دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Chemical Mechanical Polishing in Silicon Processing
دانلود کتاب پرداخت مکانیکی شیمیایی در پردازش سیلیکون
مشخصات کتاب
Chemical Mechanical Polishing in Silicon Processing
ویرایش:
نویسندگان: R.K. Willardson and Eicke R. Weber (Eds.)
سری: Semiconductors and Semimetals 63
ISBN (شابک) : 0127521720, 9780127521725
ناشر: Academic Press
سال نشر: 1999
تعداد صفحات: 325
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 14 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 41,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Chemical Mechanical Polishing in Silicon Processing به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب پرداخت مکانیکی شیمیایی در پردازش سیلیکون نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب پرداخت مکانیکی شیمیایی در پردازش سیلیکون
از زمان آغاز به کار آن در سال 1966، مجموعه ای از مجلدات شماره گذاری شده به نام نیمه هادی ها و نیمه فلزات از طریق انتخاب دقیق نویسندگان، ویراستاران و مشارکت کنندگان مشهور خود را متمایز کرده است. مجموعه Willardson and Beer، همانطور که به طور گسترده شناخته شده است، موفق به تولید جلدها و فصل های شاخص متعددی شده است. بسیاری از این مجلدات نه تنها در زمان انتشار تأثیر گذاشتند، بلکه سال‌ها پس از انتشار اصلی‌شان همچنان مورد استناد قرار می‌گیرند. اخیراً، پروفسور Eicke R. Weber از دانشگاه کالیفرنیا در برکلی به عنوان یکی از سردبیران این مجموعه پیوست. پروفسور وبر، متخصص مشهور در زمینه مواد نیمه هادی، بیشتر به ادامه سنت مجموعه در انتشار به موقع، بسیار مرتبط و طولانی مدت کمک خواهد کرد. برخی از مجلدات اخیر، مانند هیدروژن در نیمه هادی ها، عیوب در مواد III/V، ریزساختارهای هم محور، دستگاه های ناهمسان ساختاری با سرعت بالا، اکسیژن در سیلیکون، و دیگران نوید می دهند که این سنت حفظ و حتی گسترش خواهد یافت. بازتاب ماهیت بین رشته ای واقعا از حوزه ای که این مجموعه پوشش می دهد، حجم های نیمه هادی ها و نیمه فلزات مورد توجه فیزیکدانان، شیمیدانان، دانشمندان مواد و مهندسان دستگاه در صنعت مدرن بوده و خواهد بود.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
Since its inception in 1966, the series of numbered volumes known as Semiconductors and Semimetals has distinguished itself through the careful selection of well-known authors, editors, and contributors. The Willardson and Beer series, as it is widely known, has succeeded in producing numerous landmark volumes and chapters. Not only did many of these volumes make an impact at the time of their publication, but they continue to be well-cited years after their original release. Recently, Professor Eicke R. Weber of the University of California at Berkeley joined as a co-editor of the series. Professor Weber, a well-known expert in the field of semiconductor materials, will further contribute to continuing the series' tradition of publishing timely, highly relevant, and long-impacting volumes. Some of the recent volumes, such as Hydrogen in Semiconductors, Imperfections in III/V Materials, Epitaxial Microstructures, High-Speed Heterostructure Devices, Oxygen in Silicon, and others promise that this tradition will be maintained and even expanded.Reflecting the truly interdisciplinary nature of the field that the series covers, the volumes in Semiconductors and Semimetals have been and will continue to be of great interest to physicists, chemists, materials scientists, and device engineers in modern industry.
فهرست مطالب
Content:
Edited by
Pages ii-iii
Copyright page
Page iv
Preface
Pages xi-xiii
Shin Hwa Li, Robert O. Miller
List of Contributors
Page xv
Chapter 1 Introduction Original Research Article
Pages 1-4
Frank B. Kaufman
Chapter 2 Equipment Original Research Article
Pages 5-45
Thomas Bibby, Karey Holland
Chapter 3 Facilitization Original Research Article
Pages 47-87
John P. Bare
Chapter 4 Modeling and Simulation Original Research Article
Pages 89-137
Duane S. Boning, Okumu Ouma
Chapter 5 Consumables I: Slurry Original Research Article
Pages 139-153
Shin Hwa Li, Bruce Tredinnick, Mel Hoffman
Chapter 6 CMP Consumables II: Pad Original Research Article
Pages 155-181
Lee M. Cook
Chapter 7 Post-CMP Clean Original Research Article
Pages 183-214
François Tardif
Chapter 8 CMP Metrology Original Research Article
Pages 215-244
Shin Hwa Li, Tara Chhatpar, Frederic Robert
Chapter 9 Applications and CMP-Related Process Problems Original Research Article
Pages 245-281
Shin Hwa Li, Visun Bucha, Kyle Wooldridge
Index
Pages 283-287
Contents of Volumes in this Series
Pages 289-307
