دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Microlithography: Science and Technology
دانلود کتاب میکرولیتوگرافی: علم و فناوری
مشخصات کتاب
Microlithography: Science and Technology
ویرایش: 3 نویسندگان: Bruce W. Smith (Editor), Kazuaki Suzuki (Editor) سری: ISBN (شابک) : 2019053732, 9781315117171 ناشر: CRC Press سال نشر: 2020 تعداد صفحات: 850 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 117 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 29,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Microlithography: Science and Technology به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب میکرولیتوگرافی: علم و فناوری نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب میکرولیتوگرافی: علم و فناوری
نسخه سوم به طور کامل بازبینی شده به پرفروش‌ترین میکرولیتوگرافی: علم و فناوری، درمان متعادلی از ملاحظات نظری و عملیاتی، از اصول بنیادی تا موضوعات پیشرفته لیتوگرافی در مقیاس نانو را ارائه می‌دهد. این کتاب به فصل‌هایی تقسیم می‌شود که تمام جنبه‌های مهم مربوط به تصویربرداری، مواد و فرآیندهایی را که برای سوق دادن لیتوگرافی نیمه‌رسانا به سمت نسل‌های در مقیاس نانو ضروری بوده‌اند، پوشش می‌دهد. کارشناسان مشهور از سازمان‌های دانشگاهی و صنعتی پیشرو جهان پوشش عمیقی از فناوری‌های مربوط به نوری، اشعه ماوراء بنفش عمیق (DUV)، غوطه‌وری، الگوبرداری چندگانه، اشعه ماوراء بنفش شدید (EUV)، بدون ماسک، نانوامپرینت و خود مونتاژ مستقیم ارائه کرده‌اند. لیتوگرافی، همراه با توضیحات جامع از مواد و فرآیندهای پیشرفته درگیر.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
The completely revised Third Edition to the bestselling Microlithography: Science and Technology provides a balanced treatment of theoretical and operational considerations, from fundamental principles to advanced topics of nanoscale lithography. The book is divided into chapters covering all important aspects related to the imaging, materials, and processes that have been necessary to drive semiconductor lithography toward nanometer-scale generations. Renowned experts from the world’s leading academic and industrial organizations have provided in-depth coverage of the technologies involved in optical, deep-ultraviolet (DUV), immersion, multiple patterning, extreme ultraviolet (EUV), maskless, nanoimprint, and directed self-assembly lithography, together with comprehensive descriptions of the advanced materials and processes involved.
فهرست مطالب
Chapter 1 Lithography, Etch, and Silicon Process Technology
[Matthew Colburn, Derren N. Dunn, and Michael A. Guillorn]
Chapter 2 Optical Nanolithography
[Bruce W. Smith]
Chapter 3 Multiple Patterning Lithography
[Carlos Fonseca, Chris Bencher, and Bruce Smith]
Chapter 4 EUV Lithography
Stefan Wurm, Winfried Kaiser, Udo Dinger, Stephan Müllender,
Bruno La Fontaine, Obert R. Wood II, and Mark Neisser]
Chapter 5 Alignment and Overlay
[David Laidler and Gregg M. Gallatin]
Chapter 6 Design for Manufacturing and Design Process Technology Co-Optimization
[John Sturtevant and Luigi Capodieci]
Chapter 7 Chemistry of Photoresist Materials
[Takumi Uemo, Robert D. Allen, and James Thackeray]
Chapter 8 Photoresist and Materials Processing
[Bruce W. Smith]
Chapter 9 Optical Lithography Modeling
[Chris A. Mack, John J. Biafore, and Mark D. Smith]
Chapter 10 Maskless Lithography
[Kazuaki Suzuki]
Chapter 11 Imprint Lithography
[Doug Resnick and Helmut Schift]
Chapter 12 Metrology for Nanolithography
[Kazuaki Suzuki and Eran Amit]
Chapter 13 Directed Self-Assembly of Block Copolymers
[Chi-chun Liu, Kenji Yoshimoto, Juan de Pablo, and Paul Nealey]
