Planar Processing Primer

Planar Processing Primer بر اساس یادداشت‌های سخنرانی برای دوره سخنرانی/آزمایشگاه پردازش مسطح سیلیکونی است که برای بیش از پانزده سال در دانشگاه ایلینویز-UC ارائه شده است. این ماده که عمدتاً برای کلاس های بالای مهندسی برق و دانشجویان فارغ التحصیل طراحی شده است، همچنین توسط دانشجویان فارغ التحصیل در رشته های فیزیک و مهندسی سرامیک و متالورژی با موفقیت مورد استفاده قرار گرفته است. این برای خودآموزی توسط مهندسین آموزش دیده در رشته های دیگر که در حال شروع کار در زمینه های نیمه هادی هستند مناسب است و می تواند مهندسان طراحی مدار را از محدودیت های پردازشی که تحت آن باید کار کنند آگاه کند. متن مراحل اصلی پردازش مورد استفاده برای تبدیل سیلیکون خام به یک دستگاه نیمه هادی یا مدار مجتمع را در سطح مقدماتی توصیف و توضیح می دهد. مدل‌های مرتبه اول برای درمان‌های نظری (مانند انتشار و کاشت یون)، با ارجاع به درمان‌های پیشرفته‌تر، برنامه‌های رایانه‌ای مانند SUPREM که شامل جلوه‌های مرتبه بالاتر و برهمکنش‌های بین فرآیندهای متوالی هستند، استفاده می‌شوند. در فصل های 8، 9 و به آن، کاربرد فرآیندهای سیلیکونی در نیمه هادی های مرکب به طور خلاصه مورد بحث قرار گرفته است. در طول چند سال گذشته، اندازه ترانزیستورها به طور قابل توجهی کاهش یافته است، و به ترانزیستورهای بیشتری در واحد سطح تراشه اجازه می دهد، و اندازه تراشه افزایش یافته است.

Planar Processing Primer is based on lecture notes for a silicon planar process­ ing lecture/lab course offered at the University of Illinois-UC for over fifteen years. Directed primarily to electrical engineering upperclassmen and graduate students, the material also has been used successfully by graduate students in physics and ceramic and metallurgical engineering. It is suitable for self-study by engineers trained in other disciplines who are beginning work in the semiconductor fields, and it can make circuit design engineers aware of the processing limitations under which they must work. The text describes and explains, at an introductory level, the principal processing steps used to convert raw silicon into a semiconductor device or integrated circuit. First-order models are used for theoretical treatments (e.g., of diffusion and ion implantation), with reference made to more advanced treatments, to computer programs such as SUPREM that include higher order effects, and to interactions among sequential processes. In Chapters 8, 9, and to, the application of silicon processes to compound semiconductors is discussed briefly. Over the past several years, the size of transistors has decreased markedly, allowing more transistors per chip unit area, and chip size has increased.