دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 3rd Edition
نویسندگان: Campbell. Stephen A.
سری:
ISBN (شابک) : 9781613441107, 9780195320176
ناشر: Oxford University Press
سال نشر: 2008
تعداد صفحات: 825
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 16 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Fabrication Engineering at the Micro- and Nanoscale به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب مهندسی ساخت در مقیاس خرد و نانو نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این کتاب که برای دوره های پیشرفته کارشناسی یا کارشناسی ارشد سال اول در ساخت نیمه هادی یا میکروالکترونیک طراحی شده است، مقدمه ای کامل و در دسترس برای تمام زمینه های ساخت میکرو و نانو ارائه می دهد. این متن که به طور کامل اصلاح و به روز شده است، کل فرآیندهای واحد اصلی مورد استفاده برای ساخت مدارهای مجتمع و سایر دستگاه ها را پوشش می دهد. این شامل نمونه های کار شده، تصاویر بیشتر است و پوشش مرزهای فرآیندهای ساخت را گسترش می دهد. فیزیک و شیمی هر فرآیند به همراه توضیحاتی در مورد تجهیزات مورد استفاده برای انجام فرآیندها معرفی شده است. این متن از یک مجموعه شبیهسازی فرآیند تجاری محبوب، مجموعه کدهای Silvaco Athena® استفاده میکند تا نمونههای معناداری از بسیاری از فرآیندهای اساسی از جمله انتشار، اکسیداسیون، لیتوگرافی و رسوبگذاری را ارائه دهد. این کتاب در ادامه به بحث در مورد ادغام این فرآیندهای واحد پایه در فناوریهای مختلف، با تمرکز بر ترانزیستورهای CMOS میپردازد. متن مواد را به روشهایی در مورد مفاهیم ماژولهای فرآیند، بودجه حرارتی، معماریهای پیشرفته و استفاده از کرنش کانال برای بهبود عملکرد تقسیم میکند.
Designed for advanced undergraduate or first-year graduate courses in semiconductor or microelectronic fabrication, this book provides a thorough and accessible introduction to all fields of micro and nano fabrication. Completely revised and updated, the text covers the entire basic unit processes used to fabricate integrated circuits and other devices. It includes more worked examples, illustrations, and expands coverage of the frontiers of fabrication processes. The physics and chemistry of each process are introduced along with descriptions of the equipment used to carry out the processes. The text uses a popular commercial process simulation suite, the Silvaco Athena® set of codes, to provide meaningful examples of many of the basic processes including diffusion, oxidation, lithography, and deposition. The book goes on to discuss the integration of these basic unit processes into various technologies, concentrating on CMOS transistors. The text breaks down the material into treatments on the concepts of process modules, thermal budget, advanced architectures, and the use of channel strain for improved performance.
Content:
Front Matter
Preface
Table of Contents
Part I. Overview and Materials
1. An Introduction to Microelectronic Fabrication
2. Semiconductor Substrates
Part II. Unit Processes I: Hot Processing and Ion Implantation
3. Diffusion
4. Thermal Oxidation
5. Ion Implantation
6. Rapid Thermal Processing
Part III. Unit Processes 2: Pattern Transfer
7. Optical Lithography
8. Photoresists
9. Nonoptical Lithographic Techniques+
10. Vacuum Science and Plasmas
11. Etching
Part IV. Unit Processes 3: Thin Films
12. Physical Deposition: Evaporation and Sputtering
13. Chemical Vapor Deposition
14. Epitaxial Growth
Part V. Process Integration
15. Device Isolation, Contacts, and Metallization
16. CMOS Technologies
17. Other Transistor Technologies
18. Optoelectronic Technologies
19. MEMS
20. Integrated Circuit Manufacturing
Appendices
Index
Periodic Table of the Elements and Element Atomic Weights