ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب VLSI Technology: Fundamentals and Applications

دانلود کتاب فناوری VLSI: مبانی و کاربردها

VLSI Technology: Fundamentals and Applications

مشخصات کتاب

VLSI Technology: Fundamentals and Applications

ویرایش: 1 
نویسندگان: ,   
سری: Springer Series in Electrophysics 12 
ISBN (شابک) : 9783642691942, 9783642691928 
ناشر: Springer-Verlag Berlin Heidelberg 
سال نشر: 1986 
تعداد صفحات: 463 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 14 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 41,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب فناوری VLSI: مبانی و کاربردها: الکترونیک و میکروالکترونیک، ابزار دقیق، سیستم‌های مبتنی بر هدف خاص و کاربرد



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 7


در صورت تبدیل فایل کتاب VLSI Technology: Fundamentals and Applications به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب فناوری VLSI: مبانی و کاربردها نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب فناوری VLSI: مبانی و کاربردها

منشأ توسعه مدارهای مجتمع تا VLSI در اختراع ترانزیستور یافت می شود که امکان دستیابی به عمل یک لوله خلاء در یک جامد نیمه رسانا را فراهم کرد. ساختار سیستور ترانزیستور را می توان با یک تکنیک ساخت مانند وارد کردن مقدار کمی از ناخالصی به یک نیمه هادی ساخت و علاوه بر این، اکثر ویژگی های ترانزیستور را می توان با کاهش ابعاد بهبود بخشید. اینها همه عوامل مهم در توسعه هستند. در واقع می توان از ریزساخت مدار مجتمع برای دو منظور استفاده کرد، یعنی افزایش چگالی ادغام و به دست آوردن عملکرد بهبود یافته، مانند. g یک سرعت بالا هنگامی که یکی از این دو هدف دنبال می شود، نتیجه به طور کلی هر دو را برآورده می کند. ما از ترجمه انگلیسی "ادغام در مقیاس بسیار بزرگ (VLSIl" برای "Cho LSI" در ژاپنی استفاده می کنیم. با این حال، در ایالات متحده آمریکا، فناوری مشابهی تحت عنوان "مدارهای مجتمع با سرعت بسیار بالا (VHSIl") توسعه یافته است. این نیز از ماهیت مدار مجتمع نشات گرفته است که هر دو هدف را برآورده می کند. خوشبختانه کلمه ژاپنی "Cho LSI" معنای گسترده تری نسبت به VLSI دارد، بنابراین می توان آن را در منطقه وسیع تری استفاده کرد. با این حال، VLSI اثر صنعتی بزرگ تری دارد. نسبت به VHSI


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

The origin of the development of integrated circuits up to VLSI is found in the invention of the transistor, which made it possible to achieve the ac­ tion of a vacuum tube in a semiconducting solid. The structure of the tran­ sistor can be constructed by a manufacturing technique such as the intro­ duction of a small amount of an impurity into a semiconductor and, in ad­ dition, most transistor characteristics can be improved by a reduction of dimensions. These are all important factors in the development. Actually, the microfabrication of the integrated circuit can be used for two purposes, namely to increase the integration density and to obtain an improved perfor­ mance, e. g. a high speed. When one of these two aims is pursued, the result generally satisfies both. We use the Engl ish translation "very large scale integration (VLSIl" for "Cho LSI" in Japanese. In the United States of America, however, similar technology is bei ng developed under the name "very hi gh speed integrated circuits (VHSIl". This also originated from the nature of the integrated circuit which satisfies both purposes. Fortunately, the Japanese word "Cho LSI" has a wider meani ng than VLSI, so it can be used ina broader area. However, VLSI has a larger industrial effect than VHSI.



فهرست مطالب

Front Matter....Pages I-XIV
Introduction....Pages 1-7
Electron Beam Lithography....Pages 8-120
Pattern Replication Technology....Pages 121-171
Mask Inspection Technology....Pages 172-192
Crystal Technology....Pages 193-270
Process Technology....Pages 271-325
Fundamentals of Test and Evaluation....Pages 326-349
Basic Device Technology....Pages 350-426
Back Matter....Pages 427-450




نظرات کاربران