دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش:
نویسندگان: Prof. H. Nickel (Eds.)
سری: Semiconductors and Semimetals 75
ISBN (شابک) : 9780127521848
ناشر: Elsevier
سال نشر: 2003
تعداد صفحات: 215
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 2 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Laser Crystallization of Silicon-Fundamentals to Devices به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب تبلور لیزری سیلیکون - مبانی به دستگاه ها نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این کتاب در مورد تبلور لیزری سیلیکون به بررسی آخرین مطالعات تجربی و نظری در این زمینه می پردازد. این توسط مقامات معتبر جهانی نوشته شده است و جدیدترین پدیده های مربوط به فرآیند تبلور لیزری و خواص سیلیکون پلی کریستالی حاصل را پوشش می دهد. با انعکاس ماهیت واقعاً بین رشتهای رشتهای که این مجموعه پوشش میدهد، این جلد همچنان مورد توجه فیزیکدانان، شیمیدانان، دانشمندان مواد و مهندسان دستگاه در صنعت مدرن خواهد بود. کاربردهای با ارزش برای صنعت، به ویژه در ساخت قطعات الکترونیکی لایه نازک، هر فصل مورد بررسی قرار گرفته است. سهم مهم و به موقع در ادبیات نیمه هادی
This book on the Laser Crystallization of Silicon reviews the latest experimental and theoretical studies in the field. It has been written by recognised global authorities and covers the most recent phenomena related to the laser crystallization process and the properties of the resulting polycrystalline silicon. Reflecting the truly interdisciplinary nature of the field that the series covers, this volume will continue to be of great interest to physicists, chemists, materials scientists and device engineers in modern industry. Valuable applications for industry, particularly in the fabrication of thin-film electronics Each chapter has been peer reviewed An important and timely contribution to the semiconductor literature
Content:
Contents
Pages v-vii
List of Contributors
Page ix
Preface
Page xi
Chapter 1 Introduction to Laser Crystallization of Silicon Review Article
Pages 1-10
Norbert H Nickel
Chapter 2 Heat Transfer and Phase Transformations in Laser Melting and Recrystallization of Amorphous Thin Si Films Review Article
Pages 11-41
Costas P. Grigoropoulos, Seung-Jae Moon, Ming-Hong Lee
Chapter 3 Modeling Laser-Induced Phase-Change Processes: Theory and Computation Review Article
Pages 43-78
Robert Černý, Petr Přikryl
Chapter 4 Laser Interference Crystallization of Amorphous Films Review Article
Pages 79-118
Paulo V Santos
Chapter5 Structural and Electronic Properties of Laser-Crystallized Poly-Si Review Article
Pages 119-172
Philipp Lengsfeld, Norbert H. Nickel
Subject Index
Pages 173-177
Contents of Volume
Pages 179-201