دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
دسته بندی: تحلیل و بررسی ویرایش: نویسندگان: Mark B. H. Breese, David N. Jamieson, Philip J. C. King سری: ISBN (شابک) : 0471106089, 9780471106081 ناشر: سال نشر: 1996 تعداد صفحات: 454 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 42 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Materials Analysis Using a Nuclear Microprobe به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب تجزیه و تحلیل مواد با استفاده از یک میکروبور هسته ای نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
همه چیزهایی که دانشمندان مواد باید در مورد ابزارهای تحلیلی قدرتمند فناوری ریزپروب هسته ای بدانند این جلد مورد انتظار، به روشی کاملاً در دسترس و آموزنده، زمینه رشد سریع فناوری ریزپروب هسته ای و روش های استفاده از پرتوهای یونی نور متمرکز را در بر می گیرد. خصوصیات مواد بر خلاف هر کتاب دیگری در بازار، این کتاب بر نیازهای خاص دانشمندان مواد متمرکز است و راهنمای جامعی برای تمام جنبه های عملی و نظری این فناوری ارائه می دهد. این کتاب که توسط متخصصان برجسته در این زمینه از مراکز عمده میکروپروب نوشته شده است، پوششی از تمام سخت افزارهای جدید میکروپروب هسته ای و تکنیک های جدید پرتو یونی برای اصلاحات و تجزیه و تحلیل مواد را ارائه می دهد. جنبههای الزامات فنی برای تجزیه و تحلیل ریزپروب کمک به برنامهریزی و مدیریت آزمایشها با استفاده از این تکنیکهای تحلیلی جدید مقدمهها و مطالب پیشزمینه موضوعات مهم، مانند برهمکنشهای یون-جامد، کریستالوگرافی، و اپتیک یونی 240 تصویری که به توضیح نکات پیچیده کمک میکند دو فصل تکمیل شده با ارقام چهار رنگ موضوعات مورد علاقه محققان در زمینه های میکروسکوپ هسته ای و مواد و تجزیه و تحلیل و ساخت دستگاه های میکروالکترونیک و همچنین موارد موجود در آزمایشگاه های شتاب دهنده. ، برای دانشجویان در مقطع کارشناسی ارشد، و برای دانشمندانی از طیف گسترده ای از رشته ها که مایلند در مورد فرصت های تحقیقاتی در این زمینه مهیج و امیدوار کننده اطلاعات بیشتری کسب کنند. تاکید در حوزههای برهمکنشهای یون-جامد و میکروپروبهای هستهای اکنون از حوزه تحقیقات علمی محض به عرصه کاربردها تغییر کرده است. این فناوری که تا حدی توسط توسعه دستگاه های نیمه هادی هدایت می شود، اکنون ابزارهای جدید قدرتمندی را در دو حوزه تحقیقاتی مهم - اصلاح پرتو یونی مواد و تجزیه و تحلیل پرتو یونی ارائه می دهد. این کتاب به کاربرد پرتوهای یونی پرانرژی با تمرکز ریز در خصوصیات مواد و چگونگی تبدیل طیفسنجی پرتو یونی به میکروسکوپ پرتو یونی میپردازد. این متن شامل اصول بنیادی در کریستالوگرافی و فیزیک حالت جامد، و همچنین وضعیت فعلی هنر در اپتیک یون MeV است که همه آنها نقش مهمی در این فناوری دارند. این کتاب همراه با پوشش عمیق فرآیندهای مختلف درگیر در میکروسکوپ هستهای و برهمکنشهای یون-جامد، سختافزار ریزپروب هستهای را به تفصیل بررسی میکند، کاربردهای مختلف ریزپروبهای هستهای را برای تجزیه و تحلیل مواد بررسی میکند و تمام جنبههای تجربی استفاده از این روشهای تحلیلی جدید را در نظر میگیرد. . نویسندگان از کار خود در تاسیسات پیشگام ریزکاوشگر هسته ای در دانشگاه های آکسفورد و ملبورن استفاده می کنند. آنها بینش و دانش خود را در سرتاسر به اشتراک میگذارند و به سادهسازی بسیاری از مشکلات پیچیده که هنگام تمرکز پرتوهای یون MeV به نقاط زیر میکرونی یا هنگام برخورد با حجم وسیعی از دادههای حاصل از این آزمایشها به وجود میآیند، کمک میکنند. بحث آنها در مورد تکنیک های تجزیه و تحلیل پرتو یونی قابل دسترس و مفید است، به ویژه به نیازهای دانشمندان مواد در طیف گسترده ای از زمینه ها می پردازد، در حالی که همچنین اطلاعات جذاب تری را برای سایر دانشمندان درگیر در کار پرتو یونی ارائه می دهد. همچنین نشان می دهد که چگونه تجزیه و تحلیل پرتوهای یونی معمولی و به طور گسترده با پرتوهای غیرمتمرکز می تواند با استفاده از یک پرتو متمرکز به شدت افزایش یابد. تجزیه و تحلیل مواد با استفاده از یک میکروکاوشگر هستهای، علاوه بر بررسی کامل و بهروز موضوع، نگاهی اجمالی به آینده در اختیار ما قرار میدهد - به مسیری که این فناوری میرود اشاره میکند و تأثیری را که باید بر کار بگذارد را نشان میدهد. در آزمایشگاههای سراسر جهان انجام میشود و احتمالات جدیدی را پیشنهاد میکند که این امر برای انواع کاربردهای پرتو یونی باز خواهد شد.
Everything materials scientists need to know about the powerful analytical tools of nuclear microprobe technology This much-awaited volume covers, in a thoroughly accessible and informative way, the fast-growing field of nuclear microprobe technology and the methods for utilizing focused-light ion beams in materials characterization. Unlike any other book on the market, it concentrates on the specific needs of materials scientists and presents a comprehensive guide to all practical and theoretical aspects of this technology. Written by leading experts in the field from major microprobe centers, the book provides Coverage of all new nuclear microprobe hardware, and new ion beam techniques for materials modifications and analysis Detailed descriptions of the various uses of nuclear microprobes in materials analysis An overview of the basic aspects of the technical requirements for microprobe analysis Help in planning and managing experiments using these new analytical techniques Introductions and background material to important topics, such as ion-solid interactions, crystallography, and ion optics 240 illustrations that help explain complex points Two chapters supplemented with four-color figures Topics of interest to researchers in the fields of nuclear microscopy and materials and microelectronic device analysis and fabrication, as well as those in accelerator laboratories Materials Analysis Using a Nuclear Microprobe is an invaluable resource for both experienced researchers and newcomers to the field, for students at the graduate level, and for scientists from a wide range of disciplines who would like to find out more about research opportunities in this exciting and promising field. The emphasis in the areas of ion-solid interactions and nuclear microprobes has now shifted from the realm of pure scientific inquiry to the arena of applications. Driven partially by the development of semiconductor devices, this technology now provides powerful new tools in two important research areas—ion beam modification of materials and ion beam analysis. This book deals with the application of finely focused high-energy ion beams in materials characterization, and how they turn ion beam spectrometry into ion beam microscopy. The text includes fundamental principles in crystallography and solid-state physics, as well as the current state of the art in MeV ion optics—all of which play an important role in this technology. Along with in-depth coverage of the various processes involved in nuclear microscopy and ion-solid interactions, the book explores nuclear microprobe hardware in detail, examines various applications of nuclear microprobes for materials analysis, and considers all experimental aspects of using these new analytical methods. The authors draw on their work at the pioneering nuclear microprobe facilities at Oxford and Melbourne Universities. They share their insight and knowledge throughout and help simplify many complex problems that arise when focusing MeV ion beams down to submicron spots, or when dealing with the vast amount of data these experiments yield. Their discussion of ion beam analysis techniques is accessible and useful, addressing in particular the needs of materials scientists in a wide range of fields, while also providing information of more general appeal to other scientists involved in ion beam work. It also demonstrates how conventional and widely applied ion beam analysis with unfocused beams can be enormously enhanced by use of a focused beam. In addition to its complete and up-to-date treatment of the subject, Materials Analysis Using a Nuclear Microprobe affords us a glimpse of the future—pointing in the direction this technology is going, showing the influence it is bound to have on the work done in laboratories worldwide, and suggesting the new possibilities this will open up for a variety of ion beam applications.
Contents......Page 5
Foreword......Page 9
Historical Background......Page 13
Preface......Page 15
Acknowledgments......Page 19
Symbols Used in the Text......Page 21
1. ION-SOLID INTERACTIONS......Page 23
1.1. ELECTRONIC ENERGY LOSS......Page 24
1.2. NUCLEAR ENERGY LOSS......Page 31
1.3. ION STRAGGLING......Page 37
1.4. EFFECTS OF CRYSTALLINITY ON THE PASSAGE OF IONS......Page 41
1.5. ION INDUCED DAMAGE IN SEMICONDUCTORS......Page 51
1.6. COMPARISON BETWEEN MeV IONS AND keV ELECTRONS......Page 59
2.1. INTRODUCTION......Page 64
2.2. NUCLEAR MICROPROBE COMPONENTS......Page 72
2.3. DATA ACQUISITION, SCANNING AND CONTROL SYSTEMS......Page 93
2.4. A DAY IN THE LIFE OF A NUCLEAR MICROPROBE......Page 100
3.1. PROBE-FORMING LENS SYSTEMS AND QUADRUPOLE......Page 103
3.2. ION OPTICS......Page 106
3.3. FIRST-ORDER THEORY......Page 109
3.4. LOW-ORDER ABERRATIONS......Page 115
3.5. HIGHER ORDER ABERRATIONS......Page 120
3.6. GRID SHADOW METHOD......Page 131
3.7. FURTHER CONSIDERATIONS......Page 156
4. ANALYTICAL TECHNIQUES......Page 161
4.1. PARTICLE INDUCED X-RAY EMISSION......Page 162
4.2. BACKSCATTERING SPECTROMETRY......Page 175
4.3. NUCLEAR REACTION ANALYSIS......Page 181
4.4. ELASTIC RECOIL DETECTION ANALYSIS......Page 187
4.5. COMPARISON WITH OTHER TECHNIQUES FOR......Page 188
4.6. ION INDUCED ELECTRON IMAGING......Page 190
1.7. SCANNING TRANSMISSION ION MICROSCOPY......Page 195
4.8. ION MICROTOMOGRAPHY......Page 206
4.9. ION BEAM INDUCED LUMINESCENCE......Page 208
5.1. INTRODUCTION......Page 223
5.2. MECHANISMS OF CHANNELING CONTRAST......Page 224
5.3. TECHNIQUES FOR PRODUCING CHANNELING CONTRAST......Page 228
5.4. PRACTICAL ASPECTS OF ION CHANNELING IMAGING......Page 241
6. ION BEAM INDUCED CHARGE......Page 269
6.1. SEMICONDUCTOR THEORY......Page 270
6.2. QUANTITATIVE INTERPRETATION OF THE ION BEAM......Page 280
6.3. INCORPORATING THE EFFECTS OF THE DEPLETION......Page 290
6.4. EXPERIMENTAL PROCEDURE......Page 294
6.5. MEASUREMENT AND COMPENSATION OF ION INDUCED......Page 297
6.6. STUDY OF NUCLEAR MICROPROBE BEAM HALO USING......Page 302
7. MICROELECTRONICS ANALYSIS......Page 308
7.1. ANALYSIS OF DEVICE ACTIVE REGIONS......Page 312
7.2. ANALYSIS OF DEVICE PHYSICAL STRUCTURE......Page 337
8.1. INTRODUCTION......Page 356
8.2. CRYSTAL DEFECT IMAGING TECHNIQUES......Page 357
8.3. CHANNELING SCANNING TRANSMISSION ION......Page 363
8.4. CHANNELING SCANNING TRANSMISSION ION......Page 376
8.5. CHANNELING SCANNING TRANSMISSION ION......Page 385
8.6. CHANNELING SCANNING TRANSMISSION ION MICROSCOPY......Page 389
8.7. DISLOCATION IMAGING USING ION BEAM INDUCED......Page 406
8.8. COMPARISON OF CRYSTAL DEFECT IMAGING......Page 411
9. OTHER MATERIALS ANALYSIS AND......Page 415
9.1. MOSAIC SPREAD IN HIGH-Tc SUPERCONDUCTOR......Page 416
9.2. ANALYSIS OF LASER-ANNEALED DIAMOND......Page 425
9.3. ANALYSIS OF TERNARY ALLOY SEMICONDUCTORS......Page 428
9.4. ANALYSIS OF AN ALUMINUM-LEAD METAL ALLOY......Page 429
9.5. MATERIALS MODIFICATION AND FABRICATION......Page 433
A.1 RELEVANT CONFERENCE......Page 444
A.2 STANDARD STEREOGRAPHIC......Page 447
INDEX......Page 449