ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Laser Crystallization of Silicon-Fundamentals to Devices

دانلود کتاب تبلور لیزری سیلیکون - مبانی به دستگاه ها

Laser Crystallization of Silicon-Fundamentals to Devices

مشخصات کتاب

Laser Crystallization of Silicon-Fundamentals to Devices

ویرایش:  
نویسندگان:   
سری: Semiconductors and Semimetals 75 
ISBN (شابک) : 9780127521848 
ناشر: Elsevier 
سال نشر: 2003 
تعداد صفحات: 215 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 2 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 45,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 3


در صورت تبدیل فایل کتاب Laser Crystallization of Silicon-Fundamentals to Devices به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب تبلور لیزری سیلیکون - مبانی به دستگاه ها نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب تبلور لیزری سیلیکون - مبانی به دستگاه ها

این کتاب در مورد تبلور لیزری سیلیکون به بررسی آخرین مطالعات تجربی و نظری در این زمینه می پردازد. این توسط مقامات معتبر جهانی نوشته شده است و جدیدترین پدیده های مربوط به فرآیند تبلور لیزری و خواص سیلیکون پلی کریستالی حاصل را پوشش می دهد. با انعکاس ماهیت واقعاً بین رشته‌ای رشته‌ای که این مجموعه پوشش می‌دهد، این جلد همچنان مورد توجه فیزیکدانان، شیمی‌دانان، دانشمندان مواد و مهندسان دستگاه در صنعت مدرن خواهد بود. کاربردهای با ارزش برای صنعت، به ویژه در ساخت قطعات الکترونیکی لایه نازک، هر فصل مورد بررسی قرار گرفته است. سهم مهم و به موقع در ادبیات نیمه هادی


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

This book on the Laser Crystallization of Silicon reviews the latest experimental and theoretical studies in the field. It has been written by recognised global authorities and covers the most recent phenomena related to the laser crystallization process and the properties of the resulting polycrystalline silicon. Reflecting the truly interdisciplinary nature of the field that the series covers, this volume will continue to be of great interest to physicists, chemists, materials scientists and device engineers in modern industry. Valuable applications for industry, particularly in the fabrication of thin-film electronics Each chapter has been peer reviewed An important and timely contribution to the semiconductor literature



فهرست مطالب

Content: 
Contents
Pages v-vii

List of Contributors
Page ix

Preface
Page xi

Chapter 1 Introduction to Laser Crystallization of Silicon Review Article
Pages 1-10
Norbert H Nickel

Chapter 2 Heat Transfer and Phase Transformations in Laser Melting and Recrystallization of Amorphous Thin Si Films Review Article
Pages 11-41
Costas P. Grigoropoulos, Seung-Jae Moon, Ming-Hong Lee

Chapter 3 Modeling Laser-Induced Phase-Change Processes: Theory and Computation Review Article
Pages 43-78
Robert Černý, Petr Přikryl

Chapter 4 Laser Interference Crystallization of Amorphous Films Review Article
Pages 79-118
Paulo V Santos

Chapter5 Structural and Electronic Properties of Laser-Crystallized Poly-Si Review Article
Pages 119-172
Philipp Lengsfeld, Norbert H. Nickel

Subject Index
Pages 173-177

Contents of Volume
Pages 179-201





نظرات کاربران