دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش:
نویسندگان: T. Itoh (Eds.)
سری: Beam modification of materials
ISBN (شابک) : 9780444872807, 0444599088
ناشر: Elsevier Science
سال نشر: 1989
تعداد صفحات: 443
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 13 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Ion Beam Assisted Film Growth به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب پرتو یونی به رشد فیلم کمک کرد نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این جلد اطلاعات به روز در مورد جنبه های تجربی، نظری و تکنولوژیکی رشد فیلم به کمک پرتوهای یونی ارائه می دهد. رشد فیلم به کمک پرتو یونی یکی از موثرترین تکنیک ها در کمک به رشد لایه های جامد نازک با کیفیت بالا به روش کنترل شده است. علاوه بر این، پرتوهای یونی نقش غالبی در کاهش دمای رشد لایههای نازک مواد با نقطه ذوب بالا دارند. در به این ترتیب، پرتوهای یونی سهم قابل توجه و پیچیده ای در رشد فیلم دارند. این جلد برای دانشمندان، مهندسان و دانشجویانی که در این کشور کار می کنند خواندنی ضروری خواهد بود. بیشتر بخوانید...
This volume provides up to date information on the experimental, theoretical and technological aspects of film growth assisted by ion beams. Ion beam assisted film growth is one of the most effective techniques in aiding the growth of high-quality thin solid films in a controlled way. Moreover, ion beams play a dominant role in the reduction of the growth temperature of thin films of high melting point materials. In this way, ion beams make a considerable and complex contribution to film growth. The volume will be essential reading for scientists, engineers and students working in thi. Read more...
Content:
BEAM MODIFICATION OF MATERIALS, Page ii
Front Matter, Page iii
Copyright, Page iv
PREFACE, Pages v-vi
CONTRIBUTORS, Pages xv-xvii
Chapter 1 - OVERVIEW, Pages 1-8, T. ITOH
Chapter 2 - FILM GROWTH BY ION BEAM AND PLASMA DISCHARGE SPUTTERING METHOD, Pages 9-32, Roy H. Cornely
Chapter 3 - PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF II–VI SEMICONDUCTOR FILMS BY SPUTTERING, Pages 33-57, T. TAGUCHI, A. HIRAKI
Chapter 4 - SPUTTERING YIELD, Pages 59-100, Yasunori YAMAMURA, Noriaki ITOH
Chapter 5 - LOW-ENERGY ION/SURFACE INTERACTIONS DURING FILM GROWTH FROM THE VAPOR PHASE, Pages 101-152, J.E. Greene, S.A. Barnett, J.-E. Sundgren, A. Rockett
Chapter 6 - ION BEAM MIXING, Pages 153-221, B.M. PAINE, B.X. LIU
Chapter 7A - PARTIALLY IONIZED MOLECULAR BEAM EPITAXY, Pages 223-251, T. ITOH, H. TAKAI
Chapter 7B - IONIZED CLUSTER BEAM DEPOSITION, Pages 253-288, T. TAKAGI, I. YAMADA
Chapter 8 - DIRECT ION BEAM DEPOSITION, Pages 289-318, Kiyoshi Miyake, Takashi Tokuyama
Chapter 9 - FILM GROWTH BY UTILIZING IONIZED CARBON BEAM, Pages 319-341, Shun-ichi GONDA
Chapter 10 - MOLECULAR BEAM EPITAXY OF III–V COMPOUND SEMICONDUCTORS USING MASS SEPARATED LOW ENERGY ION BEAM, Pages 343-378, Y. MAKITA, S. SHIMIZU
Chapter 11 - ION BEAM SYNTHESIS OF FILMS, Pages 379-424, I.H. Wilson, P.L.F. Hemment, K.G. Stephens
SUBJECT INDEX, Pages 425-434
MATERIAL INDEX, Pages 435-439