ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب P - and n - type microcrystalline silicon oxide (μc-SiOx: H) for applications in thin film silicon tandem solar cells

دانلود کتاب اکسید سیلیکون میکروکریستالی نوع P و n (μc-SiOx: H) برای کاربرد در سلول های خورشیدی پشت سر هم سیلیکونی لایه نازک

P - and n - type microcrystalline silicon oxide (μc-SiOx: H) for applications in thin film silicon tandem solar cells

مشخصات کتاب

P - and n - type microcrystalline silicon oxide (μc-SiOx: H) for applications in thin film silicon tandem solar cells

دسته بندی: فیزیک حالت جامد
ویرایش:  
نویسندگان:   
سری:  
 
ناشر:  
سال نشر:  
تعداد صفحات: 18 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 715 کیلوبایت

قیمت کتاب (تومان) : 43,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب اکسید سیلیکون میکروکریستالی نوع P و n (μc-SiOx: H) برای کاربرد در سلول های خورشیدی پشت سر هم سیلیکونی لایه نازک: فیزیک، فیزیک حالت جامد، فیزیک نیمه هادی ها



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 13


در صورت تبدیل فایل کتاب P - and n - type microcrystalline silicon oxide (μc-SiOx: H) for applications in thin film silicon tandem solar cells به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب اکسید سیلیکون میکروکریستالی نوع P و n (μc-SiOx: H) برای کاربرد در سلول های خورشیدی پشت سر هم سیلیکونی لایه نازک نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب اکسید سیلیکون میکروکریستالی نوع P و n (μc-SiOx: H) برای کاربرد در سلول های خورشیدی پشت سر هم سیلیکونی لایه نازک

IEK-5 Photovoltaik، Forschungszentrum Jülich GmbH، 2004. — 18 S.
ما در مورد توسعه و کاربرد آلیاژهای اکسید سیلیکون میکروکریستالی هیدروژنه شده (μc-SiOx:H) نوع p و n در سیلیکون لایه نازک پشت سر هم گزارش می کنیم. سلول های خورشیدی. نتایج ما نشان می‌دهد که خواص نوری، الکتریکی و ساختاری μc-SiOx:H را می‌توان به راحتی در محدوده وسیعی تنظیم کرد تا الزامات کاربردهای سلول‌های خورشیدی را برآورده کند. ما نشان داده‌ایم که افزودن گاز PH3 در طول رسوب‌گذاری باعث افزایش بلورینگی لایه‌های μc-SiOx: H می‌شود، در حالی که TMB اضافی تمایل به سرکوب رشد کریستالی دارد. هنگامی که در سلول های خورشیدی پشت سر هم اعمال می شود، هر دو نوع p و n μc-SiOx:H منجر به افزایش قابل توجه جریان سلول بالایی می شود. بهره گیری از ضریب شکست کم و شکاف باند نوری بالای میکروسیون SiOx:H امکان دستیابی به راندمان بالای 13.1٪ (اولیه) و 11.8٪ (تثبیت شده) را فراهم می کند.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

IEK-5 Photovoltaik, Forschungszentrum Jülich GmbH, 2004. — 18 S.
We report on the development and application of p- and n-type hydrogenated microcrystalline silicon oxide (μc-SiOx:H) alloys in tandem thin film silicon solar cells. Our results show that the optical, electrical and structural properties of μc-SiOx:H can be conveniently tuned over a wide range to fulfil the requirements for solar cell applications. We have shown that adding of PH3 gas during the deposition tends to increase crystallinity of μc-SiOx:H layers, while additional TMB tends to suppress crystalline growth. When applied in tandem solar cells, both p- and n-type μc-SiOx:H lead to a remarkable increase in the top cell current. Taking advantage of low refractive index and high optical band gap of μc SiOx:H allows the achievement of high efficiencies of 13.1% (initial) and 11.8% (stabilized).





نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی