Laser Heat-Mode Lithography: Principle and Methods

این کتاب شرح و تجزیه و تحلیل سیستماتیک لیتوگرافی با حالت حرارتی لیزری را ارائه می‌کند، به اصول اولیه، سیستم لیتوگرافی، دستکاری اندازه ویژگی، لیتوگرافی خاکستری، لایه‌های نازک مقاوم و انتقال الگو می‌پردازد، در حالی که تجربیات معمولی را نیز ارائه می‌دهد. نتایج و برنامه های کاربردی این لیتوگرافی لیزری با حالت حرارتی را معرفی می کند، جایی که لایه های نازک مقاوم اساساً یک پاسخ حرارتی نوری به پرتو لیزر با طول موج متغیر هستند و به طول موج لیزر حساس نیستند. تکنیک‌های لیتوگرافی با حالت حرارتی لیزری، روش‌های تولید را بسیار ساده می‌کنند، زیرا نه به منبع نور خاص و نه به محیط خاصی نیاز دارند. علاوه بر این، هیچ مرحله قبل و بعد از پخت برای فوتوریست های آلی لازم نیست. با تنظیم استراتژی نوشتن، اندازه ویژگی الگو می تواند بزرگتر یا کوچکتر از نقطه لیزر باشد. اندازه ویژگی لیتوگرافی نیز می تواند به طور دلخواه از مقیاس نانو به میکرومتر تنظیم شود بدون اینکه اندازه لکه لیزری تغییر کند. در نهایت، زبری لبه خط را می توان در یک مقدار بسیار پایین کنترل کرد زیرا فرآیند اچینگ فرآیندی برای شکستن پیوندهای بین اتم ها است. این کتاب یک راهنمای مرجع ارزشمند برای همه دانشجویان پیشرفته، دانشجویان کارشناسی ارشد، محققان و مهندسین شاغل در زمینه‌های نانوساخت، تکنیک‌ها و سیستم‌های لیتوگرافی، مواد تغییر فاز و غیره ارائه می‌کند.

This book provides a systematic description and analysis of laser heat-mode lithography, addressing the basic principles, lithography system, manipulation of feature size, grayscale lithography, resist thin films, and pattern transfer, while also presenting typical experimental results and applications. It introduces laser heat-mode lithography, where the resist thin films are essentially an opto-thermal response to the laser beam with changeable wavelength and are not sensitive to laser wavelength. Laser heat-mode lithography techniques greatly simplify production procedures because they require neither a particular light source nor a particular environment; further, there are no pre-baking and post-baking steps required for organic photoresists. The pattern feature size can be either larger or smaller than the laser spot by adjusting the writing strategy. The lithographic feature size can also be arbitrarily tuned from nanoscale to micrometer without changing the laser spot size. Lastly, the line edge roughness can be controlled at a very low value because the etching process is a process of breaking bonds among atoms. The book offers an invaluable reference guide for all advanced undergraduates, graduate students, researchers and engineers working in the fields of nanofabrication, lithography techniques and systems, phase change materials, etc.