دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Photomask Fabrication Technology (Professional Engineering)
دانلود کتاب فناوری ساخت ماسک عکس (مهندسی حرفه ای)
مشخصات کتاب
Photomask Fabrication Technology (Professional Engineering)
ویرایش: 1
نویسندگان: Benjamin Eynon. Banqiu Wu
سری:
ISBN (شابک) : 0071445633, 9780071445634
ناشر: McGraw-Hill Professional
سال نشر: 2005
تعداد صفحات: 589
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 5 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 76,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Photomask Fabrication Technology (Professional Engineering) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب فناوری ساخت ماسک عکس (مهندسی حرفه ای) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب فناوری ساخت ماسک عکس (مهندسی حرفه ای)
ماسکهای نوری، قالبهای نوری بدون عیب هستند - استادان چاپ برای ساخت مدارهای مجتمع (IC). هنگامی که اندازه ویژگی های IC کمتر از طول موج منبع ابزار نوردهی می شود، ساخت ماسک عکس دشوار می شود: ابعاد بحرانی ماسک (CD) و مشخصات قرار دادن ویژگی، سرمایه گذاری شدید تجهیزات سرمایه، مواد خام و برنامه های کاربردی منحصر به فرد، و الزامات تخصص ویژه برای تکنولوژیست های ساخت ماسک نوری برای ساخت میکروالکترونیک مدرن ضروری است. بنابراین رشد سریع اخیر این رشته و نیاز به این کتاب. این متن به جزئیات علم و فناوری تولید ماسکهای عکاسی صنعتی، از جمله اصول بنیادی، جریانهای تولید صنعتی، تکامل و توسعه فنآوری، و آخرین فنآوریها میپردازد. هدف این کتاب با تمرکز بر کاربردهای صنعتی به جای علم خالص، ارائه یک مرجع جامع برای هر مهندس در حال توسعه فرآیندهای تولید میکروالکترونیک است.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
Photomasks are defect-free optical templates -- the printing masters for the fabrication of integrated circuits (ICs). When IC feature sizes fall below the exposure tool’s source wavelength, photomask fabrication becomes difficult: very strict mask critical dimension (CD) and feature placement specifications, intensive capital equipment investment, unique raw materials and applications, and special expertise requirements for photomask fabrication technologists are necessary to fabricate modern microelectronics. Thus the rapid recent growth of the field and the need for this book. This text details the science and technology of industrial photomask production, including fundamental principles, industrial production flows, technological evolution and development, and state of the art technologies. Focusing on industrial applications rather than pure science, the goal of the book is to provide a comprehensive reference for any engineer developing microelectronic manufacturing processes
