Ionenimplantation

در سال‌های اخیر کتاب‌های متعددی با موضوع کاشت یون منتشر شده است که تقریباً به طور انحصاری برای دانشمندانی که در زمینه کاشت یون فعالیت می‌کنند می‌باشد و به همین دلیل فضای زیادی به این نظریه می‌دهد. در مقابل، کار حاضر کمتر متخصص کاشت و بیشتر متوجه محققان و توسعه‌دهندگان در صنعت، آزمایشگاه‌های تحقیقاتی و دانشگاه‌هایی است که به کاشت یون به عنوان ابزاری جدید برای تغییر خواص مواد علاقه‌مند هستند و می‌خواهند بدانند که آیا کاشت یون قابل استفاده است یا خیر. چون مشکل شما قابل اجراست در چنین جهت گیری، به نظر ما، علاوه بر طرح مختصری از مبانی نظری، درمان مشکلات در کاربرد کاشت باید در پیش زمینه ارائه باشد که برای مثال، فعال سازی الکتریکی یون های کاشته شده از آن جمله است. ، اثرات انتشار و بحث در مورد روش های اندازه گیری عمدتا مورد استفاده برای بررسی لایه های کاشته شده، تجهیزات مورد نیاز برای سیستم های شتاب و البته نمونه های متعددی از کاربرد کاشت یون. تمرکز کتاب بر روی دوپینگ نیمه هادی ها با کاشت یون است، زیرا این کاربرد اصلی آنها در حال حاضر و احتمالاً برای مدت طولانی است. با این وجود، گزینه‌های کاشت بیشتر به صورت موردی مورد بحث قرار می‌گیرند.

In den letzten Jahren erschienen bereits mehrere Bücher zum Thema Ionenimplanta­ tion, die sich fast ausschließlich an auf dem Gebiet der Ionenimplantation tätige Wissenschaftler wenden und deshalb der Theorie einen sehr breiten Raum einräumen. Im Gegensatz hierzu wendet sich das vorliegende Werk weniger an den Implanta­ tionsfachmann, sondern mehr an Forscher und Entwickler in Industrie, F or­ schungslaboratorien und Hochschulen, die an der Ionenimplantation als neuem Hilfsmittel zur Veränderung von Materialeigenschaften interessiert sind und wissen wollen, ob die Ionenimplantation für ihr Problem anwendbar ist. Bei einer solchen Ausrichtung muß deshalb nach unserer Meinung neben einem kurzen Abriß der theoretischen Grundlagen vor allem die Behandlung von Problemen bei der Anwendung der Implantation im Vordergrund der Darstellung stehen, wovon hier zum Beispiel genannt seien die elektrische Aktivierung implantierter Ionen, Diffusionseffekte sowie die Diskussion der hauptsächlich verwendeten Meß­ methoden zur Untersuchung implantierter Schichten, die apparativen Anforderungen an Beschleunigungssysteme und natürlich zahlreiche Beispiele zur Anwendung der Ionenimplantation. Die Schwerpunkte des Buches liegen bei der Dotierung von Halbleitern durch Ionenimplantation, da dies zur Zeit und wahrscheinlich noch sehr lange ihre Hauptanwendung sein wird; dennoch wird von Fall zu Fall auf die weiteren Möglich­ keiten der Implantation eingegangen.