برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید

09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applicatons

دانلود کتاب رسوب لایه اتمی: اصول، ویژگی ها و کاربردهای نانوتکنولوژی

مشخصات کتاب

Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applicatons

دسته بندی: فناوری نانو
ویرایش:  
نویسندگان: Kääriäinen T.,  Cameron D.,  Kääriäinen M.-L.,  Sherman A.  
سری:  
 
ناشر:  
سال نشر:  
تعداد صفحات: 265 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 3 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 36,000

میانگین امتیاز به این کتاب :
تعداد امتیاز دهندگان : 18

در صورت تبدیل فایل کتاب Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applicatons به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب رسوب لایه اتمی: اصول، ویژگی ها و کاربردهای نانوتکنولوژی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.

توضیحاتی در مورد کتاب رسوب لایه اتمی: اصول، ویژگی ها و کاربردهای نانوتکنولوژی

ویرایش 2. — Wiley, 2013. — 265 p.

از زمانی که اولین نسخه در سال 2008 منتشر شد، رسوب لایه اتمی (ALD) به عنوان یک لایه قدرتمند و گاهی ترجیح داده شده است. تکنولوژی رسوب گذاری ویرایش جدید این تک نگاری پیشگامانه اولین متنی است که موضوع ALD را به طور جامع از منظر عملی بررسی می کند. این برنامه کاربرد ALD در میکروالکترونیک (MEMS) و نانوتکنولوژی را پوشش می دهد. بسیاری از برنامه های کاربردی مهم جدید و در حال ظهور؛ فرآیندهای حرارتی برای رشد ALD لایه های ضخیم نانومتری از نیمه هادی ها، اکسیدها، فلزات و نیتریدها. و تشکیل مواد آلی و هیبرید.

توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

2nd Edition. — Wiley, 2013. — 265 p.

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.