برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید

09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Magnetiс-abrasive machining of silicon wafer - a novel approach

دانلود کتاب ماشین کاری ساینده مغناطیسی ویفر سیلیکون - یک رویکرد جدید

مشخصات کتاب

Magnetiс-abrasive machining of silicon wafer - a novel approach

دسته بندی: مهندسی مکانیک
ویرایش:  
نویسندگان: Khomich M. (et al.)  
سری:  
 
ناشر:  
سال نشر:  
تعداد صفحات: 3 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 2 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 40,000

کلمات کلیدی مربوط به کتاب ماشین کاری ساینده مغناطیسی ویفر سیلیکون - یک رویکرد جدید: مهندسی مکانیک و پردازش مواد، روش های پردازش الکتروفیزیکی و الکتروشیمیایی، پردازش ساینده مغناطیسی

میانگین امتیاز به این کتاب :
تعداد امتیاز دهندگان : 10

در صورت تبدیل فایل کتاب Magnetiс-abrasive machining of silicon wafer - a novel approach به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب ماشین کاری ساینده مغناطیسی ویفر سیلیکون - یک رویکرد جدید نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.

توضیحاتی در مورد کتاب ماشین کاری ساینده مغناطیسی ویفر سیلیکون - یک رویکرد جدید

مقاله. منتشر شده در مجله \"Industrial Diamond Review\". - 2004. - № 3 - P. 45-48.

نویسندگان: Khomich M., Aliakseyev Y., Demmert A., Pahler D., Dambon O. , Schneider U.

مقاله به زبان انگلیسی.

عنوان روسی: ماشینکاری ساینده مغناطیسی

سطوح صاف یک هدف مشترک در مهندسی تولید است که به طور اساسی در پیامدهای آن با توجه به استفاده بعدی از قطعه کار متفاوت است. یکی از این نمونه‌ها، ماشین‌کاری سطحی ویفرهای سیلیکونی است که ویفرها را برای استفاده بیشتر در تولید IC آماده می‌کند، جایی که ویفرهای سیلیکونی پایه و اساس هر دستگاه میکروالکترونیکی هستند. این مقاله به یک رویکرد جدید در ساخت ویفرهای سیلیکونی با استفاده از ماشینکاری مغناطیسی ساینده (MAM) می پردازد. مزایای مورد انتظار MAM نیازهای نسبتاً جزئی دستگاه، ابزارهای ساینده ارزان قیمت و کیفیت سطح برتر است.

توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Статья. Опубликована в журнале "Industrial Diamond Review". – 2004. – № 3 – P. 45-48.

Авторы: Khomich M., Aliakseyev Y., Demmert A., Pahler D., Dambon O., Schneider U.

Статья на английском языке.

Название на русском языке: Магнитно-абразивная обработка кремниевой пластины - новый подход.

Аннотация к статье на английском языке:
Smooth surfaces are a common goal in production engineering that differs substantially in its consequences with regard to the subsequent use of the workpiece. One such example is the surface machining of silicon wafers preparing the wafers for further use in the IC-production, where silicon wafers are the foundation of any microelectronic device. This article is concerned w i th a novel approach in the manufacture of silicon wafers by means of magnetic-abrasive machining (MAM). The expected advantages of MAM are comparably minor machine requirements, inexpensive abrasive tools and superior surface qualities.