ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Rapid Thermal Processing of Semiconductors

دانلود کتاب پردازش حرارتی سریع نیمه هادی ها

Rapid Thermal Processing of Semiconductors

مشخصات کتاب

Rapid Thermal Processing of Semiconductors

دسته بندی: ابزار
ویرایش: 1 
نویسندگان: ,   
سری: Microdevices 
ISBN (شابک) : 9781489918062, 9781489918048 
ناشر: Springer US 
سال نشر: 1997 
تعداد صفحات: 374 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 15 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 31,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب پردازش حرارتی سریع نیمه هادی ها: مواد نوری و الکترونیکی، فیزیک حالت جامد، طیف سنجی و میکروسکوپ



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 6


در صورت تبدیل فایل کتاب Rapid Thermal Processing of Semiconductors به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب پردازش حرارتی سریع نیمه هادی ها نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب پردازش حرارتی سریع نیمه هادی ها



پردازش حرارتی سریع به توسعه ابزارهای پردازش خوشه‌ای ویفر و سایر نوآوری‌ها در محیط‌های تولید مدار مجتمع کمک کرده است. Borisenko و Hesketh پیشرفت نظری و تجربی در این زمینه را بررسی می‌کنند و در مورد طیف وسیعی از مواد، فرآیندها و شرایط بحث می‌کنند. آنها به طور کامل کار بازرسان بین المللی در این زمینه را پوشش می دهند.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Rapid thermal processing has contributed to the development of single wafer cluster processing tools and other innovations in integrated circuit manufacturing environments. Borisenko and Hesketh review theoretical and experimental progress in the field, discussing a wide range of materials, processes, and conditions. They thoroughly cover the work of international investigators in the field.



فهرست مطالب

Front Matter....Pages i-xxii
Transient Heating of Semiconductors by Radiation....Pages 1-29
Recrystallization of Implanted Layers and Impurity Behavior in Silicon Crystals....Pages 31-91
Crystallization, Impurity Diffusion, and Segregation in Polycrystalline Silicon....Pages 93-111
Component Evaporation, Defect Annealing, and Impurity Diffusion in the III–V Semiconductors....Pages 113-148
Diffusion Synthesis of Silicides in Thin-Film Metal—Silicon Structures....Pages 149-191
Rapid Thermal Oxidation and Nitridation....Pages 193-252
Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition....Pages 253-300
Back Matter....Pages 301-358




نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی