ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Ultra-Fast Silicon Bipolar Technology

دانلود کتاب فناوری دو قطبی سیلیکون فوق العاده سریع

Ultra-Fast Silicon Bipolar Technology

مشخصات کتاب

Ultra-Fast Silicon Bipolar Technology

ویرایش: 1 
نویسندگان: , , ,   
سری: Springer Series in Electronics and Photonics 27 
ISBN (شابک) : 9783642743627, 9783642743603 
ناشر: Springer-Verlag Berlin Heidelberg 
سال نشر: 1988 
تعداد صفحات: 170 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 7 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 36,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 16


در صورت تبدیل فایل کتاب Ultra-Fast Silicon Bipolar Technology به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب فناوری دو قطبی سیلیکون فوق العاده سریع نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب فناوری دو قطبی سیلیکون فوق العاده سریع



از زمانی که اولین ترانزیستور دوقطبی در سال 1947 مورد بررسی قرار گرفت، تلاش‌های زیادی برای دستگاه‌های نیمه‌رسانا انجام شده است. رقابت قوی جهانی در ساخت اثر میدانی فلز-اکسید-نیمه هادی حافظه های توسعه ترانزیستور (MOSFET) سرعت در فناوری نیمه هادی ها را تسریع کرده است. ترانزیستورهای دوقطبی به دلیل عملکرد با سرعت بالا نقش اصلی را ایفا می کنند. زمان تأخیر حدود 20 ثانیه در هر دروازه قبلاً به دست آمده است. به دلیل این پیشرفت سریع فناوری، پیش بینی آینده با قطعیت دشوار است. در سال 1987 یک جلسه ویژه در مورد ترانزیستورهای دوقطبی فوق سریع در کنفرانس تحقیقاتی دستگاه های حالت جامد اروپا برگزار شد. هدف آن جمع بندی آخرین تحولات و بحث در مورد آینده ترانزیستورهای خورشیدی دوطرفه بود. این کتاب بر اساس آن جلسه است، اما شامل مشارکت های دیگر شرکت کنندگان نیز می شود، به طوری که طیف گسترده ای از مطالب به روز ارائه می شود. از اطلاعات تاریخی این اطلاعات می توان چندین نتیجه گرفت: اولین و مهمترین آنها پتانسیل بسیار زیادی برای پیشرفت آینده است که هنوز در این زمینه وجود دارد. این پیشرفت با حرکت به سمت سرعت بالاتر و مصرف توان کمتر مورد نیاز برای سیستم‌های تک تراشه پیچیده، و همچنین با چندین پیاده‌سازی تکنولوژیکی بتن برای تحقق این موارد مشخص می‌شود که بخش بزرگی از این پتانسیل می‌تواند باشد. نتیجه‌گیری دوم با تکنیک‌ها و پیکربندی‌های نسبتاً پیچیده به‌خوبی برای انتقال بدون عارضه به ساخت مناسب است.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Since the first bipolar transistor was investigated in 1947, enormous efforts have been devoted to semiconductor devices. The strong world­ wide competition in fabricating metal-oxide-semiconductor field-effect of develop­ transistor (MOSFET) memories has accelerated the pace ments in semiconductor technology. Bipolar transistors play a major role due to their high-speed performance. Delay times of about 20 ps per gate have already been achieved. Because of this rapid technologi­ cal progress, it is difficult to predict the future with any certainty. In 1987 a special session on ultrafast bipolar transistors was held at the European Solid-State Device Research Conference. Its aim was to sum­ marize the most recent developments and to discuss the future of bip­ olar transistors. This book is based on that session but also includes contributions by other participants, such that a broad range of up-to­ is presented. Several conclusions can be drawn from date information this information: the first and most important is the very large poten­ tial for future progress still existing in this field. This progress is char­ acterized by the drive towards higher speed and lower power con­ sumption required for complex single-chip systems, as well as by sev­ eral concrete technological implementations for fulfilling these dem­ is that a large part of this potential can be ands. The second conclusion realized by rather unsophisticated techniques and configurations well suited to uncomplicated transfer to fabrication.



فهرست مطالب

Front Matter....Pages I-IX
History, Present Trends, and Scaling of Silicon Bipolar Technology....Pages 1-27
Self-Aligning Technology for Sub-100nm Deep Base Junction Transistors....Pages 29-42
Vertical Scaling Considerations for Polysilicon-Emitter Bipolar Transistors....Pages 43-59
Trench Isolation Schemes for Bipolar Devices: Benefits and Limiting Aspects....Pages 61-77
A Salicide Base Contact Technology (SCOT) for Use in High Speed Bipolar VLSI....Pages 79-94
Advanced Self-Alignment Technologies and Resulting Structures of High-Speed Bipolar transistors....Pages 95-110
Trends in Heterojunction Silicon Bipolar Transistors....Pages 111-133
Molecular Beam Epitaxy of Silicon-Based Bipolar Structures....Pages 135-163
Back Matter....Pages 165-167




نظرات کاربران