دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب EUV Sources for Lithography (SPIE Press Monograph Vol. PM149)
دانلود کتاب منابع EUV برای لیتوگرافی (مونوگرافی مطبوعاتی SPIE جلد. PM149)
مشخصات کتاب
EUV Sources for Lithography (SPIE Press Monograph Vol. PM149)
دسته بندی: ابزار ویرایش: نویسندگان: Vivek Bakshi (Editor) سری: SPIE Press Monographs ISBN (شابک) : 0819458457, 9780819458452 ناشر: SPIE Publications سال نشر: 2006 تعداد صفحات: 1094 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 32 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 44,000
کلمات کلیدی مربوط به کتاب منابع EUV برای لیتوگرافی (مونوگرافی مطبوعاتی SPIE جلد. PM149): ابزار دقیق، نیمه هادی ها
در صورت تبدیل فایل کتاب EUV Sources for Lithography (SPIE Press Monograph Vol. PM149) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب منابع EUV برای لیتوگرافی (مونوگرافی مطبوعاتی SPIE جلد. PM149) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب منابع EUV برای لیتوگرافی (مونوگرافی مطبوعاتی SPIE جلد. PM149)
این جلد جامع که توسط یکی از اعضای ارشد فنی در SEMATECH ویرایش شده است، کتاب مرجع معتبر در زمینه فناوری منبع EUV است. این جلد شامل 38 فصل است که توسط محققان و تامین کنندگان پیشرو در زمینه منبع EUV ارائه شده است. موضوعات از یک نمای کلی پیشرفته و توضیح عمیق در مورد نیازهای منبع EUV گرفته تا داده های اتمی اساسی و مدل های نظری منابع EUV بر اساس پلاسمای تولید شده با تخلیه (DPPs) و پلاسمای تولید شده با لیزر (LPPs)، به شرح طرح‌های برجسته DPP و LPP و سایر فناوری‌ها برای تولید تشعشعات EUV. موضوعات اضافی شامل مترولوژی و اجزای منبع EUV (کلکتورها، الکترودها)، کاهش زباله، و مکانیسم‌های فرسایش اجزا در منابع EUV است. این جلد برای پاسخگویی به نیازهای دست اندرکاران این فناوری و خوانندگانی که به دنبال معرفی موضوع هستند در نظر گرفته شده است. مطالب - مقدمه - مقدمه - فهرست مشارکت کنندگان - فهرست اختصارات - مقدمه و بررسی فناوری - مبانی و مدلسازی - منابع پینچ پلاسما - منابع پلاسمای تولید شده با لیزر (LPP) - اندازه شناسی منبع EUV - انواع دیگر منابع EUV - اجزای منبع EUV - فهرست مطالب
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
This comprehensive volume, edited by a senior technical staff member at SEMATECH, is the authoritative reference book on EUV source technology. The volume contains 38 chapters contributed by leading researchers and suppliers in the EUV source field. Topics range from a state-of-the-art overview and in-depth explanation of EUV source requirements, to fundamental atomic data and theoretical models of EUV sources based on discharge-produced plasmas (DPPs) and laser-produced plasmas (LPPs), to a description of prominent DPP and LPP designs and other technologies for producing EUV radiation. Additional topics include EUV source metrology and components (collectors, electrodes), debris mitigation, and mechanisms of component erosion in EUV sources. The volume is intended to meet the needs of both practitioners of the technology and readers seeking an introduction to the subject. Contents - Preface - Introduction - List of Contributors - List of Abbreviations - Introduction and Technology Review - Fundamentals and Modeling - Plasma Pinch Sources - Laser-Produced Plasma (LPP) Sources - EUV Source Metrology - Other Types of EUV Sources - EUV Source Components - Index
نظرات کاربران
کتاب های مرتبط
دانلود کتاب Introduction to Electron Holography
دانلود کتاب OFDM for Wireless Multimedia Communications
دانلود کتاب Noise and Vibration Analysis: Signal Analysis and Experimental Procedures
دانلود کتاب Optoelectronics - Materials and Techniques
دانلود کتاب Semiconductor optoelectronic devices: introduction to physics and simulation
دانلود کتاب Handbook of Rf, Microwave, and Millimeter-wave Components.
دانلود کتاب Risley-Prism Based Compact Laser Beam Steering for IRCM, Laser Communications, and Laser Radar
دانلود کتاب Електроніка і мікросхемотехніка. Підручник
