Progress in SOI Structures and Devices Operating at Extreme Conditions

مروری بر خواص الکتریکی، عملکرد و مکانیسم‌های فیزیکی مواد و دستگاه‌های اصلی سیلیکون روی عایق (SOI). توجه ویژه ای به قابلیت اطمینان سازه های SOI که در شرایط سخت کار می کنند، می شود. بخش اول کتاب به فناوری مواد می پردازد و فناوری های SIMOX و ELTRAN، تکنیک برش هوشمند، ساختارهای SiCOI و رشد MBE را شرح می دهد. بخش دوم قابلیت اطمینان دستگاه‌هایی را که در شرایط شدید کار می‌کنند، با بررسی عملکرد دمای پایین و بالا ماسفت‌های زیر میکرونی عمیق و فناوری‌ها و مدارهای جدید SOI، SOI در محیط‌های سخت و ویژگی‌های اکسید مدفون را پوشش می‌دهد. بخش سوم به توصیف مواد و دستگاه‌های پیشرفته SOI می‌پردازد که لایه‌های SOI تبلور مجدد لیزری، ماسفت‌های SOI فوق‌کوتاه و نانوساختارها، دیودهای دروازه‌دار و دستگاه‌های SOI تولید شده با تکنیک‌های مختلف را پوشش می‌دهد. بخش آخر به بررسی چشم‌اندازهای آینده برای ساختارهای SOI، تجزیه و تحلیل تکنیک‌های پیوند ویفر، کاربردهای سیلیکون متخلخل اکسید شده، مواد سیلیکونی نیمه عایق، خود سازمان‌دهی نقاط و سیم‌های سیلیکونی در SOI و برخی پدیده‌های فیزیکی جدید می‌پردازد.

A review of the electrical properties, performance and physical mechanisms of the main silicon-on-insulator (SOI) materials and devices. Particular attention is paid to the reliability of SOI structures operating in harsh conditions. The first part of the book deals with material technology and describes the SIMOX and ELTRAN technologies, the smart-cut technique, SiCOI structures and MBE growth. The second part covers reliability of devices operating under extreme conditions, with an examination of low and high temperature operation of deep submicron MOSFETs and novel SOI technologies and circuits, SOI in harsh environments and the properties of the buried oxide. The third part deals with the characterization of advanced SOI materials and devices, covering laser-recrystallized SOI layers, ultrashort SOI MOSFETs and nanostructures, gated diodes and SOI devices produced by a variety of techniques. The last part reviews future prospects for SOI structures, analyzing wafer bonding techniques, applications of oxidized porous silicon, semi-insulating silicon materials, self-organization of silicon dots and wires on SOI and some new physical phenomena.