ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Physical vapor deposition of thin films

دانلود کتاب رسوب بخار فیزیکی لایه های نازک

Physical vapor deposition of thin films

مشخصات کتاب

Physical vapor deposition of thin films

دسته بندی: فیزیک پلاسما
ویرایش:  
نویسندگان: ,   
سری:  
 
ناشر:  
سال نشر:  
تعداد صفحات: 323 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 5 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 35,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب رسوب بخار فیزیکی لایه های نازک: فیزیک، فیزیک پلاسما



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 22


در صورت تبدیل فایل کتاب Physical vapor deposition of thin films به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب رسوب بخار فیزیکی لایه های نازک نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب رسوب بخار فیزیکی لایه های نازک

Wiley, New York, 2000, 312 pp.
این کتاب ابتدا مقدمه ای بر اصول و سیستم های تخلیه مورد استفاده برای رسوب فیلم پلاسما ارائه می دهد. سپس تئوری جنبشی گازها ارائه می شود. مکانیسم های جذب و تراکم در سطح در نظر گرفته شده است. مروری کوتاه بر سیستم های خلاء، روش های ایجاد و کنترل خلاء ارائه شده است. منابع مبتنی بر تبخیر، سیستم‌های کندوپاش (RF، DC، مگنترون)، و همچنین مکانیسم‌های درگیر در فرآیند کندوپاش توضیح داده شده‌اند. کتاب با فصلی در مورد رسوب فیلم به پایان می رسد.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Wiley, New York, 2000, 312 c.
В книге сначала представлено введение о принципах и разрядных системах, используемых для плазменного осаждения пленок. Затем приведена кинетическая теория газов. Рассмотрены механизмы адсорбции и конденсации на поверхности. Дается краткий обзор о вакуумных системах, способах создания и контроля вакуума. Описаны источники, основанные на испарении, распылительные системы (RF, DC, магнетронные), а также механизмы, участвующие в процессе распыления. Завершает книгу глава об осаждении пленок.





نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی