دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1 نویسندگان: David G. Seiler, Alain C. Diebold, Thomas J. Shaffner, Robert McDonald, W. Murray Bullis, Patrick J. Smith, Erik M. Secula سری: ISBN (شابک) : 156396967X, 9781563969676 ناشر: American Inst. of Physics سال نشر: 2001 تعداد صفحات: 205 زبان: English فرمت فایل : DJVU (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 6 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Characterization and Metrology for ULSI Technology 2000: International Conference (AIP Conference Proceedings) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب خصوصیات و اندازه شناسی برای فناوری ULSI 2000: کنفرانس بین المللی (مجموعه مقالات کنفرانس AIP) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
جامعه جهانی نیمه هادی ها با حرکت به سمت تولید تراشه هایی با اندازه ویژگی های نزدیک به 100 نانومتر با چالش های فزاینده ای دشوار روبرو می شود. برخی از چالشها مربوط به مواد هستند، مانند ترانزیستورهایی با دیالکتریکهای k بالا و اتصالات روی تراشه ساخته شده از مس و دیالکتریکهای با k پایین. بزرگی این چالش ها توجه ویژه ای را از سوی کسانی که در جامعه اندازه شناسی و اندازه گیری های تحلیلی هستند می طلبد. خصوصیات و اندازه شناسی توانمندسازهای کلیدی برای توسعه فناوری فرآیند نیمه هادی و در بهبود تولید هستند. این کتاب مسائل اصلی را خلاصه می کند و بررسی انتقادی تکنیک های اندازه گیری مهمی را ارائه می دهد که برای ادامه پیشرفت در فناوری نیمه هادی ها حیاتی هستند. این بخش جنبههای اصلی فناوری فرآیند و بیشتر تکنیکهای مشخصسازی برای تحقیقات سیلیکون، از جمله توسعه، ساخت، و تشخیص را پوشش میدهد. تصویری مختصر و مؤثر از نیازهای مشخصسازی صنعت و برخی از مشکلاتی که باید توسط صنعت، دانشگاه و دانشگاه مورد توجه قرار گیرند، ارائه میکند. دولت به پیشرفت چشمگیر در فناوری نیمه هادی ادامه دهد. همچنین زمینه ای برای تحریک دیدگاه های عملی و ایده های جدید برای تحقیق و توسعه فراهم می کند.
The worldwide semiconductor community faces increasingly difficult challenges as it moves into the manufacturing of chips with feature sizes approaching 100 nm. Some of the challenges are materials-related, such as transistors with high-k dielectrics and on-chip interconnects made from copper and low-k dielectrics. The magnitude of these challenges demands special attention from those in the metrology and analytical measurements community. Characterization and metrology are key enablers for developing semiconductor process technology and in improving manufacturing.This book summarizes major issues and gives critical reviews of important measurement techniques that are crucial to continue the advances in semiconductor technology. It covers major aspects of the process technology and most characterization techniques for silicon research, including development, manufacturing, and diagnostics.It provides a concise and effective portrayal of industry characterization needs and some of the problems that must be addressed by industry, academia, and government to continue the dramatic progress in semiconductor technology. It also provides a basis for stimulating practical perspectives and new ideas for research and development.