ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Simulation of Semiconductor Processes and Devices 2004

دانلود کتاب شبیه سازی فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی 2004

Simulation of Semiconductor Processes and Devices 2004

مشخصات کتاب

Simulation of Semiconductor Processes and Devices 2004

ویرایش: 1 
نویسندگان: , , , ,   
سری:  
ISBN (شابک) : 9783709172124, 9783709106242 
ناشر: Springer-Verlag Wien 
سال نشر: 2004 
تعداد صفحات: 385 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 31 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 55,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب شبیه سازی فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی 2004: الکترونیک و میکروالکترونیک، ابزار دقیق، مواد نوری و الکترونیک، نانوتکنولوژی، هوش محاسباتی، شبیه سازی و مدل سازی



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 18


در صورت تبدیل فایل کتاب Simulation of Semiconductor Processes and Devices 2004 به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب شبیه سازی فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی 2004 نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب شبیه سازی فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی 2004



این جلد شامل مجموعه مقالات دهمین ویرایش کنفرانس بین المللی شبیه سازی فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی (SISPAD 2004) است که در مونیخ آلمان در تاریخ 2-4 سپتامبر 2004 برگزار شد. برنامه کنفرانس شامل 7 سخنرانی عمومی دعوت شده بود. و 82 مقاله برای ارائه شفاهی یا پوستری، که از مجموع 151 چکیده ارسال شده از 14 کشور در سراسر جهان با دقت انتخاب شدند. مانند جلسات قبلی، SISPAD 2004 یک انجمن جهانی برای ارائه و بحث در مورد پیشرفت‌ها و پیشرفت‌های اخیر در توصیف نظری، مدل‌سازی فیزیکی و شبیه‌سازی عددی و تجزیه و تحلیل فرآیندهای ساخت نیمه‌رسانا، عملکرد دستگاه و عملکرد سیستم فراهم کرد. تنوع موضوعات تحت پوشش کنفرانس، اثرات فیزیکی و مشکلات تکنولوژیکی را که در نتیجه کاهش تدریجی ابعاد دستگاه و پیچیدگی روزافزون در فناوری دستگاه با آن مواجه می‌شوند، منعکس می‌کند.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

This volume contains the proceedings of the 10th edition of the International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD 2004), held in Munich, Germany, on September 2-4, 2004. The conference program included 7 invited plenary lectures and 82 contributed papers for oral or poster presentation, which were carefully selected out of a total of 151 abstracts submitted from 14 countries around the world. Like the previous meetings, SISPAD 2004 provided a world-wide forum for the presentation and discussion of recent advances and developments in the theoretical description, physical modeling and numerical simulation and analysis of semiconductor fabrication processes, device operation and system performance. The variety of topics covered by the conference contributions reflects the physical effects and technological problems encountered in consequence of the progressively shrinking device dimensions and the ever-growing complexity in device technology.



فهرست مطالب

Front Matter....Pages i-xii
Advanced Transport Models for Sub-Micrometer Devices....Pages 1-8
NEMO 1-D: the first NEGF-based TCAD tool....Pages 9-12
The Density-Gradient Correction as a Disguised Pilot Wave of de Broglie....Pages 13-16
Full Band and Approximated Solutions of the Schrödinger Equation in Silicon Inversion layers....Pages 17-20
A Hybrid 3D Quantum Mechanical Simulation of FinFETs and Nanowire Devices....Pages 21-24
On the Calculation of Quasi-Bound States and Their Impact on Direct Tunneling in CMOS Devices....Pages 25-28
Quantum Mechanical Simulation in DG MOSFETs Based on a Tight Binding Green’s Function Formalism....Pages 29-32
Modeling B Uphill Diffusion in the Presence of Ge....Pages 33-36
Ab-initio Calculations to Predict Stress Effects on Boron Solubility in Silicon....Pages 37-40
Boron Diffusion in Strained and Strain-Relaxed SiGe....Pages 41-44
Modeling dopant diffusion in SiGe and SiGeC layers....Pages 45-48
Continuum Modeling of Indium to Predict SSR Profiles....Pages 49-52
Theoretical Analysis of Stress and Surface Orientation Effects on Inversion Carrier Mobility....Pages 53-56
CMOS Circuit Performance Enhancement by Surface Orientation Optimization....Pages 57-60
Modeling of Stress Induced Layout Effect on Electrical Characteristics of Advanced MOSFETs....Pages 61-64
Hole Mobility Enhancement Modeling and Scaling Study for High Performance Strained Ge Buried Channel PMOSFETs....Pages 65-68
Three-Dimensional Characterization and Modeling of Stress Distribution in High-Density DRAM Memory Cells....Pages 69-72
Strain Optimization to Reduce Gate Leakage Current in MOS Transistors with Silicon Oxynitride Gate Dielectrics by Use of First-Principles Calculations....Pages 73-76
Simulation Study of Simple CMOS-Compatible Thin-SOI Vertical Bipolar Transistors on Thin BOX with an Inversion Collector....Pages 77-80
Current collapse associated with surface states in GaN-based HEMT’s. Theoretical/experimental investigations....Pages 81-84
Implications of Gate Misalignment for Ultra-narrow Multi-gate Devices....Pages 85-88
Source-Side Injection Modeling by Means of the Spherical-Harmonics Expansion of the BTE ....Pages 89-92
Investigation of a novel tunneling transistor by MEDICI simulation....Pages 93-96
Optimization of BAW resonator performance using combined simulation techniques....Pages 97-100
Simulation of GaN-based Light-Emitting Devices....Pages 101-108
On the Validity of the Relaxation Time Approximation for Macroscopic Transport Models....Pages 109-112
A Local Mobility Model for Ultra-Thin DGSOI nMOSFETs....Pages 113-116
On the Relationship Between Carrier Mobility and Velocity in Sub-50 nm MOSFETs via Calibrated Monte Carlo Simulation....Pages 117-120
A Method for Determining the Screening Length of the Coulombic Scattering in Non-Degenerate and Degenerate Semiconductors....Pages 121-124
3D Simulation of Process Effects Limiting FinFET Performance and Scalability....Pages 125-128
Full Three-Dimensional Analysis of a Non-Volatile Memory Cell....Pages 129-132
Three-Dimensional Simulation of Orientation-Dependent Wet Chemical Etching....Pages 133-136
Modeling CVD effects in Atomic Layer Deposition on the Feature Scale....Pages 137-140
Defect and Carrier Dynamics in Nanotubes under Electronic Excitations: Time-Dependent Density Functional Approaches....Pages 141-148
Three-Dimensional Analysis of Schottky Barrier Carbon Nanotube Field Effect Transistors....Pages 149-152
Numerical Performance Analysis of Carbon Nanotube (CNT) Embedded MOSFETs....Pages 153-156
Parameter Extraction and Validation of an Electronic and Optical Model for Organic Light-emitting Devices....Pages 157-160
Adaptive Surface Triangulations for 3D Process Simulation....Pages 161-164
Anisotropic Laplace Refinement for Three-Dimensional Oxidation Simulation....Pages 165-168
Monte Carlo Simulation of Ion Implantation in Silicon-Germanium Alloys....Pages 169-172
Comprehensive Understanding of Carrier Mobility in MOSFETs with Oxynitrides and Ultrathin Gate Oxides....Pages 173-180
Physics and Modeling of Radiation Effects in Advanced CMOS Technology Nodes....Pages 181-190
Very High Performance, Sub-20nm, Strained Si and Si x Ge 1-x , Hetero-structure, Center Channel (CC) NMOS and PMOS DGFETs....Pages 191-194
Scalability of FinFETs and Unstrained-Si/Strained-Si FDSOI-MOSFETs....Pages 195-198
Device performance in conventional and strained Si n -MOSFETs with high-κ gate stacks....Pages 199-202
Understanding the role of strain in Si-Ge devices....Pages 203-206
Electro-thermal Simulations of Strained-Si MOSFETs under ESD conditions....Pages 207-210
Simulation of the Cross-Coupling among Snap Back Devices under Transient High Current Stress....Pages 211-214
Simulation of the failure mechanism of power DMOS transistors under avalanche stress....Pages 215-218
An Accurate and Comprehensive Soft Error Simulator NISES II....Pages 219-222
Impact of Scattering on Random Dopant Induced Current Fluctuations in Decanano MOSFETs....Pages 223-226
Analysis of Random Doping and Oxide Thickness Induced Fluctuations in Nanoscale Semiconductor Devices through Poisson-Schrödinger Computations....Pages 227-230
Stable simulation of impurity fluctuation for contact resistance and Schottky diodes....Pages 231-234
Impact of the Floating Body Effect on Noise in SOI Devices Investigated by Hydrodynamic Simulation....Pages 235-238
Examination of Spatial Frequency Dependence of Line Edge Roughness on MOS Device Characteristics....Pages 239-242
Simulation of Lithography-caused Gate Length and Interconnect Linewidth Variational Impact on Circuit Performance in Nanoscale Semiconductor Manufacturing....Pages 243-246
Optimization of Recessed and Elevated Silicide Source/Drain Contact Structure Using Physical Compact Resistance Modeling and Simulation in Ultra-Thin Body SOI MOSFETs....Pages 247-250
A New Backscattering Model for Nano-MOSFET Compact Modeling....Pages 251-254
Fully-Depleted SOI-MOSFET Model for Circuit Simulation and its Application to 1/ f Noise Analysis....Pages 255-258
Modeling of Carrier Transport Dynamics at GHz-Frequencies for RF Circuit-Simulation....Pages 259-262
SPICE-Compatible Macro Model for Split-Gate Compact NVM Cell with Various Gap Sizes....Pages 263-266
SET Accurate Compact Model for SET-MOSFET Hybrid Circuit Simulation....Pages 267-270
2D Quantum Mechanical (QM) Charge Model and Its Application to Ballistic Transport of Sub-50nm Bulk Silicon MOSFETs....Pages 271-274
Effective Bohm Quantum Potential for device simulators based on drift-diffusion and energy transport....Pages 275-278
Single Ion and Multi Ion MOSFETs Simulation with Density Gradient Model....Pages 279-282
Modeling and Simulation of Combined Thermionic Emission-Tunneling Current through Interfacial Isolation Layer....Pages 283-286
Experiments on Minority Carrier Diffusion in Silicon: Contributions of Excitons....Pages 287-290
Accurate Temperature Drift model of MOSFETs Mobility for Analog Circuits....Pages 291-294
Accurate Modeling of Lattice Site-Dependent Ionization Level of Impurities in α-SiC Devices....Pages 295-298
Strain Scaling for Ultra Thin Silicon NMOS Devices....Pages 299-302
CMOS Scaling Analysis based on ITRS Roadmap by Three-dimensional Mixed-mode Device Simulation....Pages 303-306
Comparison of Nanoscale Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistors....Pages 307-310
Numerical analysis for the structure dependence on the subthreshold slope of Floating Channel type SGT(FC-SGT) Flash memory....Pages 311-314
A Monte-Carlo Method for Distribution of Standby Currents and its Application to DRAM Retention Time....Pages 315-318
Optimal Contact Placement in Partially Depleted SOI with Application to Raised Source-Drain Structures....Pages 319-322
Simulation of Microstructure Formation during Thin Film Deposition....Pages 323-326
Effect of Stress on Pattern-Dependent Oxidation of Silicon Nanostructures....Pages 327-330
The Evolution of the Resistance and Current Density During Electromigration....Pages 331-334
3-D Physically-Based Electromigration Simulation in Copper - Low-K Interconnect....Pages 335-338
3D Feature-Scale Simulation of Sputter Etching with Coupling to Equipment Simulation....Pages 339-342
Automatic Optimization Algorithm for a Direct 2D and 3D Mesh Generation from the Layout Information....Pages 343-346
Genetic Algorithm for Optimization and Calibration in Process Simulation....Pages 347-350
Performance Evaluation of Linear Solvers Employed for Semiconductor Device Simulation....Pages 351-354
An Analysis of the Effect of Surrounding Gate Structure on Soft Error Immuniy....Pages 355-358
Analytical Modeling of Ge and Si Double-Gate(DG) NFETs and the Effect of Process Induced Variations (PIV) on Device Performance....Pages 359-362
Proposal of a physics-based compact model for nanoscale MOSFETs including the transition from drift-diffusion to ballistic transport....Pages 363-366
A New Methodology for Efficient and Reliable Large- Signal Analysis of RF Power Devices....Pages 367-370
Small-Signal Modeling of RF CMOS....Pages 371-374




نظرات کاربران