دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1 نویسندگان: Jay R. Turner (auth.), K. L. Mittal (eds.) سری: ISBN (شابک) : 9781489935465, 9781489935441 ناشر: Springer US سال نشر: 1990 تعداد صفحات: 393 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 14 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب ذرات در گازها و مایعات 2: تشخیص ، توصیف و کنترل: شیمی فیزیک
در صورت تبدیل فایل کتاب Particles in Gases and Liquids 2: Detection, Characterization, and Control به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب ذرات در گازها و مایعات 2: تشخیص ، توصیف و کنترل نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این کتاب خلاصه مقالات دومین سمپوزیوم در مورد ذرات در گازها و مایعات: تشخیص، مشخصه سازی و کنترل است که به عنوان بخشی از بیستمین نشست سالانه انجمن ذرات ریز در بوستون، 21 تا 25 اوت 1989 برگزار شد. به اندازه سمپوزیوم قبلی موفق بود، بنابراین تصمیم گرفتیم سمپوزیوم هایی را با این موضوع به صورت منظم (دوسالانه) برگزار کنیم و سومین سمپوزیوم از این مجموعه قرار است در بیست و دومین نشست سالانه انجمن ذرات ریز در سن خوزه برگزار شود. ، کالیفرنیا، 29 ژوئیه تا 2 آگوست 1991. l همانطور که در پیشگفتار جلد قبلی این مجموعه اشاره شد که اخیراً نگرانی شدیدی در مورد از دست دادن عملکرد به دلیل ذرات ناخواسته وجود داشته است و این ذرات ناخواسته می توانند از یک لژیون نشات گرفته شوند. منابع، از جمله گازها و مایعات فرآیند. همچنین تمام سیگنال ها نشان می دهد که در آینده ساخت قطعات میکروالکترونیک پیچیده و حساس (با ابعاد کوچک شونده) و سایر قطعات دقیق، نیاز به تشخیص، شناسایی، تجزیه و تحلیل و کنترل ذرات کوچکتر و کوچکتر تشدید خواهد شد.
This book chronicles the proceedings of the Second Symposium on Particles in Gases and Liquids: Detection, Characterization and Control held as a part of the 20th Annual Fine Particle Society meeting in Boston, August 21-25, 1989. As this second symposium was as successful as the prior one, so we have decided to hold symposia on this topic on a regular (biennial) basis and the third symposium in this series is scheduled to be held at the 22nd Annual Meeting of the Fine Particle Society in San Jose, California, July 29-August 2, 1991. l As pointed out in the Preface to the prior volume in this series that recently there has been tremendous concern about yield losses due to unwanted particles, and these unwelcome particles can originate from a legion of sources, including process gases and liquids. Also all signals indicate that in the future manufacture of sophisticated and sensitive microelectronic components (with shrinking dimensions) and other precision parts, the need for detection, characterization, analysis and control of smaller and smaller particles will be more intensified.
Front Matter....Pages i-ix
Front Matter....Pages 1-1
Modeling of Particle Deposition in Cleanroom Environments: Current Status....Pages 3-21
Sampling of Airborne Particles for Contamination Assessment....Pages 23-31
The Role of Bacterial Biofilms in Contamination of Process Fluids by Biological Particulates....Pages 33-50
Describing Filters and Filtration Processes Using the Concepts of Fractal Geometry....Pages 51-59
Detection and Control of Particles in Vacuum Environments for Semiconductor Processing....Pages 61-74
Operator-Generated Particles: Characterization, Monitoring and Control....Pages 75-81
Building and Using an Application-Specific Particle Atlas....Pages 83-92
Particulate Cleanliness Testing of Filters and Equipment in Process Fluids (Gas or Liquid)....Pages 93-101
Optical Particle Counter Performance Definitions Effects on Submicrometer Particle Measurement....Pages 103-114
Front Matter....Pages 115-115
Assessing Wiping Materials for their Potential to Contribute Particles to Clean Environments: A Novel Approach....Pages 117-128
Robots as a Potential Source of Particulate Contamination....Pages 129-141
Particle Release from Surfaces by Mechanical Shocks....Pages 143-154
Flowrate Dependence of Particle Shedding from a Gas Delivery Line....Pages 155-165
Apparatus for Measuring Ultrafine Particle Emissions from Air Ionization Equipment....Pages 167-178
Measurement of Submicrometer Particle Deposition on Silicon Wafers in Cleanroom Environment....Pages 179-194
Front Matter....Pages 195-195
Characterization of Individual Particles in Gaseous Media by Mass Spectrometry....Pages 197-209
Characterization of Particles in High-Purity Gases....Pages 211-221
Particle Measurement in Gas System Components: Defining a Practical Test Method....Pages 223-239
Real-Time Measurement of Particulate Levels in Gases in a Production Diffusion Environment....Pages 241-250
In-Situ Particle Monitoring in a Plasma Etcher....Pages 251-260
Front Matter....Pages 195-195
Protected Particle Collection from Gas Streams for Characterization by Analytical Electron Microscopy....Pages 261-274
Photoacoustic Detection of Radiation Absorbing Particles in Gases....Pages 275-283
Transport of Charged Particles in Gas Streams....Pages 285-295
Resolution, Sensitivity, Counting Efficiency, and Coincidence Limit of Optical Aerosol Particle Counters....Pages 297-303
Front Matter....Pages 305-305
Characterization of the Particle Loading in Deionized Water Systems by Automated SEM Analysis....Pages 307-319
A Sensitive Monitor for Particles in Liquids....Pages 321-333
New Techniques for Sampling Submicron Particle Contamination in Water....Pages 335-345
Scaling Laws for Rayleigh Particle Detection in Liquids....Pages 347-353
Removal of Particles from Deionized Water in a Recirculating Bath by Etchant Filters....Pages 355-365
Modelling of Particle Removal from a Circulating Etch Bath....Pages 367-382
Packaging High Purity Chemicals to Ensure Low Particulate Contamination at Point-of-Use....Pages 383-391
Back Matter....Pages 393-407