مربوط به طراحی، تولید، آزمایش، بازرسی و تعمیر ماسک های عکس را با دنبال کردن توالی مشاهده شده در تولید واقعی نشان می دهد. این متن همچنین شامل بخش‌هایی در مورد مواد مورد استفاده و همچنین مدل‌سازی و شبیه‌سازی می‌شود. اصلاحات مداوم در فرآیند ساخت ماسک نوری، عصر طول موج فرعی در نانولیتوگرافی را آغاز کرده است. این کتابچه راهنمای ارزشمند این اصلاحات را ترکیب می‌کند و ابزارها و امکانات لازم برای دستیابی به نسل بعدی فناوری‌های میکروساخت را فراهم می‌کند.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
As the semiconductor industry attempts to increase the number of functions that will fit into the smallest space on a chip, it becomes increasingly important for new technologies to keep apace with these demands. Photomask technology is one of the key areas to achieving this goal. Although brief overviews of photomask technology exist in the literature, the Handbook of Photomask Manufacturing Technology is the first in-depth, comprehensive treatment of existing and emerging photomask technologies available.The Handbook of Photomask Manufacturing Technology features contributions from 40 internationally prominent authors from industry, academia, government, national labs, and consortia. These authors discuss conventional masks and their supporting technologies, as well as next-generation, non-optical technologies such as extreme ultraviolet, electron projection, ion projection, and x-ray lithography. The book begins with an overview of the history of photomask development. It then demonstrates the steps involved in designing, producing, testing, inspecting, and repairing photomasks, following the sequences observed in actual production. The text also includes sections on materials used as well as modeling and simulation.Continued refinements in the photomask-making process have ushered in the sub-wavelength era in nanolithography. This invaluable handbook synthesizes these refinements and provides the tools and possibilities necessary to reach the next generation of microfabrication technologies.
نظرات کاربران
کتاب های تصادفی
دانلود کتاب A_86_sismic_gypsum_drywall
دانلود کتاب Canyons (The Extreme Earth)
دانلود کتاب Geosustainability and geohazard mitigation : proceedings of sessions of Geocongress 2008, March 9-12, 2008, New Orleans, Louisiana, sponsored by the Geo-Institute of the American Society of Civil Engineers
دانلود کتاب Central Banking in Turbulent Times
