Chemical Solution Deposition of Functional Oxide Thin Films

این اولین متنی است که تمام جنبه‌های لایه‌های نازک اکسید عملکردی پردازش شده با محلول را پوشش می‌دهد. رسوب محلول شیمیایی (CSD) شامل تمام تکنیک های رسوب لایه نازک مبتنی بر محلول است که شامل واکنش های شیمیایی پیش سازها در طول تشکیل فیلم های اکسید می شود. ه. مسیرهای نوع سل-ژل، مسیرهای تجزیه فلز-آلی، مسیرهای ترکیبی، و غیره. در حالی که توسعه فرآیندهای نوع سل-ژل برای پوشش های نوری روی شیشه توسط دی اکسید سیلیکون و دی اکسید تیتانیوم به اواسط قرن بیستم بازمی گردد، اولین CSD الکترونیکی مشتق شده است. لایه‌های نازک اکسیدی، مانند سرب زیرکونات تیتانات، در دهه 1980 تهیه شد. از آن زمان به بعد CSD به عنوان یک تکنیک بسیار انعطاف پذیر و مقرون به صرفه برای ساخت طیف گسترده ای از لایه های نازک اکسید عملکردی پدیدار شد. حوزه‌های کاربردی شامل خازن‌های دی الکتریک یکپارچه، حافظه‌های دسترسی تصادفی فروالکتریک، آشکارسازهای پیرو الکتریک فروسرخ، سیستم‌های میکرو الکترومکانیکی پیزوالکتریک، پوشش‌های ضد انعکاس، فیلترهای نوری، لایه‌های رسانا، رسانای شفاف و ابررسانا، حسگرهای گازی درخشنده سلول های سوختی اکسید جامد و سلول های خورشیدی فوتوالکتروکاتالیستی. در پیوست جزئیات "دستور العمل های آشپزی" برای سیستم های مواد انتخابی ارائه شده است.

This is the first text to cover all aspects of solution processed functional oxide thin-films. Chemical Solution Deposition (CSD) comprises all solution based thin- film deposition techniques, which involve chemical reactions of precursors during the formation of the oxide films, i. e. sol-gel type routes, metallo-organic decomposition routes, hybrid routes, etc. While the development of sol-gel type processes for optical coatings on glass by silicon dioxide and titanium dioxide dates from the mid-20th century, the first CSD derived electronic oxide thin films, such as lead zirconate titanate, were prepared in the 1980’s. Since then CSD has emerged as a highly flexible and cost-effective technique for the fabrication of a very wide variety of functional oxide thin films. Application areas include, for example, integrated dielectric capacitors, ferroelectric random access memories, pyroelectric infrared detectors, piezoelectric micro-electromechanical systems, antireflective coatings, optical filters, conducting-, transparent conducting-, and superconducting layers, luminescent coatings, gas sensors, thin film solid-oxide fuel cells, and photoelectrocatalytic solar cells. In the appendix detailed “cooking recipes” for selected material systems are offered.