Atomic Layer Deposition for Semiconductors

این جلد ویرایش شده رسوب لایه اتمی (ALD) را برای همه دستگاه های نیمه هادی مدرن مورد بحث قرار می دهد، از شیمی پایه ALD و مدل سازی فرآیندهای ALD به بخش هایی در ALD برای حافظه ها، دستگاه های منطقی و ماشین ها حرکت می کند. بخش ALD برای حافظه ها هم حافظه های تولید انبوه مانند DRAM و Flash و هم حافظه های در حال ظهور مانند PCRAM و FeRAM را پوشش می دهد. بخش مربوط به ALD برای دستگاه‌های منطقی، هم فرآیندهای جلویی خط و هم فرآیندهای انتهایی خط را پوشش می‌دهد. بخش آخر در مورد ALD برای ماشین ها به مجموعه ابزارها و سخت افزار سیستم ها می پردازد. هر فصل تاریخچه، اصول عملیاتی و توضیح کامل فرآیندهای ALD را برای هر دستگاه ارائه می دهد.

This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines. The section on ALD for memories covers both mass-produced memories, such as DRAM and Flash, and emerging memories, such as PCRAM and FeRAM. The section on ALD for logic devices covers both front-end of the line processes and back-end of the line processes. The final section on ALD for machines looks at toolsets and systems hardware. Each chapter provides the history, operating principles, and a full explanation of ALD processes for each device.