دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1 نویسندگان: James B. Kuo, Ker-Wei Su (auth.) سری: ISBN (شابک) : 9781441950574, 9781475728231 ناشر: Springer US سال نشر: 1998 تعداد صفحات: 454 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 13 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب مهندسی CMOS VLSI: عایق سیلیکون (SOI): مدارها و سیستم ها، مهندسی برق
در صورت تبدیل فایل کتاب CMOS VLSI Engineering: Silicon-on-Insulator (SOI) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب مهندسی CMOS VLSI: عایق سیلیکون (SOI) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
فناوری CMOS سیلیکون روی عایق (SOI) علاوه بر فناوری CMOS
انبوه، به عنوان یکی دیگر از فناوریهای اصلی VLSI در نظر گرفته
شده است. با توجه به ساختار اکسید مدفون، فناوری SOI دستگاههای
CMOS برتر را با سرعت بالاتر، چگالی بالا و اثرات مرتبه دوم
کاهشیافته برای برنامههای کاربردی مدارهای VLSI ولتاژ پایین و
کم مصرف زیر میکرون عمیق ارائه میکند. علاوه بر کاربردهای VLSI
و به دلیل خواص برجسته آن، فناوری SOI برای تحقق مدارهای
ارتباطی، دستگاه های مایکروویو، دستگاه های BICMOS و حتی
کاربردهای فیبر نوری استفاده شده است.
مهندسی CMOS VLSI: Silicon-On-Insulator به سه عامل
کلیدی در مهندسی SOI CMOS VLSI میپردازد - فناوری پردازش،
مدلسازی دستگاه و طرحهای مدار همگی با تعاملات متقابل خود
پوشش داده میشوند. با شروع از فناوری پردازش SOI CMOS و
مدارهای دیجیتال و آنالوگ SOI CMOS، رفتارهای دستگاههای SOI
CMOS ارائه میشوند، به دنبال آن یک برنامه CAD، ST-SPICE، که
مدلهایی را برای SOI CMOS کاملاً تهی شده از mesa ایزوله شده
با عمق زیر میکرون ترکیب میکند. دستگاه ها و دستگاه های SOI با
هدف ویژه از جمله TFT های پلی سیلیکونی.
مهندسی CMOS VLSI: Silicon-On-Insulator برای
دانشجویان ارشد در مقطع کارشناسی و دانشجویان سال اول کارشناسی
ارشد علاقهمند به CMOS VLSI نوشته شده است. همچنین برای
متخصصان مهندسی برق علاقه مند به میکروالکترونیک مناسب خواهد
بود.
Silicon-On-Insulator (SOI) CMOS technology has been regarded
as another major technology for VLSI in addition to bulk CMOS
technology. Owing to the buried oxide structure, SOI
technology offers superior CMOS devices with higher speed,
high density, and reduced second order effects for
deep-submicron low-voltage, low-power VLSI circuits
applications. In addition to VLSI applications, and because
of its outstanding properties, SOI technology has been used
to realize communication circuits, microwave devices, BICMOS
devices, and even fiber optics applications.
CMOS VLSI Engineering: Silicon-On-Insulator
addresses three key factors in engineering SOI CMOS VLSI -
processing technology, device modelling, and circuit designs
are all covered with their mutual interactions. Starting from
the SOI CMOS processing technology and the SOI CMOS digital
and analog circuits, behaviors of the SOI CMOS devices are
presented, followed by a CAD program, ST-SPICE, which
incorporates models for deep-submicron fully-depleted
mesa-isolated SOI CMOS devices and special purpose SOI
devices including polysilicon TFTs.
CMOS VLSI Engineering: Silicon-On-Insulator is
written for undergraduate senior students and first-year
graduate students interested in CMOS VLSI. It will also be
suitable for electrical engineering professionals interested
in microelectronics.
Front Matter....Pages N1-xxxv
Introduction....Pages 1-14
SOI CMOS Technology....Pages 15-70
SOI CMOS Circuits....Pages 71-120
SOI CMOS Devices—Basic....Pages 121-206
SOI CMOS Devices—Advanced....Pages 207-306
SOI-Technology ST-SPICE....Pages 307-344
Special-Purpose SOI....Pages 345-414
Back Matter....Pages 415-422