Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- and Nano-Technologies

مجموعه ای به روز از مقالات آموزشی در مورد آخرین پیشرفت ها در رسوب گذاری و رشد لایه های نازک برای فناوری های میکرو و نانو. تأکید بر جنبه‌های اساسی، اصول و کاربردهای تکنیک‌های رسوب‌گذاری مورد استفاده برای ساخت دستگاه‌های میکرو و نانو است. رسوب لایه های نازک با تاکید بر فاز گاز و شیمی سطح و اثرات آن بر سرعت رشد و خواص فیلم ها توضیح داده شده است. پدیده‌های فاز گاز، شیمی سطح، مکانیسم‌های رشد و مدل‌سازی فرآیندهای رسوب‌گذاری به طور کامل توصیف و مورد بحث قرار می‌گیرند تا درک روشنی از رشد لایه‌های نازک و ریزساختارها از طریق فعال‌شده حرارتی، القای لیزر، به کمک فوتون، کمک پرتو یونی و پلاسما ارائه شود. فرآیندهای رسوب بخار پیشرفته.

راهنمای برای مهندسان و دانشمندان و مقدمه ای برای دانشجویان میکروالکترونیک.

An up-to-date collection of tutorial papers on the latest advances in the deposition and growth of thin films for micro and nano technologies. The emphasis is on fundamental aspects, principles and applications of deposition techniques used for the fabrication of micro and nano devices. The deposition of thin films is described, emphasising the gas phase and surface chemistry and its effects on the growth rates and properties of films. Gas-phase phenomena, surface chemistry, growth mechanisms and the modelling of deposition processes are thoroughly described and discussed to provide a clear understanding of the growth of thin films and microstructures via thermally activated, laser induced, photon assisted, ion beam assisted, and plasma enhanced vapour deposition processes.

A handbook for engineers and scientists and an introduction for students of microelectronics.