دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1
نویسندگان: Satischandra B. Ogale (auth.)
سری: Multifunctional Thin Film Series
ISBN (شابک) : 9780387258027, 9780387260891
ناشر: Springer US
سال نشر: 2005
تعداد صفحات: 362
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 40 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب لایه های نازک و ناهمساختارها برای الکترونیک اکسید: سطوح و رابط ها، لایه های نازک، مواد نوری و الکترونیکی، مواد متراکم، فیزیک حالت جامد و طیف سنجی، الکترونیک و میکروالکترونیک، ابزار دقیق
در صورت تبدیل فایل کتاب Thin Films and Heterostructures for Oxide Electronics به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب لایه های نازک و ناهمساختارها برای الکترونیک اکسید نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
با کوچک شدن روزافزون ابعاد و سرعتهای روزافزون دستگاههای میکرو و الکترونیک نوری مبتنی بر نیمههادیهای معمولی، محدودیتهای علمی برای همگام شدن با نیازهای دستگاههای جدیدتر توسط بخش فناوری احساس میشود. دوران مدرن. رویکردهای جدید شامل مواد جدیدی مانند اکسیدهای عملکردی برای مقابله با این مشکل در حال بررسی هستند. این تحقیقات در حال حاضر شروع به هموار کردن راه برای مفاهیم و پیکربندیهای دستگاه نسل بعدی برای الکترونیک اکسید پیشرفته، شامل مگنتواپتیک و اسپینترونیک است.
Thin Film Heterostructures for Oxide Electronic فصل های جامعی را ارائه می دهد که توسط محققین فعال در زمینه فیلم های اکسیدی و ناهم ساختار نوشته شده است. این فصل ها هیجان این مرز نوظهور با علاقه علمی و فناوری بسیار زیاد را به تصویر می کشد. آنها مواد، فیزیک، دستگاه و حتی مسائل کلیدی ساخت را برجسته می کنند. بسیاری از سیستمهای مواد جالب مانند اکسیدهای مغناطیسی، فروالکتریک و ابررسانا، اکسیدهای نیمهرسانای باند پهن و اکسیدهای دیالکتریک با k بالا مورد بحث قرار گرفتهاند. با ارجاعات فراوان به منابع گسترده ادبیات اخیراً منتشر شده در این زمینه، این کتاب قصد دارد به عنوان منبع مهم و روشنگری از اطلاعات ارزشمند مربوط به بحث های علمی جاری، وضعیت فعلی درک و جهت گیری های آینده باشد. به این ترتیب، باید برای دانشجویان دانشگاه، فوق دکترا، اساتید و دانشمندان پژوهشی در صنایع و آزمایشگاههای ملی بسیار مفید باشد.
With the ever-shrinking dimensions and ever-increasing speeds of conventional semiconductor-based micro and opto-electronic devices, scientific limitations are beginning to be felt by the technology sector in keeping pace with the newer device demands of the modern times. Novel approaches involving new materials such as functional oxides are being explored to tackle this problem. This research is already beginning to pave way for the next generation device concepts and configurations for advanced oxide electronics, encompassing magneto-optics and spintronics.
Thin Film Heterostructures for Oxide Electronic presents comprehensive chapters written by active researchers in the field of oxide films and heterostructures. These chapters capture the excitement of this emerging frontier of immense scientific and technological interest. They highlight the materials, physics, device and even key fabrication issues. Many interesting material systems such as magnetic, ferroelectric and superconducting oxides, wide band-gap semiconducting oxides and high-k dielectric oxides are discussed. With many references to the vast resource of recently published literature on the subject, this book intends to serve as a significant and insightful source of valuable information pertaining to the ongoing scientific debates, current state of understanding and future directions. As such, it should be very useful to university students, post docs, professors and research scientists in industries and national laboratories.
Nanoscale Phenomena in Ferroelectric Thin Films....Pages 3-29
High- K Candidates for Use as the Gate Dielectric in Silicon Mosfets....Pages 31-78
Science and Technology of High-Dielectric Constant (K) Thin Films for Next Generation CMOS....Pages 79-126
Materials Requirements for Magnetic Random-Access Memory (MRAM) Devices....Pages 129-151
Manganite, Magnetite, and Double- Perovskite Thin Films and Heterostructures....Pages 153-192
Diluted Magnetic Oxide Systems....Pages 195-217
Epitaxial Growth and Properties of Magnetically Doped TiO 2 ....Pages 219-247
Interfaces in Materials with Correlated Electron Systems....Pages 251-278
Electronic Reconstruction at Surfaces and Interfaces of Correlated Electron Materials....Pages 279-297
Wide Band Gap ZnO and ZnMgO Heterostructures for Future Optoelectronic Devices....Pages 301-330
Combinatorial Synthesis of Functional Metal Oxide Thin Films....Pages 333-352
Real-Time Growth Monitoring by High-Pressure Rheed During Pulsed Laser Deposition....Pages 355-384
Recent Advances in the Deposition of Multi-Component Oxide Films by Pulsed Energy Deposition....Pages 385-413