دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Microlithography Fundamentals in Semiconductor Devices and Fabrication Technology
دانلود کتاب مبانی میکرولیتوگرافی در دستگاه های نیمه هادی و فناوری ساخت
مشخصات کتاب
Microlithography Fundamentals in Semiconductor Devices and Fabrication Technology
ویرایش: 1 نویسندگان: Saburo Nonogaki (Author), Ueno Takumi (Author), Toshio Ito (Author) سری: ISBN (شابک) : 9780824799519, 9781351822022 ناشر: CRC Press سال نشر: 1998 تعداد صفحات: 336 زبان: فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 28 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 56,000
کلمات کلیدی مربوط به کتاب مبانی میکرولیتوگرافی در دستگاه های نیمه هادی و فناوری ساخت: مهندسی و فناوری، مهندسی برق و الکترونیک، الکترونیک، علم نانو و فناوری نانو
در صورت تبدیل فایل کتاب Microlithography Fundamentals in Semiconductor Devices and Fabrication Technology به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب مبانی میکرولیتوگرافی در دستگاه های نیمه هادی و فناوری ساخت نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب مبانی میکرولیتوگرافی در دستگاه های نیمه هادی و فناوری ساخت
\"علم و فناوری فرآیندهای لیتوگرافی و مقاومت در برابر مواد را کاوش می کند و جدیدترین نوآوری ها را در تولید نیمه هادی ها خلاصه می کند. روندهای آینده در لیتوگرافی و مقاومت در برابر فناوری مواد را در نظر می گیرد. برهمکنش نور، پرتوهای الکترونی و اشعه ایکس با مقاومت را بررسی می کند. مواد.\"
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
"Explores the science and technology of lithographic processes and resist materials and summarizes the most recent innovations in semiconductor manufacturing. Considers future trends in lithography and resist material technology. Reviews the interaction of light, electron beams, and X-rays with resist materials."
فهرست مطالب
Exposure systems in photolithography; optical pattern transfer; chemistry of photoresist materials; practical processes in microlithography; X-ray lithography; electron-beam lithography; variations in microlithographic process.
