برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید

09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Integrated Circuits: Chemical and Physical Processing

دانلود کتاب مدارهای مجتمع: پردازش شیمیایی و فیزیکی

مشخصات کتاب

Integrated Circuits: Chemical and Physical Processing

دسته بندی: علم شیمی
ویرایش:  
نویسندگان: Pieter Stroeve (Eds.)  
سری: ACS Symposium Series 290 
ISBN (شابک) : 9780841209404, 0841209405 
ناشر: American Chemical Society 
سال نشر: 1985 
تعداد صفحات: 355 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 6 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 44,000

میانگین امتیاز به این کتاب :
تعداد امتیاز دهندگان : 13

در صورت تبدیل فایل کتاب Integrated Circuits: Chemical and Physical Processing به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب مدارهای مجتمع: پردازش شیمیایی و فیزیکی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.

توضیحاتی در مورد کتاب مدارهای مجتمع: پردازش شیمیایی و فیزیکی

محتوا: فرآیندهای واحد در ساخت مدارهای مجتمع / پیتر استرو --
قوانین بقای جرم، تکانه و انرژی: کاربرد در دستگاه های نیمه هادی و فناوری / Bill Baerg --
اکسیداسیون سیلیکون: گامی فرآیندی برای ساخت مدارهای مجتمع / یوجین آ. ایرنه --
انتشار همرفتی در پالایش منطقه ای فلزات و نیمه هادی های مایع با عدد پراندتل کم / ویلیام ان. گیل، نیکلاس دی. کازارینوف و جان دی ورهوفن - -
فرصت های تحقیقاتی در فناوری مقاومت / دیوید اس سونگ --
اصلاحات فیزیکی و شیمیایی فوتوریست ها / پیتر سی. سوکانک --
اثرات تمرکز توسعه دهنده بر کنترل پهنای خط در مقاومت نوری مثبت / تام Batchelder --
مزیت اپیتاکسی پرتو مولکولی برای کاربردهای دستگاه / A.Y. Cho --
پردازش شیمیایی و فیزیکی مدارهای مجتمع کاشته شده با یون / جوزف سی. پلانکت --
پردازش به کمک پلاسما: اچ کردن پلی سیلیکون در تخلیه کلر دیاتومیک / هربرت اچ. ساوین، آلبرت دی ریچاردز و برایان ای تامپسون --
کاربردهای اکسیدها و نیتریدهای ژرمانیوم برای دستگاه های نیمه هادی / O.J. Gregory and E.E. Crisman --
اپیتاکسی فاز بخار دستگاه های اپتوالکترونیکی ترکیبی گروه III-V / G.H. اولسن --
ایزوله سازی پیشرفته دستگاه برای یکپارچه سازی در مقیاس بسیار بزرگ / H.B. Pogge --
تعادل جامد-مایع در مواد نیمه هادی سه تایی گروه III-V / T.L. آسلاژ، ک.م. چانگ و تی.جی. اندرسون : تهیه سوپرشبکه های لایه کرنش با کیفیت دستگاه / R.M. Biefeld --
طراحی و خصوصیات ویفر برای فرآیندهای مدار مجتمع / R. Schindler، D. Huber و J. Reffle.

توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Content: Unit processes in the manufacture of integrated circuits / Pieter Stroeve --
Conservation laws for mass, momentum, and energy : application to semiconductor devices and technology / Bill Baerg --
Silicon oxidation : a process step for the manufacture of integrated circuits / Eugene A. Irene --
Convective diffusion in zone refining of low Prandtl number liquid metals and semiconductors / William N. Gill, Nicholas D. Kazarinoff, and John D. Verhoeven --
Research opportunities in resist technology / David S. Soong --
Physical and chemical modifications of photoresists / Peter C. Sukanek --
Effects of developer concentration on linewidth control in positive photoresists / Tom Batchelder --
The advantage of molecular-beam epitaxy for device applications / A.Y. Cho --
Chemical and physical processing of ion-implanted integrated circuits / Joseph C. Plunkett --
Plasma-assisted processing : the etching of polysilicon in a diatomic chlorine discharge / Herbert H. Sawin, Albert D. Richards, and Brian E. Thompson --
Applications of oxides and nitrides of germanium for semiconductor devices / O.J. Gregory and E.E. Crisman --
Vapor-phase epitaxy of Group III-V compound optoelectronic devices / G.H. Olsen --
Advanced device isolation for very large scale integration / H.B. Pogge --
Solid-liquid equilibrium in ternary Group III-V semiconductor materials / T.L. Aselage, K.M. Chang, and T.J. Anderson : preparation of device-quality strained-layer superlattices / R.M. Biefeld --
Wafer design and characterization for integrated-circuit processes / R. Schindler, D. Huber, and J. Reffle.