Handbook of Nanophysics: Nanoelectronics and Nanophotonics

--- FESEM images, vertically well-aligned......Page 
--- 10-07......Page 0010
Editor xiii 14......Page 0014
1.1 Introduction 22 (1-1)......Page 0022
qubits and quantum logic gates, 23 (1-2) thru......Page 0023
--- 24 (1-3)......Page 0024
Zeeman effects, 25 (1-4)......Page 0025
--- using quantum dots and electric gates, 28 (1-7)......Page 0028
1.7 Quantum Computing with Molecular Magnets 30 (1-9)......Page 0030
--- 33 (1-12)......Page 0033
1.9 Single-Photon Faraday Rotation 35 (1-14)......Page 0035
--- optical Stark effect, 41 (1-20)......Page 0041
2.1 Introduction 44 (2-1)......Page 0044
--- cell array structure, 45 (2-2)......Page 0045
--- vs. DRAM, 47 (2-4)......Page 0047
2.4 Semiconductor Nanomemories 49 (2-6)......Page 0049
Single electron memories, 50 (2-7)......Page 0050
--- based nanomemories, 53 (2-10)......Page 0053
--- spectroscopy, 59 (2-16)......Page 0059
2.8 Write Times in Quantum Dot Memories 64 (2-21)......Page 0064
Acknowledgments 66 (2-23)......Page 0066
References 67 (2-24)......Page 0067
3.1 Introduction 70 (3-1)......Page 0070
--- schematic cross section, 71 (3-2)......Page 0071
--- properties, 78 (3-9)......Page 0078
--- 85 (3-16)......Page 0085
Acknowledgments 87 (3-18)......Page 0087
References 88 (3-19)......Page 0088
4.2 Background 92 (4-1)......Page 0092
--- preparation, 96 (4-5)......Page 0096
References 105 (4-14)......Page 0105
5.1 Introduction 108 (5-1)......Page 0108
--- geometry and notations, 110 (5-3)......Page 0110
--- 116 (5-9)......Page 0116
structure for FEM simulation, 121 (5-14)......Page 0121
--- 125 (5-18)......Page 0125
--- convergence, 126 (5-19)......Page 0126
References 128 (5-21)......Page 0128
Landau–Ginzburg–Devonshire theory, 130 (6-1)......Page 0130
--- phenomenological definition, 131 (6-2)......Page 0131
--- ferroelectric hysteresis loops, 133 (6-4)......Page 0133
--- (RBS), 137 (6-8)......Page 0137
--- thru 142 (6-13)......Page 0142
--- 146 (6-17)......Page 0146
References 148 (6-19)......Page 0148
7.1 Introduction 152 (7-1)......Page 0152
--- electronic state density, 153 (7-2)......Page 0153
--- Fabry–Perot cavity, 157 (7-6)......Page 0157
--- 161 (7-10)......Page 0161
--- thru 166 (7-15)......Page 0166
SQUIDs devices, 168 (7-17)......Page 0168
Molecular transistors, 169 (7-18)......Page 0169
8.1 Introduction 172 (8-1)......Page 0172
--- active region, 174 (8-3)......Page 0174
spin-diffusion length, 178 (8-7)......Page 0178
8.4 Conclusions and Future Perspective 186 (8-15)......Page 0186
References 187 (8-16)......Page 0187
Ferromagnetic molecular magnets, 190 (9-1)......Page 0190
--- uniaxial anisotropy, 191 (9-2)......Page 0191
--- 194 (9-5)......Page 0194
--- incoherent Zener tunneling in Fe8, 196 (9-7)......Page 0196
--- thru 197 (9-8)......Page 0197
Single-molecule magnet transistors, 200 (9-11) thru......Page 0200
--- 201 (9-12)......Page 0201
References 202 (9-13)......Page 0202
10.1 Introduction 204 (10-1)......Page 0204
--- via LUMO, 205 (10-2)......Page 0205
10.3 Buttiker Model for Inelastic Transport 208 (10-5)......Page 0208
--- electron–vibron interaction, 209 (10-6) thru......Page 0209
--- contact time, 212 (10-9)......Page 0212
--- junction power loss, 214 (10-11)......Page 0214
Negative differential resistance (NDR), 216 (10-13)......Page 0216
--- 218 (10-15)......Page 0218
References 219 (10-16)......Page 0219
Aharonov–Bohm effect, 224 (11-1)......Page 0224
--- of Mn,Cd-MT, 225 (11-2)......Page 0225
11.3 Nanostructured Semiconductor Templates: Nanofabrication and Patterning 229 (11-6)......Page 0229
--- AFM, 231 (11-8)......Page 0231
11.6 Conclusion and Future Perspectives 233 (11-10)......Page 0233
References 234 (11-11)......Page 0234
12.1 Introduction 238 (12-1)......Page 0238
12.2 Evolution of Silicon Processing: Technology Boosters 239 (12-2)......Page 0239
--- nonplanar multi-gate transistors, 240 (12-3)......Page 0240
12.4 The Rise of Quantum Effects 242 (12-5)......Page 0242
12.5 Carbon Nanotube Transistors 243 (12-6)......Page 0243
--- nonclassical transistor structures, 244 (12-7)......Page 0244
--- sub-kT/q switch, 245 (12-8)......Page 0245
--- spin transistor, 246 (12-9)......Page 0246
--- 248 (12-11)......Page 0248
References 249 (12-12)......Page 0249
Schottky barrier, 252 (13-1)......Page 0252
13.3 J?V Characteristic 254 (13-3)......Page 0254
--- glow discharge-deposition process, 255 (13-4)......Page 0255
--- test of dependency, 258 (13-7)......Page 0258
14.1 Introduction 260 (14-1)......Page 0260
--- physical parameters of ZnO, 261 (14-2)......Page 0261
--- furnace system schematic, 263 (14-4) thru......Page 0263
--- 273 (14-14)......Page 0273
--- micro-clusters, 276 (15-1)......Page 0276
--- spectroscopy, 279 (15-4)......Page 0279
--- van der Waals interaction, 282 (15-7)......Page 0282
--- photo-conducting spectra, 285 (15-10)......Page 0285
--- thru 291 (15-16)......Page 0291
--- SiO2/AlN substrates, 293 (15-18)......Page 0293
--- characterization on SiO2/AlN, 294 (15-19)......Page 0294
--- thru 295 (15-20)......Page 0295
References 296 (15-21)......Page 0296
16.2 Theory of Operation 298 (16-1)......Page 0298
--- deposition, 306 (16-9)......Page 0306
--- switching current measurement, 307 (16-10)......Page 0307
--- relation to the cooper-pair box, 313 (16-16)......Page 0313
17.1 Introduction 318 (17-1)......Page 0318
--- 319 (17-2)......Page 0319
--- imprint lithography (IL), 320 (17-3) thru......Page 0320
--- 322 (17-5)......Page 0322
--- 327 (17-10)......Page 0327
--- energetics application, 329 (17-12)......Page 0329
--- 331 (17-14)......Page 0331
--- 335 (17-18)......Page 0335
References 336 (17-19)......Page 0336
18.1 Introduction 340 (18-1)......Page 0340
--- for thermoplastic polymers, 342 (18-3)......Page 0342
nanopore generation, 344 (18-5)......Page 0344
18.4 Controlling Ordering and Assembly Processes by Nanoimprint Lithography 346 (18-7)......Page 0346
--- 353 (18-14)......Page 0353
19.1 Introduction 358 (19-1)......Page 0358
19.2 Photoresist Technology 360 (19-3)......Page 0360
--- 193a•›nm immersion lithography, 365 (19-8)......Page 0365
--- ultimate resolution limits, 371 (19-14)......Page 0371
--- cost of ownership, 374 (19-17)......Page 0374
--- double exposure method, 381 (19-24) thru......Page 0381
--- 384 (19-27)......Page 0384
References 385 (19-28)......Page 0385
Multilayer (ML) reflective coating, 394 (20-1),......Page 0394
--- normal-incidence reflective optics, 395 (20-2)......Page 0395
--- interferometer (PS/PDI), 398 (20-5)......Page 0398
--- intermediate focus, definition, 402 (20-9)......Page 0402
--- thru 407 (20-14)......Page 0407
References 409 (20-16)......Page 0409
--- semiconductor quantum wires, 414 (21-1)......Page 0414
--- recombination process, 415 (21-2)......Page 0415
--- scanning electron microscopy (SEM), 418 (21-5)......Page 0418
21.4 Quantum Structures 421 (21-8)......Page 0421
--- (MOCVPE) technique, 428 (21-15)......Page 0428
--- emission peak, 437 (21-24)......Page 0437
--- semiconductor nanoparticles, 440 (22-1)......Page 0440
Si/SiO2 substrate, 441 (22-2)......Page 0441
Stark effect, 443 (22-4)......Page 0443
--- Au nanoparticles, 445 (22-6)......Page 0445
--- 446 (22-7)......Page 0446
--- Wannier–Mott excitons, 450 (23-1)......Page 0450
--- nonlinear optical properties, 454 (23-5) thru......Page 0454
--- CdSe, 455 (23-6)......Page 0455
--- thru 457 (23-8)......Page 0457
--- electronic shells, 458 (24-1)......Page 0458
--- spectroscopic techniques, 459 (24-2)......Page 0459
--- 469 (24-12)......Page 0469
Acknowledgments 478 (24-21)......Page 0478
References 479 (24-22)......Page 0479
--- SiO2, 484 (25-1)......Page 0484
silicon nanocrystals (SiNCs), 486 (25-3) thru......Page 0486
--- luminescence bands, 490 (25-7)......Page 0490
and Nonradiative Processes 498 (25-15)......Page 0498
--- core nanocrystal, 505 (25-22)......Page 0505
planar interface, 510 (26-1)......Page 0510
polarization-dependent effects, 522 (26-13)......Page 0522
--- 526 (26-17)......Page 0526
References 527 (26-18)......Page 0527
--- hyperpolarizability tensor, 530 (27-1)......Page 0530
--- second-order nonlinear polarization, 531 (27-2)......Page 0531
--- semiconducting cluster, 534 (27-5)......Page 0534
--- 541 (27-12)......Page 0541
--- lightning rod effects, 544 (28-1)......Page 0544
28.2 Nonlinear Optics and Second Harmonic Generation 545 (28-2)......Page 0545
--- plane-wave illumination, 546 (28-3)......Page 0546
--- 548 (28-5)......Page 0548
28.5 Emission Patterns and Light Polarization 551 (28-8)......Page 0551
SH electric field polarization, 552 (28-9)......Page 0552
--- microscopy, 554 (28-11)......Page 0554
--- yield, 558 (28-15)......Page 0558
References 559 (28-16)......Page 0559
--- quantum field theory, 562 (29-1)......Page 0562
--- quantum dynamics, 563 (29-2)......Page 0563
spatial Fourier spectrum, 567 (29-6)......Page 0567
--- 572 (29-11)......Page 0572
spacial decoupling scheme, 577 (29-16)......Page 0577
--- exciton polarization, 580 (29-19)......Page 0580
--- optical process, 582 (30-1)......Page 0582
--- incident wave electric field, 584 (30-3)......Page 0584
--- angular distribution, 590 (30-9)......Page 0590
--- photomultiplier, 592 (30-11)......Page 0592
--- scattered light intensity, 593 (30-12)......Page 0593
References 594 (30-13)......Page 0594
31.3 Engineering of Iridescent Devices 596 (31-1)......Page 0596
--- 2D christmas tree structure, 598 (31-3) thru......Page 0598
--- photoluminescence (PL) emission, 600 (31-5)......Page 0600
Silica deposition vesicle (SDV), 602 (31-7)......Page 0602
--- eukaryote cell, 603 (31-8)......Page 0603
--- quantum electrodynamics (QED), 608 (32-1)......Page 0608
--- virtual cloud effects, 609 (32-2)......Page 0609
--- quantization procedure, 612 (32-5)......Page 0612
--- 624 (32-17)......Page 0624
33.1 Introduction 626 (33-1)......Page 0626
--- schematic representation, 627 (33-2)......Page 0627
symmetric and antisymmetric states, 633 (33-8)......Page 0633
References 638 (33-13)......Page 0638
34.2 System Architectures Based on Optical Excitation Transfer 640 (34-1)......Page 0640
--- physical and functional, 645 (34-6) thru......Page 0645
References 651 (34-12)......Page 0651
--- excitation energy transfer, 654 (35-1) thru......Page 0654
--- 656 (35-3)......Page 0656
--- photodissociation, 660 (35-7)......Page 0660
35.5 Summary 664 (35-11)......Page 0664
References 665 (35-12)......Page 0665
36.2 Nanophotonic Devices Based on Quantum Dots 668 (36-1)......Page 0668
Near-field photoluminescence (NFPL), 674 (36-7)......Page 0674
--- input laser llumination, 678 (36-11)......Page 0678
Siliconize photonics, 680 (37-1)......Page 0680
--- spectral filtering, 681 (37-2)......Page 0681
--- advantages, 683 (37-4)......Page 0683
--- 686 (37-7)......Page 0686
Substrate radiation mode, 688 (37-9)......Page 0688
--- substrate modes, 691 (37-12)......Page 0691
--- optical couplers, 693 (37-14)......Page 0693
38.1 Introduction 696 (38-1)......Page 0696
Using Bacteriorhodopsin (Basic Processes, Constructions, Technology) 697 (38-2)......Page 0697
--- 705 (38-10)......Page 0705
--- spectral characteristics, 712 (38-17)......Page 0712
39.1 Introduction: Properties of Laser Radiation 716 (39-1)......Page 0716
--- (VCSEL), 717 (39-2)......Page 0717
39.4 Rate Equation Approach 719 (39-4)......Page 0719
--- definition, 720 (39-5)......Page 0720
--- surface plasmon mode confinement, 723 (39-8)......Page 0723
Photonic crystal lasers, 725 (39-10)......Page 0725
Random lasers, 726 (39-11)......Page 0726
Ultrahigh data storage, 727 (39-12)......Page 0727
40.1 Introduction 730 (40-1)......Page 0730
Three-dimensional carrier confinement, 733 (40-4),......Page 0733
--- 734 (40-5)......Page 0734
--- 739 (40-10)......Page 0739
--- rate equations description, 742 (40-13) thru......Page 0742
--- thru 745 (40-16)......Page 0745
41.1 Introduction 748 (41-1)......Page 0748
Time-bandwidth product (TBWP), 749 (41-2)......Page 0749
41.3 Quantum Dots: Distinctive Advantages for Ultrafast Diode Lasers 752 (41-5)......Page 0752
--- temperature sensitivity, 755 (41-8)......Page 0755
References 757 (41-10)......Page 0757
Index 760 (Index-1)......Page 0760
--- field emission micrograph, 299 (16-2)......Page 0299
33-9) thru  635 (33-10)......Page 635
33-10) thru  636 (33-11)......Page 636
--- 154......Page 154
7-3) thru  155 (7-4)......Page 155
--- scanning probe techniques, 140 (6-11) thru......Page 0140
--- 141......Page 141
--- photolithography, 663......Page 663
--- atomic-scale TCAD, 248......Page 248
12-11) thru  249 (12-12)......Page 249
--- photocycle, 696......Page 696
38-1) thru  697 (38-2)......Page 697
--- activation function realization, 700 (38-5)......Page 0700
--- interaction, 698 (38-3)......Page 0698
38-2) thru  698 (38-3)......Page 698
--- 699 (38-4)......Page 0699
--- realization, 699......Page 699
--- cyclicity processes, 700......Page 700
--- thru 706 (38-11)......Page 0706
--- functional characteristics, 707 (38-12) thru......Page 0707
--- gold nanoparticles spectrum, 709 (38-14)......Page 0709
--- schematic composition, 708 (38-13)......Page 0708
--- 702......Page 702
38-7) thru  703 (38-8)......Page 703
38-5) thru  701 (38-6)......Page 701
--- light fluxes formation, 701 (38-6)......Page 0701
--- multilayered constructions, 702 (38-7)......Page 0702
--- 704 (38-9)......Page 0704
--- suspension preparation, 703 (38-8)......Page 0703
--- electron in constant magnetic field, 195 (9-6)......Page 0195
--- path integrals, 195......Page 195
Incoherent Zener tunneling, 196......Page 196
--- 200......Page 200
9-11) thru  201 (9-12)......Page 201
18-5) thru  345 (18-6)......Page 345
18-6) thru  346 (18-7)......Page 346
--- optical reflector types, 596......Page 596
--- cell culture, 598......Page 598
--- photonic device, 600......Page 600
31-5) thru  601 (31-6)......Page 601
31-6) thru  602 (31-7)......Page 602
--- thru 601 (31-6)......Page 0601
--- 599 (31-4)......Page 0599
31-1) thru  597 (31-2)......Page 597
31-2) thru  599 (31-4)......Page 599
--- photonic crystal, 597 (31-2)......Page 0597
Bose–Einstein distribution function, 211 (10-8)......Page 0211
Two-level amplifying system (TLS)., 724 (39-9)......Page 0724
--- Bragg mirrors, 718 (39-3)......Page 0718
Bragg MOKE technique, 99......Page 99
Noncircular rings, 100......Page 100
--- 86 (3-17)......Page 0086
10-4) thru  208 (10-5)......Page 208
10-5) thru  209 (10-6)......Page 209
Cantor’s middle-excluded set, 330 (17-13) thru......Page 0330
Depletion capacitance, 56......Page 56
2-13) thru  57 (2-14)......Page 57
--- p–n junction, 55 (2-12)......Page 0055
Schottky contact, 54......Page 54
2-11) thru  55 (2-12)......Page 55
--- width of, 56 (2-13)......Page 0056
--- band structure, 72 (3-3)......Page 0072
charge-storage stability, 74......Page 74
control, 75......Page 75
controlling storage nodes, 75 (3-6) thru......Page 0075
--- two-terminal memory devices, 76 (3-7) thru......Page 0076
Fuhrer’s device, 73 (3-4)......Page 0073
Radosavljevic’s device, 74 (3-5)......Page 0074
3-14) thru  85 (3-16)......Page 85
3-16) thru  86 (3-17)......Page 86
3-11) thru  81 (3-12)......Page 81
--- 82......Page 82
--- thru 83 (3-14)......Page 0083
Nanorelays, 80......Page 80
--- 79......Page 79
--- linear bearing nanoswitch, 83......Page 83
12-5) thru  243 (12-6)......Page 243
12-6) thru  244 (12-7)......Page 244
--- experimental realizations, 157......Page 157
--- nanotube quantum dot, 158......Page 158
7-7) thru  160 (7-9)......Page 160
--- 161......Page 161
CNT superconducting transistor, 158 (7-7)......Page 0158
--- thru 159 (7-8)......Page 0159
--- gate dependence, 159......Page 159
--- quantum-kinetic equation, 736 (40-7)......Page 0736
--- carrier–carrier interaction, 735 (40-6) thru......Page 0735
--- screening effects, 736......Page 736
--- 737......Page 737
--- ON- to OFF-state, 632 (33-7)......Page 0632
40-8) thru  738 (40-9)......Page 738
Dyson equation, 738 (40-9)......Page 0738
--- resolution factors, 416 (21-3)......Page 0416
--- Bell Laboratory misconduct, 277 (15-2) thru......Page 0277
--- 278 (15-3)......Page 0278
15-18) thru  294 (15-19)......Page 294
15-19) thru  295 (15-20)......Page 295
15-17) thru  293 (15-18)......Page 293
--- operation principles, 278......Page 278
15-3) thru  279 (15-4)......Page 279
--- charge trap memories, 49......Page 49
2-6) thru  50 (2-7)......Page 50
EUV resists, 405 (20-12)......Page 0405
--- classical Faraday effect, 34 (1-13)......Page 0034
3-6) thru  76 (3-7)......Page 76
--- self-energy parts expression, 206 (10-3)......Page 0206
--- through a carbon chain, 207 (10-4)......Page 0207
--- satellite resonance, 199 (9-10)......Page 0199
--- state, 198 (9-9)......Page 0198
--- 181 (8-10)......Page 0181
--- exchange field computation, 180 (8-9)......Page 0180
--- vs. FE method, 179 (8-8)......Page 0179
Stratonovich interpretation, 182 (8-11)......Page 0182
--- and giant magnetoresistance, 183 (8-12) thru......Page 0183
8-6) thru  178 (8-7)......Page 178
8-7) thru  179 (8-8)......Page 179
--- magnetoresistance, 183......Page 183
8-12) thru  186 (8-15)......Page 186
--- 184......Page 184
--- dipolar approximation, 467 (24-10) thru......Page 0467
--- thru 468 (24-11)......Page 0468
24-7) thru  465......Page 465
24-8) thru  466 (24-9)......Page 466
--- dielectric function, 463 (24-6)......Page 0463
24-2),  463 (24-6)......Page 463
--- quasi-static approximation/dipolar, 462 (24-5)......Page 0462
--- 461......Page 461
24-4) thru  462 (24-5)......Page 462
--- etching, 332......Page 332
--- directional processes, 334......Page 334
Gas evaporation method, 280 (15-5)......Page 0280
--- 347 (18-8)......Page 0347
--- full confinement factor, 350......Page 350
18-11) thru  353 (18-14)......Page 353
--- partial confinement factor, 348 (18-9) thru......Page 0348
--- 350 (18-11)......Page 0350
16-4) thru  302 (16-5)......Page 302
--- quasiparticle poisoning, 303......Page 303
calculation, 303 (16-6)......Page 0303
--- uncertainty principle at work, 302 (16-5)......Page 0302
16-3) thru  301 (16-4)......Page 301
--- in ramped current measurement, 308 (16-11)......Page 0308
--- thru 309 (16-12)......Page 0309
--- 310 (16-13)......Page 0310
16-7) thru  306 (16-9)......Page 306
--- 301 (16-4)......Page 0301
--- I–V curve, 299......Page 299
--- RCSJ model, 300......Page 300
--- operation beyond 1a•›GHz, 311 (16-14) thru......Page 0311
--- quasiparticle poisoning, 312 (16-15)......Page 0312
Crossbar process, 319......Page 319
--- imprint lithography (IL), 320......Page 320
--- quasiparticle poisoning, 308......Page 308
16-11) thru  309 (16-12)......Page 309
32-11) thru  619 (32-12)......Page 619
--- 620......Page 620
--- 623 (32-16)......Page 0623
Rate window method, 58......Page 58
2-15) thru  59 (2-16)......Page 59
numerical aperture, 368 (19-11)......Page 0368
--- depth of focus (DOF), 366......Page 366
19-9) thru  367 (19-10)......Page 367
--- double patterning, 370......Page 370
--- resolution, 371......Page 371
--- plot of critical feature size, 367 (19-10)......Page 0367
--- thru 369 (19-12)......Page 0369
Optical-projection lithography system, 366 (19-9)......Page 0366
--- dipole nanolaser, 724......Page 724
Scattering lasers, 725......Page 725
20-8) thru  402 (20-9)......Page 402
--- blanks, 403......Page 403
--- dissipated optical energy transfer, 669 (36-2)......Page 0669
dynamic property of, 670 (36-3)......Page 0670
36-2) thru  670 (36-3)......Page 670
--- 671......Page 671
--- time-resolved PL intensity, 672......Page 672
--- thru 671 (36-4)......Page 0671
36-1) thru  669 (36-2)......Page 669
Liouville equation, 628 (33-3)......Page 0628
nanophotonic switch, 630......Page 630
--- exciton population, 631......Page 631
--- exciton dynamics, 628......Page 628
--- coupling strength, 629......Page 629
--- resonant coupling, 629 (33-4)......Page 0629
--- switching operation, 631 (33-6)......Page 0631
33-4) thru  632 (33-7)......Page 632
--- 633......Page 633
33-12) thru  638 (33-13)......Page 638
--- through large DNA molecules, 213 (10-10)......Page 0213
10-8) thru  212 (10-9)......Page 212
10-9) thru  213 (10-10)......Page 213
Micromagnetic theory, 173 (8-2)......Page 0173
--- 226 (11-3)......Page 0226
19-23) thru  381 (19-24)......Page 381
19-24) thru  382 (19-25)......Page 382
polarization ratio, 513 (26-4)......Page 0513
24-2) thru  460 (24-3)......Page 460
--- schematic band structure, 46 (2-3)......Page 0046
--- planar cell layout, 45......Page 45
2-2) thru  46 (2-3)......Page 46
--- microcavity lasers, 732......Page 732
40-3) thru  733 (40-4)......Page 733
--- types, 731 (40-2)......Page 0731
--- 615 (32-8)......Page 0615
--- 617 (32-10)......Page 0617
--- exciton polariton, 616 (32-9)......Page 0616
--- intermolecular interactions, 613 (32-6)......Page 0613
Relevant nanometric subsystem, 614 (32-7) thru......Page 0614
--- Yukawa functions, 618 (32-11)......Page 0618
19-15) thru  373 (19-16)......Page 373
19-16) thru  374 (19-17)......Page 374
--- throughput, 372......Page 372
Electron–phonon interactions, 205......Page 205
10-2),  210 (10-7),......Page 210
--- quantifying EPR entanglement, 37 (1-16)......Page 0037
--- (LBNL), 396 (20-3)......Page 0396
Excitation energy transfer, 654......Page 654
35-1) thru  656 (35-3)......Page 656
--- T-matrix method, 583 (30-2)......Page 0583
Power spectral density (PSD), 397 (20-4)......Page 0397
Laser-produced plasma EUV source, 403 (20-10)......Page 0403
--- unit cell, 401......Page 401
--- 2008......Page 2008
--- defectivity, 404......Page 404
20-11) thru  405 (20-12)......Page 405
--- optics and mask contamination, 406 (20-13)......Page 0406
--- ASML, 398......Page 398
--- CAD model, 399......Page 399
--- interference lithography, 400......Page 400
--- 400 (20-7)......Page 0400
--- six-mirror imaging system, 399 (20-6)......Page 0399
--- immersion lithography, 408 (20-15)......Page 0408
--- 396......Page 396
20-3) thru  397 (20-4)......Page 397
--- projection optics, 395......Page 395
--- Rayleigh equation, 407......Page 407
20-14) thru  408 (20-15)......Page 408
--- feedback-controlled nanocantilevers, 81 (3-12)......Page 0081
--- vertically aligned carbon nanotubes, 82 (3-13)......Page 0082
van Roosbroeck thru Shockly relation, 419 (21-6)......Page 0419
--- thermodynamic theory, 132 (6-3)......Page 0132
--- FeRAM, 47......Page 47
Phase-change RAM (PCRAM), 48......Page 48
4-1) thru  93 (4-2)......Page 93
--- micromagnetic simulations, 94......Page 94
--- thru 99 (4-8)......Page 0099
Ferromagnetic rings, 100 (4-9)......Page 0100
--- 98 (4-7)......Page 0098
4-9) thru  101 (4-10)......Page 101
4-10) thru  102 (4-11)......Page 102
ferromagnetism, 92......Page 92
van den Berg’s ferromagnetic islands, 94 (4-3)......Page 0094
--- honeycomb structure, 104 (4-13)......Page 0104
--- 103 (4-12)......Page 0103
--- spin ice state, 102 (4-11)......Page 0102
--- Py dipole arrays, 103......Page 103
4-12) thru  104 (4-13)......Page 104
4-3) thru  96 (4-5)......Page 96
Rectangular and elliptical islands, 97 (4-6) thru......Page 0097
Fick’s first law, 226......Page 226
11-3) thru  227 (11-4)......Page 227
--- 658 (35-5)......Page 0658
Floating nano-dots, 109 (5-2)......Page 0109
--- fractals in nature, 329......Page 329
--- SnPT?, 330......Page 330
17-13) thru  331 (17-14)......Page 331
10-11) thru  216 (10-13)......Page 216
10-13) thru  218 (10-15)......Page 218
--- 280......Page 280
--- C60, 285......Page 285
15-10) thru  286 (15-11)......Page 286
15-5) thru  282 (15-7)......Page 282
--- solid crystals, 276......Page 276
15-1) thru  277 (15-2)......Page 277
--- photoluminescence spectrum, 283 (15-8)......Page 0283
--- third nonlinear susceptibility, 284 (15-9)......Page 0284
7-15) thru  168 (7-17)......Page 168
7-17) thru  169 (7-18)......Page 169
--- sapphire substrate, 661 (35-8)......Page 0661
magnetic multilayers, 256......Page 256
7-14) thru  166 (7-15)......Page 166
1-8) thru  30 (1-9)......Page 30
1-9) thru  33 (1-12)......Page 33
positive and negative tone resist, 361 (19-4)......Page 0361
--- Hamiltonian model, 618......Page 618
--- Helmholtz equation, 611 (32-4)......Page 0611
--- memory retrieval, 646......Page 646
--- unscalable design, 647......Page 647
--- 709......Page 709
--- nanoparticles, 710......Page 710
--- bridge molecules, 710 (38-15)......Page 0710
38-15) thru  711 (38-16)......Page 711
--- electron and hole states, 52 (2-9)......Page 0052
--- fabrication, 51 (2-8)......Page 0051
2-7) thru  51 (2-8)......Page 51
--- DUV lithography, 368......Page 368
19-11) thru  369 (19-12)......Page 369
17-3) thru  321 (17-4)......Page 321
9-7) thru  197 (9-8)......Page 197
--- curves, 207......Page 207
--- polaron effects, 214......Page 214
--- polaronic shift, 210 (10-7)......Page 0210
--- 211......Page 211
--- in InGaAs/GaAs QD, 60 (2-17)......Page 0060
--- thru 61 (2-18)......Page 0061
--- 63 (2-20)......Page 0063
--- optical gain calculations, 740 (40-11) thru......Page 0740
Kohn–Sham equation, 464 (24-7)......Page 0464
--- plasmon angular frequency, 465 (24-8)......Page 0465
1-4) thru  27 (1-6)......Page 27
--- 28......Page 28
--- Josephson effect, 153......Page 153
--- Taylor expansion, 533 (27-4)......Page 0533
--- LLGS equation, 177 (8-6)......Page 0177
--- microscopic generalization, 743 (40-14) thru......Page 0743
--- photon statistics modifications, 744 (40-15)......Page 0744
--- lift-off technique, 136 (6-7)......Page 0136
1-7) thru  29 (1-8)......Page 29
--- thru 29 (1-8)......Page 0029
Low-dimensional sp2 carbon structures, 155 (7-4)......Page 0155
--- thru 156 (7-5)......Page 0156
--- (LECBD), 470 (24-13)......Page 0470
Magnetically ordered materials, 172......Page 172
8-1) thru  173 (8-2)......Page 173
--- three well model, 227 (11-4)......Page 0227
--- 228......Page 228
11-5) thru  229 (11-6)......Page 229
--- self-assemble, 228 (11-5)......Page 0228
Magnetocrystalline anisotropy, 95 (4-4)......Page 0095
Tunnel magnetoresistance (TMR) effect, 48 (2-5)......Page 0048
--- 404 (20-11)......Page 0404
Maxwell–Garnett theory, 471 (24-14)......Page 0471
--- nonlinear polarization, 517 (26-8)......Page 0517
--- SHG angular distribution, 519 (26-10)......Page 0519
--- Gaussian properties, 520 (26-11)......Page 0520
--- radiation pattern, 518 (26-9)......Page 0518
--- 516 (26-7)......Page 0516
24-14) thru  472 (24-15)......Page 472
--- SPR, 473......Page 473
--- discrete dipole approximation, 476 (24-19)......Page 0476
Monte Carlo simulation, 477 (24-20)......Page 0477
--- spectra, 477......Page 477
24-20) thru  478 (24-21)......Page 478
--- resonance, 459......Page 459
--- plasma frequency, 460 (24-3)......Page 0460
--- Kramers–Kronig relationship, 461 (24-4)......Page 0461
24-10),  469 (24-12)......Page 469
--- physical methods, 470......Page 470
--- optical spectroscopy, 471......Page 471
--- silver clusters, 474 (24-17)......Page 0474
--- TDLDA, 475 (24-18)......Page 0475
24-16) thru  474 (24-17)......Page 474
--- boundary conditions for potential, 111 (5-4)......Page 0111
--- polarization influence, 113......Page 113
5-6) thru  114 (5-7)......Page 114
--- vs. classical approximation, 114 (5-7) thru......Page 0114
--- method of images, 111......Page 111
5-4) thru  112 (5-5)......Page 112
--- 112 (5-5)......Page 0112
--- potential, 113 (5-6)......Page 0113
Thermionic emission (TE) theory, 253 (13-2)......Page 0253
MS contacts, 252......Page 252
13-1) thru  253 (13-2)......Page 253
13-3) thru  255 (13-4)......Page 255
13-5) thru  257 (13-6)......Page 257
--- organic semiconductor as top layer, 257 (13-6)......Page 0257
--- J–V characteristic, 254......Page 254
--- 553 (28-10)......Page 0553
28-7) thru  551 (28-8)......Page 551
28-8) thru  552 (28-9)......Page 552
28-3) thru  548 (28-5)......Page 548
28-2) thru  546 (28-3)......Page 546
--- nonlinear optics, 545......Page 545
--- (VCSELs), 732 (40-3)......Page 0732
24-6),  467......Page 467
--- dimensionality role, 752......Page 752
41-7) thru  755 (41-8)......Page 755
--- temperature resilience, 756 (41-9)......Page 0756
physics and devices, 750 (41-3)......Page 0750
--- requirements, 750......Page 750
Self-phase modulation (SPM), 751......Page 751
--- MBE, 134......Page 134
Sputter deposition, 135......Page 135
--- nanostructures, 233......Page 233
11-10) thru  234 (11-11)......Page 234
--- 230 (11-7)......Page 0230
11-6) thru  230 (11-7)......Page 230
11-7) thru  231 (11-8)......Page 231
--- Si template, SEM image, 232 (11-9)......Page 0232
--- Rabi oscillation, 192 (9-3)......Page 0192
--- generalized master equation, 193 (9-4)......Page 0193
Rabi oscillation, 192......Page 192
9-3) thru  193 (9-4)......Page 193
12-8) thru  246 (12-9)......Page 246
--- Moore’s law, 238......Page 238
--- 239......Page 239
Tunneling magnetoresistance (TMR), 147 (6-18)......Page 0147
--- polymeric film property, 704......Page 704
38-9) thru  705 (38-10)......Page 705
--- bodies and surfaces, 332 (17-15)......Page 0332
--- concrete technology, 335......Page 335
17-4) thru  322 (17-5)......Page 322
17-5) thru  324 (17-7)......Page 324
17-9) thru  327 (17-10)......Page 327
--- crossbar comparison, 328......Page 328
17-18) thru  336 (17-19)......Page 336
multiplicative route—SnPT?, 325 (17-8) thru......Page 0325
--- three-terminal molecules, 326 (17-9) thru......Page 0326
Spacer patterning technique (SPT), 321 (17-4) thru......Page 0321
nonvolatile random access memory, 79 (3-10)......Page 0079
--- thru 80 (3-11)......Page 0080
--- scatterometry measurements, 383 (19-26)......Page 0383
Spacer double patterning method, 382 (19-25)......Page 0382
--- thru 379 (19-22)......Page 0379
UV NIL, 376 (19-19)......Page 0376
--- template fabrication and availability, 378 (19-21)......Page 0378
--- overlay accuracy and control, 380 (19-23)......Page 0380
--- residual layer control, 379......Page 379
--- technology examples, 380......Page 380
--- 378......Page 378
Thermal NIL, 375......Page 375
19-18) thru  376 (19-19)......Page 376
19-19) thru  377 (19-20)......Page 377
--- base quencher additives, 363 (19-6) thru......Page 0363
--- residual swelling fraction, 364 (19-7)......Page 0364
--- resist materials, 361......Page 361
19-4) thru  362 (19-5)......Page 362
19-5) thru  363 (19-6)......Page 363
--- inverse Fourier transform, 585 (30-4)......Page 0585
--- 586 (30-5)......Page 0586
normal modes, 587 (30-6)......Page 0587
--- 591 (30-10)......Page 0591
30-6) thru  589 (30-8)......Page 589
--- angle, 590......Page 590
--- scattered field calculation, 587......Page 587
30-9) thru  591 (30-10)......Page 591
--- cavity fill process, 343......Page 343
--- optical grating creation, 344......Page 344
--- antireflective structure creation, 345 (18-6)......Page 0345
--- resolution limit, 343 (18-4)......Page 0343
--- laser radiation property, 716......Page 716
--- in-plane laser, 717......Page 717
--- schematic representation, 720......Page 720
--- plasmonic lasers, 723......Page 723
39-2) thru  719 (39-4)......Page 719
39-10) thru  726 (39-11)......Page 726
21-7) thru  421 (21-8)......Page 421
--- quantum well, 422......Page 422
--- luminescence spectra, 440......Page 440
22-1) thru  441 (22-2)......Page 441
--- 414......Page 414
21-1) thru  415 (21-2)......Page 415
21-9) thru  423 (21-10)......Page 423
--- electron wavefunction, 423 (21-10)......Page 0423
--- polarization anisotropy, 424 (21-11)......Page 0424
--- 426 (21-13)......Page 0426
--- optical absorption, 427 (21-14)......Page 0427
--- transition matrix element, 425 (21-12) thru......Page 0425
--- light emission theory, 419......Page 419
--- polarization, 420......Page 420
6-8) thru  139 (6-10)......Page 139
6-10) thru  140 (6-11)......Page 140
--- XRD, 137......Page 137
Pulsed laser deposition (PLD), 135 (6-6)......Page 0135
6-6) thru  136 (6-7)......Page 136
--- Josephson junctions, 147......Page 147
6-18) thru  148 (6-19)......Page 148
6-14) thru  144 (6-15)......Page 144
6-15) thru  145 (6-16)......Page 145
--- strain effect, 143......Page 143
--- “Research triangle,” 130 ......Page 130
6-1) thru 1131 (6-2)......Page 131
22-3) thru  443 (22-4)......Page 443
--- decay times, 444......Page 444
--- unique exciton energy transfer, 444 (22-5)......Page 0444
22-4) thru  445 (22-6)......Page 445
--- 636 (33-11)......Page 0636
--- 637 (33-12)......Page 0637
nutation frequency evaluation, 677 (36-10)......Page 0677
--- 675 (36-8)......Page 0675
--- schematic depict, SQW, 676 (36-9)......Page 0676
--- structures, 674......Page 674
36-7) thru  675 (36-8)......Page 675
--- switching operation, 677......Page 677
36-7) thru  678 (36-11)......Page 678
--- dots, 627......Page 627
nanophotonic AND gate, 657 (35-4) thru......Page 0657
nanophotonic NOT gate, 658......Page 658
Optical nanofountain, 659......Page 659
--- photonic devices interconnection, 659 (35-6)......Page 0659
--- energy diagram, 673 (36-6)......Page 0673
--- discrete energy levels, 668......Page 668
--- AND and XOR logic gates, 635 (33-10) thru......Page 0635
--- 637......Page 637
--- thru 634 (33-9)......Page 0634
selective energy transfer, 634......Page 634
35-10) thru  664 (35-11)......Page 664
34-7) thru  648 (34-9)......Page 648
--- 646 (34-7)......Page 0646
Optical near-field (ONF), 649......Page 649
--- 643 (34-4)......Page 0643
--- 644 (34-5)......Page 0644
--- memory-based architecture, 642 (34-3) thru......Page 0642
--- secure signal transfer, 644......Page 644
34-5) thru  645 (34-6)......Page 645
34-10) thru  651 (34-12)......Page 651
--- TE–TM splitting, 690 (37-11)......Page 0690
--- Fresnel formulae, 689 (37-10)......Page 0689
37-7) thru  687 (37-8)......Page 687
37-8) thru  688 (37-9)......Page 688
37-5) thru  686 (37-7)......Page 686
--- prism coupling, 687 (37-8)......Page 0687
--- pump-and-probe (PP) method, 684 (37-5),......Page 0684
--- 683......Page 683
--- 684......Page 684
--- 685 (37-6)......Page 0685
37-5) thru  685 (37-6)......Page 685
--- light amplification, 691......Page 691
37-12) thru  692 (37-13)......Page 692
--- PL spectra, 692 (37-13)......Page 0692
--- SiO2 film, 682 (37-3)......Page 0682
Plasmonic waveguides, 680......Page 680
37-1) thru  681 (37-2)......Page 681
--- density of states, 451......Page 451
23-2) thru  452 (23-3)......Page 452
--- 453 (23-4)......Page 0453
nanostructure, 451 (23-2)......Page 0451
--- 453......Page 453
23-4) thru  454 (23-5)......Page 454
--- spatial electron confinement, 452 (23-3) thru......Page 0452
--- exchange interactions, 175 (8-4)......Page 0175
--- external bias field, 176 (8-5)......Page 0176
8-4) thru  176 (8-5)......Page 176
--- spin-transfer torque effects, 177......Page 177
1-1),  174......Page 174
--- magnetostatic interactions, 175......Page 175
--- magnetometry applications, 164......Page 164
--- 165......Page 165
--- 165 (7-14)......Page 0165
7-10) thru  162 (7-11)......Page 162
7-11) thru  163 (7-12)......Page 163
--- basic properties, 721 (39-6)......Page 0721
39-5) thru  721 (39-6)......Page 721
39-6) thru  722 (39-7)......Page 722
15-5) thru  281 (15-6)......Page 281
--- growth time dependence, 672 (36-5)......Page 0672
36-5) thru  673 (36-6)......Page 673
--- photon flux relationship, 662 (35-9)......Page 0662
35-6) thru  660 (35-7)......Page 660
35-7) thru  661 (35-8)......Page 661
Nonadiabatic photolithography, 663 (35-10)......Page 0663
--- 540 (27-11)......Page 0540
--- method, 538 (27-9)......Page 0538
--- lithium tetramer, 539 (27-10)......Page 0539
--- excitation frequency, 540......Page 540
27-11) thru  541 (27-12)......Page 541
--- (GGA) technique, 535 (27-6)......Page 0535
27-5) thru  535 (27-6)......Page 535
27-6) thru  537 (27-8)......Page 537
--- mean dipole polarizability, 534......Page 534
--- 538......Page 538
27-9) thru  539 (27-10)......Page 539
Time-dependent Kohn–Sham equation, 532 (27-3)......Page 0532
thru 241 (12-4)......Page 0241
--- global summation, 641......Page 641
34-2) thru  642 (34-3)......Page 642
--- light–matter interactions, 641 (34-2)......Page 0641
32-5) thru  613 (32-6)......Page 613
--- 614......Page 614
22-6) thru  446 (22-7)......Page 446
--- thru 420 (21-7)......Page 0420
--- am-bipolar operations, 292......Page 292
--- 292 (15-17)......Page 0292
--- effects, 266......Page 266
--- sweep rate effect, 268......Page 268
Photolithography, 340......Page 340
18-1) thru  342 (18-3); see also......Page 342
--- energy-band diagram, 484......Page 484
25-1) thru  485 (25-2)......Page 485
--- surface-to-volume (STV) ratio, 485 (25-2) thru......Page 0485
--- relaxation process, 494 (25-11)......Page 0494
--- excitons, 491 (25-8)......Page 0491
25-6) thru  490 (25-7)......Page 490
25-7) thru  491 (25-8)......Page 491
--- PL decay time, 493 (25-10)......Page 0493
Thomas–Reiche–Kuhn sum rule, 496 (25-13)......Page 0496
spin-orbit interaction, 495 (25-12)......Page 0495
25-13) thru  497 (25-14)......Page 497
24-8),  498 (25-15)......Page 498
--- 496......Page 496
surface passivation, 492 (25-9)......Page 0492
--- radiative process, 497 (25-14)......Page 0497
--- synthesis, 486......Page 486
--- resonant coupling condition, 500 (25-17)......Page 0500
--- valence-ISL (VISL), 503 (25-20)......Page 0503
polaron formation mechanism, 501 (25-18)......Page 0501
polar optical phonon, 502 (25-19)......Page 0502
--- laser pyrolysis technique, 504 (25-21)......Page 0504
phonon dispersion relation, 499 (25-16)......Page 0499
--- spectra, 502......Page 502
--- Si–O vibration, 503......Page 503
25-15) thru  499 (25-16)......Page 499
25-16) thru  500 (25-17)......Page 500
25-20) thru  504 (25-21)......Page 504
--- Hamiltonian operator, 611......Page 611
--- virtual photon cloud, 612......Page 612
--- effective spatial wave function, 610 (32-3)......Page 0610
--- Davydov transformation, 619 (32-12) thru......Page 0619
32-13),  623 (32-16)......Page 623
32-7) thru  615 (32-8)......Page 615
--- thru 621 (32-14)......Page 0621
--- 622 (32-15)......Page 0622
--- quasiparticle and coherent state, 620 (32-13)......Page 0620
--- wave function definition, 609......Page 609
32-2) thru  610 (32-3)......Page 610
19-6) thru  364 (19-7)......Page 364
Piezoresponse force microscopy (PFM), 141 (6-12)......Page 0141
--- refractive index, 514 (26-5)......Page 0514
5-12) thru  120 (5-13)......Page 120
5-17) thru  125 (5-18)......Page 125
--- 520......Page 520
26-11) thru  522 (26-13)......Page 522
--- semiconductor nanostructures, 511 (26-2)......Page 0511
--- optical properties, 512 (26-3)......Page 0512
--- 516......Page 516
26-7) thru  517 (26-8)......Page 517
--- metal nanostructures, 513......Page 513
26-4) thru  514 (26-5)......Page 514
photoconductivity, 511......Page 511
26-2) thru  512 (26-3)......Page 512
--- longitudinal plasmon shift, 525 (26-16) thru......Page 0525
--- self-assembling, 524......Page 524
26-15) thru  525 (26-16)......Page 525
--- luminescence polarization ratio, 523 (26-14)......Page 0523
polarization antimemory, 524 (26-15)......Page 0524
Poynting vector, 515 (26-6)......Page 0515
--- in RWA, 25......Page 25
Quantum Faraday effect, 34......Page 34
--- description, 35......Page 35
--- Leuenberger’s scheme, 39 (1-18)......Page 0039
1-14) thru  36 (1-15)......Page 36
1-16) thru  39 (1-18)......Page 39
1-18) thru  41 (1-20)......Page 41
--- double-well potential, 32 (1-11)......Page 0032
--- 31 (1-10)......Page 0031
40-12) thru  742 (40-13)......Page 742
40-13) thru  743 (40-14)......Page 743
--- material systems, 730......Page 730
40-1) thru  731 (40-2)......Page 731
--- ?-factor, 741......Page 741
--- 741 (40-12)......Page 0741
--- optical susceptibility, 739......Page 739
40-10) thru  740 (40-11)......Page 740
--- carrier–phonon interaction, 737 (40-8) thru......Page 0737
--- hysteresis measurements, 65 (2-22)......Page 0065
--- write time measurements, 65......Page 65
2-22) thru  66 (2-23)......Page 66
Quantum teleportation, 37......Page 37
--- 304......Page 304
9-3),  577......Page 577
29-16) thru  580 (29-19)......Page 580
--- thru 27 (1-6)......Page 0027
--- 139 (6-10)......Page 0139
SHG selection rules, 550 (28-7)......Page 0550
--- retardation effects, 549 (28-6)......Page 0549
--- long-wavelength limit, 550......Page 550
--- resonant metal particles, 547 (28-4) thru......Page 0547
--- lithographed nanorods, 555 (28-12) thru......Page 0555
--- nonlinear optical behavior, 556 (28-13) thru......Page 0556
SHG efficiency, 557 (28-14)......Page 0557
28-12) thru  557 (28-14)......Page 557
28-14) thru  558 (28-15)......Page 558
SNOM, 554......Page 554
Second harmonic maps, 555......Page 555
--- barrier, 61......Page 61
storage time, 63......Page 63
2-20) thru  64 (2-21)......Page 64
--- FEM approach, 126......Page 126
5-19) thru  128 (5-21)......Page 128
39-2) thru  718 (39-3)......Page 718
--- excitation field possess, 574 (29-13)......Page 0574
S-matrix, 573 (29-12)......Page 0573
--- phase factor, 575 (29-14)......Page 0575
--- Pauli blocking spectrum, 576 (29-15)......Page 0576
--- 569 (29-8)......Page 0569
--- Helmholtz’s theorem, 568 (29-7)......Page 0568
--- rotating wave approximation, 570 (29-9)......Page 0570
--- thru 571 (29-10)......Page 0571
--- interband polarization, 579 (29-18)......Page 0579
--- integro-differential operator, 578 (29-17)......Page 0578
spatial field operators, 565 (29-4)......Page 0565
spin-orbit interaction, 566 (29-5)......Page 0566
Schrieffer?Wolff transformation, 564 (29-3)......Page 0564
--- imaging, 456 (23-7)......Page 0456
--- incident laser intensity, 455......Page 455
--- two-photon sensitizer, 456......Page 456
23-7) thru  457 (23-8)......Page 457
--- 487 (25-4)......Page 0487
--- (HAADF) detector, 489......Page 489
--- (TEM), 488 (25-5)......Page 0488
silicon/SiO2 serial sputtering, 489 (25-6)......Page 0489
--- vs. metallic approximation, 124 (5-17) thru......Page 0124
--- meshing optimization, 123 (5-16)......Page 0123
--- mesh algorithm, 122 (5-15)......Page 0122
--- vs. metallic approximation, 124......Page 124
--- Bob’s quantum dot, 40 (1-19)......Page 0040
--- Lorentzian function, 442 (22-3)......Page 0442
--- PL spectrum, 442......Page 442
--- 110......Page 110
--- quantization effects, 116......Page 116
--- multiple electrons, 119......Page 119
5-9) thru  117 (5-10)......Page 117
--- quantum dot with single electron, 117 (5-10)......Page 0117
second electron addition, 118 (5-11) thru......Page 0118
--- 119 (5-12)......Page 0119
--- 184 (8-13)......Page 0184
Spintronics, 22......Page 22
--- high-frequency irradiation, 160 (7-9) thru......Page 0160
7-4) thru  156 (7-5)......Page 156
--- magnetometry applications, 164 (7-13) thru......Page 0164
--- tunability of the phase shift, 162 (7-11) thru......Page 0162
--- 163 (7-12)......Page 0163
--- normal electron transport, 154 (7-3)......Page 0154
--- electrode CS, 271......Page 271
14-12) thru  272 (14-13)......Page 272
--- IDS–VG curves, 271 (14-12)......Page 0271
--- surface band bending, 272 (14-13)......Page 0272
14-9) thru  270 (14-11)......Page 270
Three-terminal molecules, 326......Page 326
--- (TD LDA), 464......Page 464
TMOS, schematic behavior, 108......Page 108
5-1) thru  109 (5-2)......Page 109
--- quantum effects, 242......Page 242
--- SET, 245......Page 245
12-2) thru  240 (12-3)......Page 240
--- process, 416......Page 416
21-3) thru  417 (21-4)......Page 417
--- Monte Carlo simulation, 417 (21-4)......Page 0417
--- 433 (21-20)......Page 0433
21-17) thru  431 (21-18)......Page 431
21-18) thru  432......Page 432
21-19),  434 (21-21)......Page 434
--- degree of polarization, 431 (21-18)......Page 0431
--- electron confinement energy, 429 (21-16)......Page 0429
--- CL spectra, 430......Page 430
--- phonon scattering process, 430 (21-17)......Page 0430
--- SEM image, 428......Page 428
21-15) thru  429 (21-16)......Page 429
--- fitting function, 435 (21-22)......Page 0435
--- wurtzite-type semiconductor, 434 (21-21)......Page 0434
--- polarization ratio, 436 (21-23)......Page 0436
--- smoke particles, 435......Page 435
21-22) thru  436 (21-23)......Page 436
--- broad gain bandwidth, 754 (41-7)......Page 0754
41-5) thru  753 (41-6)......Page 753
--- materials and growth, 753 (41-6)......Page 0753
ultrafast carrier dynamics, 754......Page 754
--- H-terminated Si (111) surfaces, 286 (15-11)......Page 0286
--- thru 289 (15-14)......Page 0289
--- thru 287 (15-12)......Page 0287
--- 262 (14-3)......Page 0262
--- nanowires, 264......Page 264
14-5) thru  265 (14-6)......Page 265
--- 264 (14-5)......Page 0264
--- measurements, 138 (6-9)......Page 0138
--- rf measurement setup, 310......Page 310
16-13) thru  311 (16-14)......Page 311
--- 266 (14-7)......Page 0266
--- FET, 262......Page 262
14-3) thru  263 (14-4)......Page 263
--- enhancement-mode, 270 (14-11)......Page 0270
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