دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Nanolithography. The Art of Fabricating Nanoelectronic and Nanophotonic Devices and Systems
دانلود کتاب نانولیتوگرافی. هنر ساخت دستگاه ها و سیستم های نانو الکترونیکی و نانوفوتونیک
مشخصات کتاب
Nanolithography. The Art of Fabricating Nanoelectronic and Nanophotonic Devices and Systems
ویرایش: 1
نویسندگان: M. Feldman (Eds.)
سری: Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials
ISBN (شابک) : 9780857095008
ناشر: Woodhead Publishing
سال نشر: 2014
تعداد صفحات: 588
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 41 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 31,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Nanolithography. The Art of Fabricating Nanoelectronic and Nanophotonic Devices and Systems به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب نانولیتوگرافی. هنر ساخت دستگاه ها و سیستم های نانو الکترونیکی و نانوفوتونیک نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب نانولیتوگرافی. هنر ساخت دستگاه ها و سیستم های نانو الکترونیکی و نانوفوتونیک
مدارهای مجتمع، و دستگاه‌هایی که با استفاده از تکنیک‌های
توسعه‌یافته برای مدارهای مجتمع ساخته می‌شوند، به‌طور پیوسته
کوچک‌تر، پیچیده‌تر و قدرتمندتر شده‌اند. سرعت انقباض شگفت آور
است - برخی از اجزا اکنون تنها چند ده اتم عرض دارند. این کتاب
تلاش می‌کند به سؤالات \"بعد چه می‌آید؟" پاسخ دهد. و "چگونه به
آنجا برسیم؟"
نانولیتوگرافی وضعیت فعلی هنر در تکنیک های لیتوگرافی، از جمله طرح ریزی نوری در پرتوهای فرابنفش عمیق و شدید، پرتوهای الکترونی و یونی، و چاپ را نشان می دهد. توجه ویژه‌ای به مسائل مرتبط، مانند مقاومت‌های مورد استفاده در لیتوگرافی، ماسک‌ها (یا عدم وجود آن)، اندازه‌شناسی مورد نیاز برای ویژگی‌های نانو، مدل‌سازی، و محدودیت‌های ناشی از ناهمواری لبه‌های ویژگی می‌شود. علاوه بر این، فن‌آوری‌های نوظهور، از جمله مونتاژ هدایت‌شده ویژگی‌های ویفر، نانوساختارها و دستگاه‌ها، نانو فوتونیک، و نانو سیالات توضیح داده شده است.
این کتاب به‌عنوان راهنمایی برای پژوهشگران تازه وارد در این زمینه، در نظر گرفته شده است. مجلات مرتبط یا مواجهه با پیچیدگی های یک کنفرانس فنی. هدف آن ارائه اطلاعات پس زمینه کافی برای قادر ساختن به چنین محققی برای درک، و درک پیشرفت های جدید در نانولیتوگرافی، و ادامه پیشرفت های خود است.
نانولیتوگرافی وضعیت فعلی هنر در تکنیک های لیتوگرافی، از جمله طرح ریزی نوری در پرتوهای فرابنفش عمیق و شدید، پرتوهای الکترونی و یونی، و چاپ را نشان می دهد. توجه ویژه‌ای به مسائل مرتبط، مانند مقاومت‌های مورد استفاده در لیتوگرافی، ماسک‌ها (یا عدم وجود آن)، اندازه‌شناسی مورد نیاز برای ویژگی‌های نانو، مدل‌سازی، و محدودیت‌های ناشی از ناهمواری لبه‌های ویژگی می‌شود. علاوه بر این، فن‌آوری‌های نوظهور، از جمله مونتاژ هدایت‌شده ویژگی‌های ویفر، نانوساختارها و دستگاه‌ها، نانو فوتونیک، و نانو سیالات توضیح داده شده است.
این کتاب به‌عنوان راهنمایی برای پژوهشگران تازه وارد در این زمینه، در نظر گرفته شده است. مجلات مرتبط یا مواجهه با پیچیدگی های یک کنفرانس فنی. هدف آن ارائه اطلاعات پس زمینه کافی برای قادر ساختن به چنین محققی برای درک، و درک پیشرفت های جدید در نانولیتوگرافی، و ادامه پیشرفت های خود است.
- وضعیت فعلی هنر را تشریح می کند. در فناوری‌های نانولیتوگرافی جایگزین به منظور مقابله با کاهش آتی در اندازه تراشه‌های نیمه‌رسانا به ابعاد نانو
- تکنیک‌های لیتوگرافی از جمله پرتاب نوری، اشعه ماوراء بنفش شدید (EUV)، نانوامپرینت، پرتو الکترونی و لیتوگرافی پرتو یونی را پوشش می‌دهد. /li>
- کاربردهای نوظهور نانولیتوگرافی را در نانوالکترونیک، نانوفتونیک و میکروسیال توصیف می کند
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
Integrated circuits, and devices fabricated using the
techniques developed for integrated circuits, have steadily
gotten smaller, more complex, and more powerful. The rate of
shrinking is astonishing - some components are now just a few
dozen atoms wide. This book attempts to answer the questions,
"What comes next?” and "How do we get there?”
Nanolithography outlines the present state of the art in lithographic techniques, including optical projection in both deep and extreme ultraviolet, electron and ion beams, and imprinting. Special attention is paid to related issues, such as the resists used in lithography, the masks (or lack thereof), the metrology needed for nano-features, modeling, and the limitations caused by feature edge roughness. In addition emerging technologies are described, including the directed assembly of wafer features, nanostructures and devices, nano-photonics, and nano-fluidics.
This book is intended as a guide to the researcher new to this field, reading related journals or facing the complexities of a technical conference. Its goal is to give enough background information to enable such a researcher to understand, and appreciate, new developments in nanolithography, and to go on to make advances of his/her own.
Nanolithography outlines the present state of the art in lithographic techniques, including optical projection in both deep and extreme ultraviolet, electron and ion beams, and imprinting. Special attention is paid to related issues, such as the resists used in lithography, the masks (or lack thereof), the metrology needed for nano-features, modeling, and the limitations caused by feature edge roughness. In addition emerging technologies are described, including the directed assembly of wafer features, nanostructures and devices, nano-photonics, and nano-fluidics.
This book is intended as a guide to the researcher new to this field, reading related journals or facing the complexities of a technical conference. Its goal is to give enough background information to enable such a researcher to understand, and appreciate, new developments in nanolithography, and to go on to make advances of his/her own.
- Outlines the current state of the art in alternative nanolithography technologies in order to cope with the future reduction in size of semiconductor chips to nanoscale dimensions
- Covers lithographic techniques, including optical projection, extreme ultraviolet (EUV), nanoimprint, electron beam and ion beam lithography
- Describes the emerging applications of nanolithography in nanoelectronics, nanophotonics and microfluidics
فهرست مطالب
Content:
Front matter, Pages i-iii
Copyright, Page iv
Contributor contact details, Pages xiii-xvi, Martin Feldman, Bruce W. Smith, Bryan J. Rice, Timothy R. Groves, Mark Utlaut, Emily Gallagher, Michael Hibbs, Michael Walsh, Feng Zhang, Rajesh Menon, Henry I. Smith, Anthony Novembre, Sen Liu, Shinji Matsui, Mikihito Takenaka, Hiroshi Yoshida, Doug Resnick, Xing Cheng, Pouya Dastmalchi, Ali Haddadpour, Georgios Veronis, et al.
Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials, Pages xvii-xxi
Preface, Pages xxiii-xxiv, M. Feldman
1 - Optical projection lithography, Pages 1-41, B.W. Smith
2 - Extreme ultraviolet (EUV) lithography, Pages 42-79, B.J. Rice
3 - Electron beam lithography, Pages 80-115, T.R. Groves
4 - Focused ion beams for nano-machining and imaging, Pages 116-157, M. Utlaut
5 - Masks for micro- and nanolithography, Pages 158-178, E. Gallagher, M. Hibbs
6 - Maskless photolithography, Pages 179-193, M.E. Walsh, F. Zhang, R. Menon, H.I. Smith
7 - Chemistry and processing of resists for nanolithography, Pages 194-286, A. Novembre, S. Liu
8 - Directed assembly nanolithography, Pages 287-314, S. Matsui, M. Takenaka, H. Yoshida
9 - Nanoimprint lithography, Pages 315-347, D. Resnick
10 - Nanostructures: fabrication and applications, Pages 348-375, X. Cheng
11 - Nanophotonics: devices for manipulating light at the nanoscale, Pages 376-398, P. Dastmalchi, A. Haddadpour, G. Veronis
12 - Nanodevices: fabrication, prospects for low dimensional devices and applications, Pages 399-423, T. Daniels-Race
13 - Microfluidics: technologies and applications, Pages 424-443, L. Jiang, N.S. Korivi
14 - Modeling of nanolithography processes, Pages 444-465, A. Isoyan, L.S. Melvin III
15 - Mask-substrate alignment via interferometric moiré fringes, Pages 466-502, E.E. Moon
16 - Sidewall roughness in nanolithography: origins, metrology and device effects, Pages 503-537, V. Constantoudis, E. Gogolides, G.P. Patsis
17 - New applications and emerging technologies in nanolithography, Pages 538-550, F. Yesilkoy, C. Ropp, Z. Cummins, R. Probst, E. Waks, B. Shapiro, M. Peckerar
Index, Pages 551-573
