دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: [1 ed.]
نویسندگان: Nong Moon Hwang (auth.)
سری: Springer Series in Surface Sciences 60
ISBN (شابک) : 9789401776141, 9789401776165
ناشر: Springer Netherlands
سال نشر: 2016
تعداد صفحات: XII, 332
[338]
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 13 Mb
در صورت ایرانی بودن نویسنده امکان دانلود وجود ندارد و مبلغ عودت داده خواهد شد
در صورت تبدیل فایل کتاب Non-Classical Crystallization of Thin Films and Nanostructures in CVD and PVD Processes به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب تبلور غیر کلاسیک لایه های نازک و نانوساختارها در فرآیندهای CVD و PVD نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این کتاب مقدمهای جامع برای رویکردی که اخیراً برای مکانیسم
رشد لایههای نازک و نانوساختارها از طریق رسوبدهی بخار
شیمیایی (CVD) ایجاد شده است، ارائه میکند. با شروع از اصول
اساسی سنتز فشار کم لایه های الماس، نشان داده شده است که رشد
الماس نه توسط اتم های منفرد بلکه توسط نانوذرات باردار اتفاق
می افتد. این مکانیسم رشد تازه کشف شده برای بسیاری از
فرآیندهای CVD و برخی فرآیندهای رسوب بخار فیزیکی (PVD) عمومی
است. این تبلور غیر کلاسیک یک الگوی جدید از رشد کریستال است،
با تحقیقات فعال در مورد رشد در محلول، به ویژه در فرآیندهای
زیست کانی سازی.
درک تثبیت شده از رشد لایههای نازک و نانوساختارها حول
فرآیندهایی است که شامل اتمها یا مولکولها میشود. با توجه به
تحقیقات نویسنده در دو دهه گذشته، با این حال، نشان داده شده
است که تولید هستههای فاز گازی باردار در فرآیند CVD به جای
استثنا قاعده است و هستههای فاز گازی باردار به طور فعال در
رشد فیلمها یا نانوساختارها نقش دارند. . این درک جدید، نظریه
نانوذرات باردار (TCN) نامیده می شود. این کتاب توضیح میدهد که
چگونه مکانیسم کریستالیزاسیون غیرکلاسیک میتواند برای رشد
لایههای نازک و نانوساختارها در سنتز فاز گاز اعمال شود.
بر اساس درس سخنرانی کارشناسی ارشد نویسنده، این کتاب برای
دانشجویان و محققان ارشد در مقاطع کارشناسی و کارشناسی ارشد در
زمینه رشد لایه نازک و نانوساختار یا رشد کریستال طراحی شده
است. امید است که درک جدید از فرآیندهای رشد لایههای نازک و
نانوساختارها، آزمون و خطا را در تحقیقات و فرآیندهای ساخت
صنعتی کاهش دهد.
This book provides a comprehensive introduction to a
recently-developed approach to the growth mechanism of thin
films and nanostructures via chemical vapour deposition
(CVD). Starting from the underlying principles of the low
pressure synthesis of diamond films, it is shown that diamond
growth occurs not by individual atoms but by charged
nanoparticles. This newly-discovered growth mechanism turns
out to be general to many CVD and some physical vapor
deposition (PVD) processes. This non-classical
crystallization is a new paradigm of crystal growth, with
active research taking place on growth in solution,
especially in biomineralization processes.
Established understanding of the growth of thin films and
nanostructures is based around processes involving individual
atoms or molecules. According to the author’s research over
the last two decades, however, the generation of charged gas
phase nuclei is shown to be the rule rather than the
exception in the CVD process, and charged gas phase nuclei
are actively involved in the growth of films or
nanostructures. This new understanding is called the theory
of charged nanoparticles (TCN). This book describes how the
non-classical crystallization mechanism can be applied to the
growth of thin films and nanostructures in gas phase
synthesis.
Based on the author’s graduate lecture course, the book is
aimed at senior undergraduate and graduate students and
researchers in the field of thin film and nanostructure
growth or crystal growth. It is hoped that a new
understanding of the growth processes of thin films and
nanostructures will reduce trial-and-error in research and in
industrial fabrication processes.