Optimisation of ZnO Thin Films: Implants, Properties, and Device Fabrication

این مونوگراف مکانیسم‌های کاشت متفاوتی را توصیف می‌کند که می‌توان برای دستیابی به لایه‌های نازک ZnO از نوع p قوی، قابل اعتماد و پایدار استفاده کرد. نتایج در زمینه اپتوالکترونیک در ناحیه UV مفید خواهد بود. این کتاب برای محققان و متخصصانی که روی دوپینگ و کاشت لایه‌های نازک ZnO و متعاقباً ساخت دستگاه‌های الکترونیک نوری کار می‌کنند مفید خواهد بود. فصل اول مونوگراف بر اهمیت ZnO در زمینه اپتوالکترونیک برای ناحیه فرابنفش (UV) تاکید می کند و همچنین خواص مواد، الکترونیکی و نوری ZnO را مورد بحث قرار می دهد. این کتاب سپس به بحث در مورد بهینه‌سازی لایه‌های نازک ZnO رسوب‌شده با لیزر پالسی (PLD) به منظور ساخت فیلم‌های موفق نوع p می‌پردازد. این می تواند دستیابی به خروجی نوری بالا مورد نیاز برای دستگاه های با راندمان بالا را ممکن کند. این کتاب همچنین یک مطالعه کاشت هیدروژن بر روی فیلم‌های بهینه‌شده را مورد بحث قرار می‌دهد تا تأیید کند که آیا کاشت منجر به بهبود نتایج بهینه‌شده می‌شود یا خیر.

This monograph describes the different implantation mechanisms which can be used to achieve strong, reliable and stable p-type ZnO thin films. The results will prove useful in the field of optoelectronics in the UV region. This book will prove useful to research scholars and professionals working on doping and implantation of ZnO thin films and subsequently fabricating optoelectronic devices. The first chapter of the monograph emphasises the importance of ZnO in the field of optoelectronics for ultraviolet (UV) region and also discusses the material, electronic and optical properties of ZnO. The book then goes on to discuss the optimization of pulsed laser deposited (PLD) ZnO thin films in order to make successful p-type films. This can enable achievement of high optical output required for high-efficiency devices. The book also discusses a hydrogen implantation study on the optimized films to confirm whether the implantation leads to improvement in the optimized results.