ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Hydrogen in Semiconductors II

دانلود کتاب هیدروژن در نیمه هادی ها II

Hydrogen in Semiconductors II

مشخصات کتاب

Hydrogen in Semiconductors II

ویرایش: 1 
نویسندگان:   
سری: Semiconductors and Semimetals 61 
ISBN (شابک) : 0127521704, 9780080525259 
ناشر: Academic Press 
سال نشر: 1999 
تعداد صفحات: 541 
زبان: English  
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 6 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 58,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 9


در صورت تبدیل فایل کتاب Hydrogen in Semiconductors II به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب هیدروژن در نیمه هادی ها II نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب هیدروژن در نیمه هادی ها II

از زمان آغاز به کار آن در سال 1966، مجموعه ای از مجلدات شماره گذاری شده به نام نیمه هادی ها و نیمه فلزات از طریق انتخاب دقیق نویسندگان، ویراستاران و مشارکت کنندگان مشهور خود را متمایز کرده است. مجموعه "ویلاردسون و بیر"، همانطور که به طور گسترده شناخته شده است، موفق به انتشار جلدها و فصل های شاخص متعددی شده است. بسیاری از این مجلدات نه تنها در زمان انتشار تأثیر گذاشتند، بلکه سال‌ها پس از انتشار اصلی‌شان همچنان مورد استناد قرار می‌گیرند. اخیراً، پروفسور Eicke R. Weber از دانشگاه کالیفرنیا در برکلی به عنوان یکی از سردبیران این مجموعه پیوست. پروفسور وبر، متخصص مشهور در زمینه مواد نیمه هادی، بیشتر به ادامه سنت مجموعه در انتشار به موقع، بسیار مرتبط و طولانی مدت کمک خواهد کرد. برخی از مجلدات اخیر، مانند هیدروژن در نیمه هادی ها، عیوب در مواد III/V، ریزساختارهای هم محور، دستگاه های ناهمسان ساختاری با سرعت بالا، اکسیژن در سیلیکون، و دیگران نوید می دهند که این سنت حفظ و حتی گسترش خواهد یافت. بازتاب ماهیت بین رشته ای واقعا از حوزه ای که این مجموعه پوشش می دهد، حجم های نیمه هادی ها و نیمه فلزات مورد توجه فیزیکدانان، شیمیدانان، دانشمندان مواد و مهندسان دستگاه در صنعت مدرن بوده و خواهد بود. ویژگی های کلیدی * عمیق ترین پوشش هیدروژن در سیلیکون موجود در یک منبع را ارائه می دهد * شامل یک فصل گسترده در مورد خنثی سازی عیوب در نیمه هادی های III * b1V ** مطالعات تجربی و نظری را برای تشکیل یک مرجع جامع ترکیب می کند.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Since its inception in 1966, the series of numbered volumes known as Semiconductors and Semimetals has distinguished itself through the careful selection of well-known authors, editors, and contributors. The "Willardson and Beer" Series, as it is widely known, has succeeded in publishing numerous landmark volumes and chapters. Not only did many of these volumes make an impact at the time of their publication, but they continue to be well-cited years after their original release. Recently, Professor Eicke R. Weber of the University of California at Berkeley joined as a co-editor of the series. Professor Weber, a well-known expert in the field of semiconductor materials, will further contribute to continuing the series' tradition of publishing timely, highly relevant, and long-impacting volumes. Some of the recent volumes, such as Hydrogen in Semiconductors, Imperfections in III/V Materials, Epitaxial Microstructures, High-Speed Heterostructure Devices, Oxygen in Silicon, and others promise that this tradition will be maintained and even expanded.Reflecting the truly interdisciplinary nature of the field that the series covers, the volumes in Semiconductors and Semimetals have been and will continue to be of great interest to physicists, chemists, materials scientists, and device engineers in modern industry. Key Features* Provides the most in-depth coverage of hydrogen in silicon available in a single source* Includes an extensive chapter on the neutralization of defects in III*b1V semiconductors**Combines both experimental and theoretical studies to form a comprehensive reference



فهرست مطالب

Content: 
Editorial board
Page ii

Edited by
Page iii

Copyright page
Page iv

Preface
Page xi
Norbert H. Nickel

List of Contributors
Pages xiii-xiv

Chapter 1: Introduction to Hydrogen in Semiconductors II Original Research Article
Pages 1-11
Norbert H. Nickel

Chapter 2: Isolated Monatomic Hydrogen in Silicon Original Research Article
Pages 13-23
Noble M. Johnson, Chris G. Van de Walle

Chapter 3: Electron Paramagnetic Resonance Studies of Hydrogen and Hydrogen-Related Defects in Crystalline Silicon Original Research Article
Pages 25-81
Yurij V. Gorelkinskii

Chapter 4: Hydrogen in Polycrystalline Silicon Original Research Article
Pages 83-163
Norbert H. Nickel

Chapter 5: Hydrogen Phenomena in Hydrogenated Amorphous Silicon Original Research Article
Pages 165-239
Wolfhard Beyer

Chapter 6: Hydrogen Interactions with Polycrystalline and Amorphous Silicon — Theory Original Research Article
Pages 241-281
Chris G. Van de Walle

Chapter 7: Hydrogen in Polycrystalline CVD Diamond Original Research Article
Pages 283-310
Karen M. McNamara Rutledge

Chapter 8: Dynamics of Muonium Diffusion, Site Changes, and Charge-State Transitions Original Research Article
Pages 311-371
Roger L. Lichti

Chapter 9: Hydrogen in III-V and II-VI Semiconductors Original Research Article
Pages 373-440
Matthew D. McCluskey, Eugene E. Haller

Chapter 10: The Properties of Hydrogen in GaN and Related Alloys Original Research Article
Pages 441-478
S.J. Pearton, J.W. Lee

Chapter 11: Theory of Hydrogen in GaN Original Research Article
Pages 479-502
Jörg Neugebauer, Chris G. Van de Walle

Index
Pages 503-508

Contents of Volumes in This Series
Pages 509-526





نظرات کاربران