دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Optical and EUV Lithography: A Modeling Perspective
دانلود کتاب لیتوگرافی نوری و EUV: دیدگاه مدلسازی
مشخصات کتاب
Optical and EUV Lithography: A Modeling Perspective
ویرایش:
نویسندگان: Andreas Erdmann
سری:
ISBN (شابک) : 1510639012, 9781510639010
ناشر: SPIE--The International Society for Optical Engineering
سال نشر: 2021
تعداد صفحات: 376
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 21 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 33,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Optical and EUV Lithography: A Modeling Perspective به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب لیتوگرافی نوری و EUV: دیدگاه مدلسازی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب لیتوگرافی نوری و EUV: دیدگاه مدلسازی
لیتوگرافی نیمه هادی پیشرفته، پیشرفته ترین سیستم های نوری جهان ما را با مواد و فرآیندهای فتوشیمیایی طراحی شده و بسیار بهینه شده ترکیب می کند تا ساختارهای میکرو و نانو را بسازد که جامعه اطلاعاتی مدرن ما را قادر می سازد. ساخت و شناسایی دقیق نانوالگوها نیازمند درک عمیق همه اثرات فیزیکی و شیمیایی درگیر است. این کتاب از یک دیدگاه مبتنی بر مدل، اما بدون تاکید زیاد ریاضی، چنین درکی را پشتیبانی می‌کند. مطالب این کتاب در طول سال‌ها سخنرانی در مورد فن‌آوری لیتوگرافی نوری، جلوه‌های فیزیکی و مدلسازی در دانشگاه فردریش-الکساندر-ارلانگن-نورنبرگ و در آماده‌سازی برای دوره‌های اختصاصی در جنبه‌های خاص لیتوگرافی گردآوری شده است. این کتاب در نظر گرفته شده است تا دانش‌آموزان علاقه‌مند با پیشینه‌های فیزیک، اپتیک، مهندسی محاسبات، ریاضیات، شیمی، علم مواد، فناوری نانو و سایر زمینه‌ها را با زمینه‌ی جذاب تکنیک‌های لیتوگرافی برای ساخت نانو آشنا کند. همچنین باید به مهندسان و مدیران ارشد کمک کند تا دانش خود را در مورد روش ها و کاربردهای جایگزین گسترش دهند.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
State-of-the-art semiconductor lithography combines the most advanced optical systems of our world with cleverly designed and highly optimized photochemical materials and processes to fabricate micro- and nanostructures that enable our modern information society. The precise fabrication and characterization of nanopatterns requires an in-depth understanding of all involved physical and chemical effects. This book supports such an understanding from a model-driven perspective, but without a heavy mathematical emphasis. The material for the book was compiled during many years of lecturing on optical lithography technology, physical effects, and modeling at the Friedrich-Alexander-University Erlangen-Nuremberg and in preparation for dedicated courses on special aspects of lithography. The book is intended to introduce interested students with backgrounds in physics, optics, computational engineering, mathematics, chemistry, material science, nanotechnology, and other areas to the fascinating field of lithographic techniques for nanofabrication. It should also help senior engineers and managers expand their knowledge of alternative methods and applications.
فهرست مطالب
Copyright Contents Preface Abbreviations and Acronyms Frequently Used Symbols 1 Overview of Lithographic Processing 2 Image Formation in Projection Lithography 3 Photoresists 4 Optical Resolution Enhancements 5 Material-Driven Resolution Enhancements 6 Lithography with Extreme-Ultraviolet Light 7 Optical Lithography Beyond Projection Imaging 8 Lithographic Projection Systems: Advanced Topics 9 Mask and Wafer Topography Effects in Lithography 10 Stochastic Effects in Advanced Lithography Index About the Author
