دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1 نویسندگان: L. Treitinger, M. Miura-Mattausch (auth.), Dr Ludwig Treitinger, Dr Mitiko Miura-Mattausch (eds.) سری: Springer Series in Electronics and Photonics 27 ISBN (شابک) : 9783642743627, 9783642743603 ناشر: Springer-Verlag Berlin Heidelberg سال نشر: 1988 تعداد صفحات: 170 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 7 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Ultra-Fast Silicon Bipolar Technology به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب فناوری دو قطبی سیلیکون فوق العاده سریع نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
از زمانی که اولین ترانزیستور دوقطبی در سال 1947 مورد بررسی قرار گرفت، تلاشهای زیادی برای دستگاههای نیمهرسانا انجام شده است. رقابت قوی جهانی در ساخت اثر میدانی فلز-اکسید-نیمه هادی حافظه های توسعه ترانزیستور (MOSFET) سرعت در فناوری نیمه هادی ها را تسریع کرده است. ترانزیستورهای دوقطبی به دلیل عملکرد با سرعت بالا نقش اصلی را ایفا می کنند. زمان تأخیر حدود 20 ثانیه در هر دروازه قبلاً به دست آمده است. به دلیل این پیشرفت سریع فناوری، پیش بینی آینده با قطعیت دشوار است. در سال 1987 یک جلسه ویژه در مورد ترانزیستورهای دوقطبی فوق سریع در کنفرانس تحقیقاتی دستگاه های حالت جامد اروپا برگزار شد. هدف آن جمع بندی آخرین تحولات و بحث در مورد آینده ترانزیستورهای خورشیدی دوطرفه بود. این کتاب بر اساس آن جلسه است، اما شامل مشارکت های دیگر شرکت کنندگان نیز می شود، به طوری که طیف گسترده ای از مطالب به روز ارائه می شود. از اطلاعات تاریخی این اطلاعات می توان چندین نتیجه گرفت: اولین و مهمترین آنها پتانسیل بسیار زیادی برای پیشرفت آینده است که هنوز در این زمینه وجود دارد. این پیشرفت با حرکت به سمت سرعت بالاتر و مصرف توان کمتر مورد نیاز برای سیستمهای تک تراشه پیچیده، و همچنین با چندین پیادهسازی تکنولوژیکی بتن برای تحقق این موارد مشخص میشود که بخش بزرگی از این پتانسیل میتواند باشد. نتیجهگیری دوم با تکنیکها و پیکربندیهای نسبتاً پیچیده بهخوبی برای انتقال بدون عارضه به ساخت مناسب است.
Since the first bipolar transistor was investigated in 1947, enormous efforts have been devoted to semiconductor devices. The strong world wide competition in fabricating metal-oxide-semiconductor field-effect of develop transistor (MOSFET) memories has accelerated the pace ments in semiconductor technology. Bipolar transistors play a major role due to their high-speed performance. Delay times of about 20 ps per gate have already been achieved. Because of this rapid technologi cal progress, it is difficult to predict the future with any certainty. In 1987 a special session on ultrafast bipolar transistors was held at the European Solid-State Device Research Conference. Its aim was to sum marize the most recent developments and to discuss the future of bip olar transistors. This book is based on that session but also includes contributions by other participants, such that a broad range of up-to is presented. Several conclusions can be drawn from date information this information: the first and most important is the very large poten tial for future progress still existing in this field. This progress is char acterized by the drive towards higher speed and lower power con sumption required for complex single-chip systems, as well as by sev eral concrete technological implementations for fulfilling these dem is that a large part of this potential can be ands. The second conclusion realized by rather unsophisticated techniques and configurations well suited to uncomplicated transfer to fabrication.
Front Matter....Pages I-IX
History, Present Trends, and Scaling of Silicon Bipolar Technology....Pages 1-27
Self-Aligning Technology for Sub-100nm Deep Base Junction Transistors....Pages 29-42
Vertical Scaling Considerations for Polysilicon-Emitter Bipolar Transistors....Pages 43-59
Trench Isolation Schemes for Bipolar Devices: Benefits and Limiting Aspects....Pages 61-77
A Salicide Base Contact Technology (SCOT) for Use in High Speed Bipolar VLSI....Pages 79-94
Advanced Self-Alignment Technologies and Resulting Structures of High-Speed Bipolar transistors....Pages 95-110
Trends in Heterojunction Silicon Bipolar Transistors....Pages 111-133
Molecular Beam Epitaxy of Silicon-Based Bipolar Structures....Pages 135-163
Back Matter....Pages 165-167