Science and Technology of Thin Film Superconductors 2

این کنفرانس دومین کنفرانس علم و فناوری ابررساناهای لایه نازک است. ثابت کرد که این یک انجمن عالی برای این متخصصان در زمینه ابررسانایی لایه نازک است. این کنفرانس که از 30 آوریل تا 4 می 1990 در دنور، کلرادو برگزار شد، میزبان 170 محقق از 17 کشور بود. در پاسخ به کنفرانس مجدداً بر لزوم برگزاری نشستی به علم و فناوری ابررساناهای لایه نازک تأکید شد. گستردگی مقالات و پیشرفت های انجام شده در این فناوری از اولین کنفرانس در نوامبر 1988، نشان دهنده بلوغ موضوع است. این مقالات شامل مقالاتی در مورد روش‌های رسوب‌گذاری با کندوپاش، تبخیر پرتو الکترون الکترونیکی، تبخیر مقاومتی، فرسایش لیزری، رسوب‌دهی بخار شیمیایی و رسوب الکترونی و سایر مطالعات مربوط به بسترها، ترمودینامیک تشکیل، مرزهای دانه‌ها و پیوندهای ضعیف، خصوصیات و برخی کاربردهای عملی است. . کمیته برنامه از کیفیت انتشارات و مقالات ارائه شده راضی بود. این کنفرانس با یک روز fuU که به ارائه‌هایی از آزمایشگاه‌های فدرال اختصاص داده شده بود، در مورد طیف گسترده‌ای از موضوعات در مورد ساخت، توصیف و تئوری فیلم‌های نازک ابررسانا با دمای بالا بحث می‌کرد. سایر نکات برجسته در کنفرانس به (1) پارامترهای حیاتی یا مشکلات در اندازه گیری چگالی جریان بحرانی و سایر پارامترهای مهم، و (2) مشکلات افزایش مقیاس، تکرارپذیری، و سازگاری با ساخت دستگاه مربوط می شود. از ارائه‌ها مشخص شد که سه موضوع در حال تبدیل شدن به مسائل حیاتی برای کاربرد عملی نهایی لایه‌های نازک ابررسانا با دمای بالا هستند.

This conference is the second on the Science and Technology of Thin Film Superconductors. It proved to be an excellent forum for these specialists in thin film superconductivity. The conference, held April 30-May 4, 1990, in Denver, Colorado, hosted 170 researchers from 17 countries. The response to the conference again emphasized the need for a meeting devoted to the science and technology of thin film superconductors. The breadth of artic1es and advances made in this technology since the first conference in November 1988, reflect on the maturity of the topic. These proceedings contain artic1es on deposition methods by sputtering, e1ectron beam evaporation, resistive evaporation, laser ablation, chemical vapor deposition and electrodeposition, and on other studies related to substrates, thermodynamics of formation, grain boundaries and weak links, characterization, and some practical applications. The program committee was pleased with the quality of the publications and contributed articles. This conference was highlighted by a fuU day dedicated to presentations from the federallaboratories, discussing a wide range of topics on the fabrication, characterization, and theory of high-temperature superconductor thin films. Other highlights at the conference dealt with (1) critical parameters or problems in measuring critical current density and other important parameters, and (2) problems of scale-up, reproducibility, and amenability to device fabrication. It became evident from the presentations that three issues were developing into critical issues for the ultimate practical application of high­ temperature superconductor thin films.