ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Field Guide to Optical Lithography

دانلود کتاب راهنمای میدانی لیتوگرافی نوری

Field Guide to Optical Lithography

مشخصات کتاب

Field Guide to Optical Lithography

ویرایش: Spi 
نویسندگان:   
سری: SPIE Vol. FG06 
ISBN (شابک) : 0819462071, 9780819462077 
ناشر: SPIE Publications 
سال نشر: 2006 
تعداد صفحات: 137 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 3 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 71,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 13


در صورت تبدیل فایل کتاب Field Guide to Optical Lithography به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب راهنمای میدانی لیتوگرافی نوری نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب راهنمای میدانی لیتوگرافی نوری

مطالب موجود در این راهنمای میدانی، تقطیر موادی است که توسط کریس مک در 20 سال گذشته گردآوری شده است، شامل یادداشت هایی از دوره لیتوگرافی در سطح فارغ التحصیلی او در دانشگاه تگزاس در آستین. این راهنمای فیلد جزئیات فرآیند لیتوگرافی، شکل‌گیری تصویر، تصویربرداری بر روی مقاومت نوری، شیمی مقاوم به نور، و کنترل و بهینه‌سازی لیتوگرافی را شرح می‌دهد. مقدمه‌ای بر فناوری‌های لیتوگرافی نسل بعدی، و همچنین واژه‌نامه گسترده لیتوگرافی و خلاصه‌ای از معادلات برجسته که برای هر کسی که در صنعت لیتوگرافی مهم است، گنجانده شده است.

محتوا

- نماد واژه نامه
- فرآیند لیتوگرافی
- شکل گیری تصویر
- تصویربرداری در مقاومت نوری
- شیمی مقاومت نوری
- کنترل لیتوگرافی و بهینه سازی
- خلاصه معادلات
- واژه نامه
- فهرست مطالب


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

The material in this Field Guide is a distillation of material put together by Chris Mack over the past 20 years, including notes from his graduate-level lithography course at the University of Texas at Austin. This Field Guide details the lithography process, image formation, imaging onto a photoresist, photoresist chemistry, and lithography control and optimization. An introduction to next-generation lithographic technologies is also included, as well as an extensive lithography glossary and a summation of salient equations critical to anyone involved in the lithography industry.

Contents

- Symbol Glossary
- The Lithgraphy Process
- Image Formation
- Imaging into a Photoresist
- Photoresist Chemistry
- Lithography Control and Optimization
- Equation Summary
- Glossary
- Index





نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد