ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Handbook of Chemical Vapour Deposition

دانلود کتاب دفترچه راهنمای بخار شیمیایی

Handbook of Chemical Vapour Deposition

مشخصات کتاب

Handbook of Chemical Vapour Deposition 

ویرایش: 2 
نویسندگان:   
سری:  
ISBN (شابک) : 9780815514329 
ناشر: William Andrew 
سال نشر:  
تعداد صفحات: 424 
زبان: English  
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 3 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 57,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 8


در صورت تبدیل فایل کتاب Handbook of Chemical Vapour Deposition به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب دفترچه راهنمای بخار شیمیایی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب دفترچه راهنمای بخار شیمیایی

برای درک آخرین پیشرفت ها در فرآیند رسوب بخار شیمیایی (CVD) به این ویرایش دوم جدید مراجعه کنید. فناوری CVD اخیراً با سرعت زیادی رشد کرده است و تعداد و دامنه کاربردهای آن و تأثیر آنها بر بازار به طور قابل توجهی افزایش یافته است. اکنون تخمین زده می شود که بازار حداقل دو برابر بازار هفت سال پیش باشد که اولین ویرایش این کتاب منتشر شد. نسخه دوم یک به روز رسانی با دامنه گسترده و تجدید نظر شده است. CVD پلاسما و CVD متالو آلی دو عامل اصلی در این رشد سریع هستند. خوانندگان آخرین داده های مربوط به هر دو فرآیند را در این جلد خواهند یافت. به همین ترتیب، کتاب اهمیت رو به رشد CVD در تولید نیمه هادی ها و کاربردهای مرتبط را توضیح می دهد.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Turn to this new second edition for an understanding of the latest advances in the chemical vapor deposition (CVD) process. CVD technology has recently grown at a rapid rate, and the number and scope of its applications and their impact on the market have increased considerably. The market is now estimated to be at least double that of a mere seven years ago when the first edition of this book was published. The second edition is an update with a considerably expanded and revised scope. Plasma CVD and metallo-organic CVD are two major factors in this rapid growth. Readers will find the latest data on both processes in this volume. Likewise, the book explains the growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.





نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی