Design for Manufacturability with Advanced Lithography

این کتاب خوانندگان را با پیشرفته ترین نتایج تحقیقاتی در مورد طراحی برای تولید (DFM) با لیتوگرافی الگوی چندگانه (MPL) و لیتوگرافی پرتو الکترونی (EBL) آشنا می کند. نویسندگان مجموعه‌ای از الگوریتم‌ها/روش‌شناسی‌ها را برای حل مسائل در طراحی مدرن برای مشکلات ساخت با لیتوگرافی پیشرفته شرح می‌دهند. برخلاف کتاب‌هایی که DFM را از سطح محصول یا سطح تولید فیزیکی مورد بحث قرار می‌دهند، این کتاب راه‌حل‌های DFM را از سطح طراحی مدار توصیف می‌کند، به طوری که بیشتر مسائل مهم را می‌توان از طریق الگوریتم‌های ترکیبی فرموله و حل کرد.

This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufacturability problems with advanced lithography. Unlike books that discuss DFM from the product level or physical manufacturing level, this book describes DFM solutions from a circuit design level, such that most of the critical problems can be formulated and solved through combinatorial algorithms.