دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش:
نویسندگان: John L. Vossen (Auth.)
سری:
ISBN (شابک) : 9780127282503, 0127282505
ناشر: Academic Press
سال نشر: 1978
تعداد صفحات: 553
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 8 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Thin Film Processes به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب فرآیندهای لایه نازک نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
در سالهای اخیر پیشرفتهای قابلتوجهی در علم و فناوری فرآیندهای لایه نازک برای رسوبگذاری و اچ صورت گرفته است. هدف این کتاب گردآوری مرورهای آموزشی فرآیندهای منتخب رسوب و اچ کردن فیلم از دیدگاه فرآیندی است. تأکید بر استفاده عملی از فرآیندها برای ارائه دستورالعمل های کاری برای اجرای آنها، راهنمای ادبیات و مروری بر هر فرآیند است.
Remarkable advances have been made in recent years in the science and technology of thin film processes for deposition and etching. It is the purpose of this book to bring together tutorial reviews of selected filmdeposition and etching processes from a process viewpoint. Emphasis is placed on the practical use of the processes to provide working guidelines for their implementation, a guide to the literature, and an overview of each process
Content:
Front Matter, Page iii
Copyright, Page iv
List of Contributors, Pages ix-x
Preface, Page xi
I-1 - Introduction, Pages 3-7
II-1 - Glow Discharge Sputter Deposition, Pages 11-73
II-2 - Cylindrical Magnetron Sputtering, Pages 75-113
II-3 - The Sputter and S-Gun Magnetrons, Pages 115-129
II-4 - Planar Magnetron Sputtering, Pages 131-173
II-5 - Ion Beam Deposition, Pages 175-206
III-1 - Deposition of Inorganic Films from Solution, Pages 209-256
III-2 - Chemical Vapor Deposition of Inorganic Thin Films, Pages 257-331
IV-1 - Plasma Deposition of Inorganic Thin Films, Pages 335-360
IV-2 - Glow Discharge Polymerization, Pages 361-398
V-1 - Chemical Etching, Pages 401-496
V-2 - Plasma-Assisted Etching Techniques for Pattern Delineation, Pages 497-556
Index, Pages 557-564