برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید

09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب In situ Characterization of Thin Film Growth (Woodhead Publishing in Materials)

دانلود کتاب خصوصیات درجا رشد لایه نازک (نشر وودهد در مواد)

مشخصات کتاب

In situ Characterization of Thin Film Growth (Woodhead Publishing in Materials)

دسته بندی: فیزیک حالت جامد
ویرایش:  
نویسندگان: Gertjan Koster. Guus Rijnders  
سری:  
ISBN (شابک) : 1845699343, 9781845699345 
ناشر: Woodhead Publishing 
سال نشر: 2012 
تعداد صفحات: 289 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 10 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 53,000

کلمات کلیدی مربوط به کتاب خصوصیات درجا رشد لایه نازک (نشر وودهد در مواد): فیزیک، فیزیک حالت جامد، فیزیک سطح و لایه نازک

میانگین امتیاز به این کتاب :
تعداد امتیاز دهندگان : 2

در صورت تبدیل فایل کتاب In situ Characterization of Thin Film Growth (Woodhead Publishing in Materials) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب خصوصیات درجا رشد لایه نازک (نشر وودهد در مواد) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.

توضیحاتی در مورد کتاب خصوصیات درجا رشد لایه نازک (نشر وودهد در مواد)

تکنیک‌های پیشرفته برای مشخص کردن رشد لایه نازک در محل به ایجاد درک بهتر و تشخیص سریع‌تر مسائل مربوط به فرآیند کمک می‌کند. توصیف درجا رشد لایه‌های نازک، تکنیک‌های فعلی و در حال توسعه برای توصیف رشد لایه‌های نازک را بررسی می‌کند و شکاف مهمی در تحقیقات را پوشش می‌دهد. بخش اول تکنیک های پراش الکترون برای مطالعه درجا رشد لایه نازک را پوشش می دهد، از جمله فصل هایی در مورد موضوعاتی مانند بازتاب پراش الکترون با انرژی بالا (RHEED) و تکنیک های پراکندگی غیر کشسان. بخش دوم بر تکنیک‌های انتشار نور متمرکز است، با فصل‌هایی که طیف‌سنجی انتشار نور فرابنفش (UPS)، طیف‌سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس (XPS) و بیضی‌سنجی طیف‌سنجی درجا را برای توصیف رشد لایه نازک پوشش می‌دهد. در نهایت، بخش سوم روش های جایگزین در محل توصیف می کند. فصل‌های این بخش موضوعاتی مانند مشخصه‌یابی سطح پرتو یونی، نظارت بر روی سطح رشد لایه نازک در زمان واقعی، پایش بخار رسوب‌گذاری و استفاده از پراش اشعه ایکس سطحی برای مطالعه رشد لایه همپایی را مورد بحث قرار می‌دهند.-فصل‌ها به بررسی تکنیک‌های پراش الکترونی، از جمله روش‌شناسی مشاهدات و اندازه‌گیری‌ها - بحث درباره اصول و کاربردهای تکنیک‌های انتشار نور - بررسی تکنیک‌های جایگزین در محل مشخص‌سازی - یک مرجع استاندارد برای دانشمندان و مهندسان مواد در صنایع الکترونیک و فوتونیک

توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Advanced techniques for characterizing thin film growth in situ help to develop improved understanding and faster diagnosis of issues with the process. In situ characterization of thin film growth reviews current and developing techniques for characterizing the growth of thin films, covering an important gap in research. Part one covers electron diffraction techniques for in situ study of thin film growth, including chapters on topics such as reflection high-energy electron diffraction (RHEED) and inelastic scattering techniques. Part two focuses on photoemission techniques, with chapters covering ultraviolet photoemission spectroscopy (UPS), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and in situ spectroscopic ellipsometry for characterization of thin film growth. Finally, part three discusses alternative in situ characterization techniques. Chapters in this part discuss topics such as ion beam surface characterization, real time in situ surface monitoring of thin film growth, deposition vapor monitoring and the use of surface x-ray diffraction for studying epitaxial film growth.-Chapters review electron diffraction techniques, including the methodology for observations and measurements -Discusses the principles and applications of photoemission techniques -Examines alternative in situ characterization techniques -A standard reference for materials scientists and engineers in the electronics and photonics industries

فهرست مطالب

In situ characterization of thin film growth......Page 2
In situ characterization of thin film growth......Page 4
Contents......Page 6
Contributor contact details......Page 10