ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Ion Implantation Science and Technology

دانلود کتاب علم و فناوری کاشت یون

Ion Implantation Science and Technology

مشخصات کتاب

Ion Implantation Science and Technology

ویرایش: 2 Sub 
نویسندگان:   
سری:  
ISBN (شابک) : 9780127806211, 0127806210 
ناشر: Academic Press 
سال نشر: 1988 
تعداد صفحات: 492 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 9 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 31,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 7


در صورت تبدیل فایل کتاب Ion Implantation Science and Technology به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب علم و فناوری کاشت یون نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب علم و فناوری کاشت یون

علم و فناوری کاشت یون 2e ...


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Ion Implantation Science and Technology 2e ...



فهرست مطالب

Content: 
Front Matter, Page iii
Copyright, Page iv
Contributors, Pages vii-viii
Preface, Page ix, J.F. Ziegler
THE STOPPING AND RANGE OF IONS IN SOLIDS, Pages 3-61, J.F. Ziegler
ION IMPLANTATION DAMAGE IN SILICON, Pages 63-92, Siegfried Mader
EXPERIMENTAL ANNEALING AND ACTIVATION, Pages 93-163, JOZSEF GYULAI
MEASUREMENT OF ION IMPLANTATION, Pages 165-218, P.L.F. Hemment
An INTRODUCTION TO ION SOURCES, Pages 221-289, Ken G. Stephens
ION OPTICS AND FOCUSSING IN IMPLANTER DESIGN, Pages 291-312, Kenneth H. Purser, Nicholas R. White
Wafer Cooling, Faraday Design and Wafer Charging, Pages 313-344, M.E. Mack
PHOTORESIST PROBLEMS AND PARTICLE CONTAMINATION, Pages 345-375, T.C. Smith
Ion Implantation Diagnostics and Process Control, Pages 377-413, M.I. Current, C.B. Yarling, W.A. Keenan
SAFETY CONSIDERATIONS FOR ION IMPLANTERS, Pages 415-439, H. Ryssel, P. Hamers
EMISSION OF IONIZING RADIATION FROM ION IMPLANTERS, Pages 441-489, Constantine J. Maletskos, William R. Ghen
INDEX, Pages 491-498




نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی