دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1 نویسندگان: Daniel M. Dobkin, Michael K. Zuraw (auth.) سری: ISBN (شابک) : 9789048162772, 9789401703697 ناشر: Springer Netherlands سال نشر: 2003 تعداد صفحات: 276 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 9 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب اصول رسوب شیمیایی بخار: خصوصیات و ارزیابی مواد، شیمی صنعتی/مهندسی شیمی، ساخت، ماشین آلات، ابزار، فیزیک هسته ای، یون های سنگین، هادرون ها
در صورت تبدیل فایل کتاب Principles of Chemical Vapor Deposition به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب اصول رسوب شیمیایی بخار نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
اصول رسوب بخار شیمیایی مقدمه ای ساده برای انتقال گرما و جرم، شیمی فاز سطحی و گازی، و ویژگی های تخلیه پلاسما فراهم می کند. علاوه بر این، این کتاب شامل بحث هایی درباره فیلم ها و راکتورهای عملی برای کمک به توسعه فرآیندها و تجهیزات بهتر است.
این کتاب به کارگرانی که تازه با رسوب بخار شیمیایی (CVD) آشنا شدهاند، کمک میکند تا راکتورها و فرآیندهای CVD را درک کنند و ادبیات موجود در این زمینه را درک کنند و از آن بهرهبرداری کنند. این کتاب چندین زمینه متفاوت را بررسی میکند که بسیاری از محققان ممکن است فقط با آنها آشنایی گذرا داشته باشند، مانند انتقال گرما و جرم، فیزیک تخلیه، و شیمی سطح، با تمرکز بر موضوعات کلیدی مرتبط با CVD. این کتاب همچنین نمونههایی از راکتورها و فرآیندهای صنعتی واقعی را با تجزیه و تحلیل سادهشده بررسی میکند تا نحوه اعمال اصول را در موقعیتهای عملی نشان دهد. این کتاب تلاشی برای بررسی جامع ادبیات یا ترساندن خواننده با دستگاه های ریاضی بی ربط ندارد. این کتاب تا حد امکان ساده است و در عین حال فیزیک و شیمی ضروری را حفظ کرده است. این کتاب سخاوتمندانه به تصویر کشیده شده است تا به خواننده کمک کند تا تصاویر ذهنی را که اساس درک است، شکل دهد.
Principles of Chemical Vapor Deposition provides a simple introduction to heat and mass transfer, surface and gas phase chemistry, and plasma discharge characteristics. In addition, the book includes discussions of practical films and reactors to help in the development of better processes and equipment.
This book will assist workers new to chemical vapor deposition (CVD) to understand CVD reactors and processes and to comprehend and exploit the literature in the field. The book reviews several disparate fields with which many researchers may have only a passing acquaintance, such as heat and mass transfer, discharge physics, and surface chemistry, focusing on key issues relevant to CVD. The book also examines examples of realistic industrial reactors and processes with simplified analysis to demonstrate how to apply the principles to practical situations. The book does not attempt to exhaustively survey the literature or to intimidate the reader with irrelevant mathematical apparatus. This book is as simple as possible while still retaining the essential physics and chemistry. The book is generously illustrated to assist the reader in forming the mental images which are the basis of understanding.
Front Matter....Pages i-xi
Introduction....Pages 1-8
Reactors Without Transport....Pages 9-25
Mass Transport....Pages 27-67
Heat Transport....Pages 69-93
Chemistry for CVD....Pages 95-148
Gas Discharge Plasmas For CVD....Pages 149-194
CVD Films....Pages 195-245
CVD Reactors....Pages 247-268
Back Matter....Pages 269-273