دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Handbook of VLSI Microlithography - Principles, Technology and Applications
دانلود کتاب کتابچه میکرولیتوگرافی VLSI - اصول ، فناوری و کاربردها
مشخصات کتاب
Handbook of VLSI Microlithography - Principles, Technology and Applications
ویرایش: 2nd Edition
نویسندگان: Helbert. J.N.(eds.)
سری:
ISBN (شابک) : 9780815517801, 9780815514442
ناشر: William Andrew Publishing/Noyes
سال نشر: 2001
تعداد صفحات: 986
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 12 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 87,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Handbook of VLSI Microlithography - Principles, Technology and Applications به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب کتابچه میکرولیتوگرافی VLSI - اصول ، فناوری و کاربردها نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب کتابچه میکرولیتوگرافی VLSI - اصول ، فناوری و کاربردها
این کتاب راهنما به خوانندگان نگاهی دقیق به کل فناوری چاپ
الگوهای مدار مجتمع (IC) با وضوح بسیار بالا و چگالی بالا در
پوششهای نازک انتقال فرآیند مقاوم میدهد - از جمله لیتوگرافی
نوری، پرتو الکترونی، پرتو یونی و لیتوگرافی اشعه ایکس. موضوع
اصلی کتاب، فرآیند چاپ ویژه مورد نیاز برای دستیابی به تولید
تراشه IC با چگالی بالا، به ویژه در صنعت حافظه با دسترسی تصادفی
پویا (DRAM) است.
این کتاب با مقایسه روشهای مختلف لیتوگرافی، سه پارامتر الگوی
اصلی خط/فضا، وضوح، لبه خط و کنترل ابعاد ویژگی الگو را پوشش
میدهد. توضیح کتاب در مورد فناوری تجهیزات فرآیند مقاومت و
مقاومت ممکن است اولین توصیف عملی از رابطه بین پارامترهای فرآیند
مقاومت و تجهیزات باشد. اصول اولیه فناوری مقاومت به طور کامل
پوشش داده شده است - از جمله یک فصل کامل در مورد نقص فرآیند
مقاومت و اثر محدود کننده بازده بالقوه بر تولید دستگاه.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
This handbook gives readers a close look at the entire
technology of printing very high resolution and high density
integrated circuit (IC) patterns into thin resist process
transfer coatings - including optical lithography, electron
beam, ion beam, and X-ray lithography. The book's main theme is
the special printing process needed to achieve volume high
density IC chip production, especially in the Dynamic Random
Access Memory (DRAM) industry.
The book leads off with a comparison of various lithography
methods, covering the three major patterning parameters of
line/space, resolution, line edge and pattern feature dimension
control. The book's explanation of resist and resist process
equipment technology may well be the first practical
description of the relationship between the resist process and
equipment parameters. The basics of resist technology are
completely covered - including an entire chapter on resist
process defectivity and the potential yield limiting effect on
device production.
فهرست مطالب
Content:
Front Matter
• Preface
• Table of Contents
1. Issues and Trends Affecting Lithography Tool Selection Strategy
2. Resist Technology - Design, Processing, and Applications
3. Lithography Process Monitoring and Defect Detection
4. Techniques and Tools for Photo Metrology
5. Techniques and Tools for Optical Lithography
6. Microlithography Tool Automation
7. Electron-Beam ULSI Applications
8. Rational Vibration and Structural for Dynamics Lithographic Tool Installations
9. Applications of Ion Microbeams Lithography and Direct Processing
10. X-ray Lithography
Index
نظرات کاربران
کتاب های تصادفی
دانلود کتاب After the Crash: Psychological Assessment and Treatment of Survivors of Motor Vehicle Accidents
دانلود کتاب Ruby on Rails Web Mashup Projects: A step-by-step tutorial to building web mashups
دانلود کتاب Understanding Research: A Consumer's Guide, Loose-Leaf Version with Enhanced Pearson eText -- Access Card Package
دانلود کتاب International Politics and German History: The Past Informs the Present
