دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش:
نویسندگان: Larry F. Thompson
سری:
ISBN (شابک) : 0841207755, 9780841207752
ناشر: Amer Chemical Society
سال نشر: 1983
تعداد صفحات: 364
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 26 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Introduction to Microlithography: Theory, Materials, and Processing (Acs Symposium Series) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب مقدمه ای بر میکرولیتوگرافی: نظریه، مواد و پردازش (سری سمپوزیوم Acs) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
Title Page......Page 1
Half Title Page......Page 3
Copyright......Page 4
ACS Symposium Series......Page 5
FOREWORD......Page 6
PREFACE......Page 7
1 An Introduction to Lithography......Page 8
1.1 Historical Perspective......Page 9
1.2 Lithographic Strategies......Page 14
1.3 Resist Materials and Processes......Page 17
Literature Cited......Page 18
2 The Lithographic Process: The Physics......Page 21
2.1 Photolithography......Page 22
2.2 Electron Beam Lithography......Page 53
2.3 X-ray Lithography......Page 80
Literature Cited......Page 88
3 Organic Resist Materials — Theory and Chemistry......Page 92
3.1 Introduction......Page 93
3.2 The Resist Hierarchy......Page 95
3.3 Resist Sensitometry......Page 97
3.4 Lithographic Sensitivity......Page 103
3.5 The Chemistry of Classical Optical Resist Systems......Page 112
3.6 Chemistry of Electron Beam Resist......Page 127
3.7 X-ray Resists......Page 143
3.8 Dry Processed Resist......Page 145
3.9 Mid UV Resists......Page 150
3.10 Deep UV Resists......Page 153
Literature Cited......Page 160
4 Resist Processing......Page 165
4.1 Introduction......Page 166
4.2 Performance Criteria......Page 168
4.3 Processing Steps......Page 183
Literature Cited......Page 216
5 Plasma Etching......Page 219
5.1 Introduction......Page 220
5.2 Glow Discharges (Plasmas)......Page 222
5.3 Plasma Etching Systems......Page 233
5.4 Etching Considerations......Page 236
5.5 Profile and Dimensional Control......Page 252
5.6 Process Monitoring (Diagnostics)......Page 258
5.7. Other Dry Etch Techniques......Page 281
5.8. Safety Considerations......Page 282
Literature Cited......Page 283
6 Multi-Layer Resist Systems......Page 290
6.1 Introduction......Page 291
6.2 Motivations for MLR Systems......Page 293
6.3 Existing MLR Systems......Page 303
6.4 Practical Considerations......Page 324
6.5 Comparison of Existing Systems......Page 345
Literature Cited......Page 351
C......Page 354
E......Page 355
F......Page 356
I......Page 357
M......Page 358
O......Page 359
P......Page 360
R......Page 361
S......Page 362
V......Page 363
X......Page 364